1.一种量子点薄膜，其特征在于，包括：
量子点材料层；
多个遮挡片，至少设置在所述量子点材料层的边缘，且垂直于量子点材料层。
2.根据权利要求1所述的量子点薄膜，其特征在于，所述遮挡片还设置在所述量子点材料层的内部。
3.根据权利要求2所述的量子点薄膜，其特征在于，多个所述遮挡片将所述量子点材料层划分为多个封闭区域。
4.根据权利要求3所述的量子点薄膜，其特征在于，每个所述封闭区域的面积相等。
5.根据权利要求4所述的量子点薄膜，其特征在于，每个所述封闭区域的形状相同。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的量子点薄膜，其特征在于，所述遮挡片的材料为反光材料。
7.根据权利要求1至5中任一项所述的量子点薄膜，其特征在于，所述遮挡片的高度等于所述量子点材料层的厚度。
8.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1至7中任一项所述的量子点薄膜。
9.一种量子点薄膜的制作方法，其特征在于，包括：
在基底上设置垂直于所述基底的多个遮挡片；
在所述基底上形成量子点材料层，其中，所述遮挡片至少设置在所述量子点材料层的边缘。
10.一种电子设备，其特征在于，包括：
处理器；
用于存储处理器可执行指令的存储器；
其中，所述电子设备还包括量子点薄膜，
所述量子点薄膜包括：
量子点材料层；
多个遮挡片，至少设置在所述量子点材料层的边缘，且垂直于量子点材料层。