技术特征：
技术总结
本发明提供了曝光设备和曝光方法，所述曝光设备包括控制系统、光源系统、照明系统及投影物镜，所述照明系统设有多套，每套所述照明系统均包括可变衰减器和支路能量探测器，各照明系统的支路能量探测器探测对应支路的照度并反馈给所述控制系统，所述控制系统控制各所述照明系统的可变衰减器调节对应支路的照度。在本发明提供的曝光设备和曝光方法中，所述曝光设备设有多套照明系统，每套照明系统均包括可变衰减器和支路能量探测器，通过照明系统的支路能量探测器探测对应支路的照度并反馈给控制系统，使控制系统控制各照明系统的可变衰减器调节对应支路的照度，提高曝光性能，对于能量调整精度高并能快速调整，实现精确控制，提高曝光精度。
技术研发人员：钱俊;翟思洪
受保护的技术使用者：上海微电子装备（集团）股份有限公司
技术研发日：2017.08.10
技术公布日：2018.04.27