基板的制作方法

技术总结
本申请涉及其上形成有特定类型的间隔物的基板、包括形成在所述间隔物上的配向膜的基板、以及使用这样的基板的光学装置。在本申请中，可以呈现能够形成其中确保期望的暗化的高段差间隔物的结构。

技术研发人员：裴南锡;李承宪;章盛皓;吴东炫;朴镇宇;黄智泳;柳正善;徐汉珉;宋哲沃
受保护的技术使用者：株式会社LG化学
技术研发日：2018.07.27
技术公布日：2020.04.03