本发明涉及一种LCD生产工艺，尤其涉及一种LCD生产的蚀刻工艺。
背景技术：
众所周知，物质有三态：固态、液态和气态。这三种状态可称为固相、液相和气相。在自然界中大多数的物质随着温度的变化而呈现固态、液态和气态。然而有限物质在加热时不是直接从固态变成液态，而是一种中间态，我们称之为液晶。液晶具有固定的偶极矩，所以施加电场可使液晶分子轴发生转动，于是液晶分子的排列发生改变。从而改变其光学性质来达到其显示的效果，我们利用这一特性制成了液晶显示器，然而在传统的液晶显示器制作工艺中在曝光的时候由于模板很容易接触光刻胶，使得模板上粘附有杂质，使得曝光不完全从而影响后续的刻蚀导致液晶显示器发生短路等现象。
技术实现要素：
本发明要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供一种
为解决上述技术问题，本发明提出的技术方案为：一种LCD生产的刻蚀工艺，包括以下步骤，1）备料，将14×14或者14×16的ITO玻璃的表面用清洗剂和DI水清洗干净，并且烘干；
2）涂胶，在ITO玻璃的ITO面上均匀的涂一层光刻胶；
3）前烘烤，使涂有光刻胶的ITO玻璃在80-120摄氏的的环境下烘烤30-60秒，使得涂覆在ITO玻璃上的光刻胶胶膜干燥以增强胶膜与ITO玻璃表面的粘附性和耐磨性；
4）曝光，在干燥后的胶膜的表面覆盖模板，紫外线通过模板垂直的照射在胶膜上，所述模板上设置有预设的图案；并且在模板的底部设置有一层透明的无色薄膜；在无色薄膜的保护下模板不会直接刺穿光刻胶层，这样就避免蚀刻后ITO玻璃发生短路的现象。
5）显影，将曝光后的ITO玻璃放入显影液中将光刻胶上的感光部分溶解，未感光的部分被留下来，并且通过DI水将ITO玻璃上的显影液冲洗干净；显影后光刻胶膜上显现出与模板上一致的图案；所述显影液氢氧化钠或氢氧化钾溶液；
6）坚膜，将显影后的ITO玻璃放入温度为250-350摄氏的烤箱内，时间为30-150分钟；
7）刻蚀，将坚膜后的ITO玻璃放入酸液中，将ITO玻璃上光刻胶未覆盖的ITO膜去掉，刻胶覆盖的ITO被保护下来；所述酸液的HCL：HNO=1:0.1的混合液。
上述的LCD生产的刻蚀工艺，优选的，所述步骤4）中模板与光刻胶胶膜的距离为0-0.5mm。
上述的LCD生产的刻蚀工艺，优选的，所述显影5）包括一级显影、二级显影、一级清洗和二级清洗；所述一级显影的溶液为浓度为0.5mol/L的氢氧化钠溶液，所述二级显影的溶液为2.5 mol/L的氢氧化钠溶液；所述一级清洗和二级清洗的溶液的DI水。分两次显影，每次显影的时间都比较短，这样就避免一次性显影带来的显影时间不好控制的问题。一次显影时，由于时间较长非常容易导致局部显影过度或者局部显影不够的问题；并且一级显影比二级显影用到的氢氧化钠溶液浓度要低，这样在一级显影时能够最大程度的减少二级显影的时间，从而保证显影的精度。
上述的LCD生产的刻蚀工艺，优选的，所述步骤7）中酸液的配方为HCL：H2O：HNO3=1：1：0.1的混合液。
与现有技术相比，本发明的优点在于：本发明中在曝光前设置前烘烤这样就使得光刻胶干燥并且固化，这样在曝光的时候模板稍微接触光刻胶，光刻胶不会粘在模板上，这样模板可以无限的接近光刻胶，最大程度的保证曝光位置的精确。
具体实施方式
为了便于理解本发明，下文将结合较佳的实施例对本发明作更全面、细致地描述，但本发明的保护范围并不限于以下具体的实施例。
需要特别说明的是，当某一元件被描述为“固定于、固接于、连接于或连通于”另一元件上时，它可以是直接固定、固接、连接或连通在另一元件上，也可以是通过其他中间连接件间接固定、固接、连接或连通在另一元件上。
除非另有定义，下文中所使用的所有专业术语与本领域技术人员通常理解的含义相同。本文中所使用的专业术语只是为了描述具体实施例的目的，并不是旨在限制本发明的保护范围。
实施例
一种LCD生产的刻蚀工艺，包括以下步骤，1）备料，将14×14的ITO玻璃的表面用清洗剂和DI水清洗干净，并且烘干；
2）涂胶，在ITO玻璃的ITO面上均匀的涂一层光刻胶；
3）前烘烤，使涂有光刻胶的ITO玻璃在120摄氏的的环境下烘烤45秒，使得涂覆在ITO玻璃上的光刻胶胶膜干燥以增强胶膜与ITO玻璃表面的粘附性和耐磨性；
4）曝光，在干燥后的胶膜的表面覆盖模板，紫外线通过模板垂直的照射在胶膜上，模板上设置有预设的图案；并且在模板的底部设置有一层透明的无色薄膜；模板与光刻胶胶膜的距离为0.05mm。
5）显影，将曝光后的ITO玻璃放入显影液中将光刻胶上的感光部分溶解，未感光的部分被留下来，并且通过DI水将ITO玻璃上的显影液冲洗干净；显影后光刻胶膜上显现出与模板上一致的图案；显影液氢氧化钠或氢氧化钾溶液；
6）坚膜，将显影后的ITO玻璃放入温度为250-350摄氏的烤箱内，时间为30-150分钟均可；
7）刻蚀，将坚膜后的ITO玻璃放入酸液中，将ITO玻璃上光刻胶未覆盖的ITO膜去掉，刻胶覆盖的ITO被保护下来；酸液的HCL：HNO=1:0.1的混合液。酸液的配方为HCL：H2O：HNO3=1：1：0.1的混合液。
本实施例中，显影5）包括一级显影、二级显影、一级清洗和二级清洗；一级显影的溶液为浓度为0.5mol/L的氢氧化钠溶液，二级显影的溶液为2.5 mol/L的氢氧化钠溶液；一级清洗和二级清洗的溶液的DI水。
本实施例中在曝光前设置前烘烤这样就使得光刻胶干燥并且固化，这样在曝光的时候模板稍微接触光刻胶，光刻胶不会粘在模板上，这样模板可以无限的接近光刻胶，最大程度的保证曝光位置的精确。