显影装置、处理单元及图像形成装置的制作方法

文档序号:12731506阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种显影装置,其包括:

能够转动的显影剂载置体,其将供给给潜像载体的显影剂载置到表面上;和

显影剂限制构件,其与所述显影剂载置体的表面接触并对该显影剂载置体上的显影剂的量进行规定限制,

其特征是,在作为所述显影剂限制构件和所述显影剂载置体接触部的规定限制夹持部靠所述显影剂载置体转动方向下游端部的下游侧附近,以所述显影剂限制构件相对于所述显影剂载置体的对向面的10点平均粗糙度为Rzjis,以显影剂的体积平均粒径为Dv时,所述Rzjis对所述Dv的比率(Rzjis/Dv×100)在3.5%以下。

2.根据权利要求1所述的显影装置,其特征在于:

所述下游侧附近是从所述规定限制夹持部的所述显影剂载置体转动方向下游端部开始到下游侧2mm为止的范围。

3.根据权利要求2所述的显影装置,其特征在于:

所述Rzjis对所述Dv的比率(Rzjis/Dv×100)在1.2%以上3.5%以下。

4.根据权利要求1至3中任何一项所述的显影装置,其特征在于:

所述Rzjis在0.2μm以下。

5.根据权利要求4所述的显影装置,其特征在于:

所述Rzjis在0.08μm以上0.2μm以下。

6.根据权利要求1至5中任何一项所述的显影装置,其特征在于:

所述显影剂限制构件是在自由端侧具有和所述显影剂载置体接触的弯曲部的刮板状构件,所述弯曲部的弯曲角度在40度以下。

7.根据权利要求6所述的显影装置,其特征在于:

所述弯曲部的弯曲角度在6度以上40度以下。

8.根据权利要求1至7中任何一项所述的显影装置,其特征在于:

所述Dv在7μm以下。

9.根据权利要求8所述的显影装置,其特征在于:

所述Dv在5.1μm以上7μm以下。

10.根据权利要求1至9中任何一项所述的显影装置,其特征在于:

所述显影剂是软化点在95℃以上120℃以下的调色剂。

11.一种处理单元,其至少包括:

潜像载体,其在表面载置潜像;和

显影装置,其将显影剂供给到所述潜像载体上的潜像里,

并且相对于图像形成装置本体构成为能够装卸,

其特征是,作为所述显影装置具有权利要求1至10中任何一项所述的显影装置。

12.一种图像形成装置,其特征在于包括:

权利要求1至10中任何一项所述的显影装置,或权利要求11所述的处理单元。

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