静电夹持装置、光刻设备和方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及用于保持物体的静电夹持装置、光刻设备和方法。
【背景技术】
[0002] 光刻设备是一种将所需图案应用到衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻 设备用在集成电路（IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图 案形成装置用于生成与所述IC的单层对应的电路图案，并且该图案可以被成像到具有辐 射敏感材料（抗蚀剂）层的衬底（例如，硅晶片）上的目标部分（例如，包括一部分管芯、 一个或多个管芯）上。通常，单一的衬底将包含被连续曝光的相邻目标部分的网络。公知 的光刻设备包括：所谓的步进机，在所述步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部 分上来辐射每一个目标部分；以及所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向 ("扫描"方向）扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐 射每一个目标部分。也可能通过将图案压印（imprinting)到衬底上的方式从图案形成装 置将图案转移到衬底上。
[0003] 静电夹持装置可以在例如EUV的特定波长条件下运行的光刻设备中使用，因为在 这些波长条件下，光刻设备的特定区域在真空条件下运行。静电夹持装置可以设置用以通 过静电将物体夹持到支撑结构，例如将掩模或衬底（晶片）分别夹持到例如掩模台或晶片 台。
[0004] 被施加到静电夹持装置的电压可以是相当大的。例如，该电压可以是千伏量级。绝 缘阻挡件通常位于静电夹持装置的电极之上，绝缘阻挡件用以将例如衬底等物体与施加到 电极的电压隔离。该绝缘阻挡件可以是薄的，以便最小化跨过绝缘体的电压降。然而，绝缘 阻挡件的薄使得它容易断裂。如果发生断裂，则电极和衬底之间发生放电，这会引起对静电 夹持装置和衬底的损坏。在这种情况下，可能需要更换静电夹持装置并抛弃衬底。
[0005] 期望地，提供例如一种改进的静电夹持装置，其避免或消除了此处或其他地方提 到的现有技术中的问题中的一个或多个。
【发明内容】
[0006] 根据本发明第一方面，提供一种静电夹持装置，静电夹持装置配置用以保持物体， 所述静电夹持装置包括电极、由位于电极上的电阻材料形成的电阻部分以及由位于电阻部 分上的介电材料形成的介电部分。
[0007] 所述夹持装置还可以包括多个突节，所述多个突节位于静电夹持装置的物体接收 侦让。
[0008] 导体可以设置在突节的最外侧表面上，使得在使用时导体与被夹持物体接触。
[0009] 导体可以具有小于1 Ωπι的电阻率。
[0010] 在使用时考虑电极的表面积和电阻部分与被夹持物体之间的间距的情况下，电阻 介质的电阻提供小于0. 1秒的RC常数。
[0011] 介电介质的电阻可以超过IO13 Ω.
[0012] 介电部分的厚度在2微米至100微米之间。
[0013] 电阻部分的厚度在0. Imm至IOmm之间。
[0014] 所述夹持装置可以是双极夹持装置，该双极夹持装置还包括设置在所述电极附近 的第二电极，第二电极与所述电极分离，所述第二电极配置成接收与所述电极接收的电压 符号相反的电压。
[0015] 所述电极可以是基本上矩形的。
[0016] 所述电极可以是基本上圆的弧段（segment)的形状。
[0017] 根据本发明的第二方面，提供一种光刻设备，包括：照射系统，构造并布置成提供 辐射束；和物体支撑结构，构造和布置成将物体支撑在辐射束的束路径中，其中所述物体支 撑结构包括根据本发明第一方面的静电夹持装置。
[0018] 根据本发明的第三方面，提供一种方法，包括步骤：设置物体；使用照射系统提供 辐射束；使用静电夹持装置将物体保持在束路径中，所述夹持装置包括由电阻材料形成的 电阻部分、由设置在电阻部分和待保持的物体之间的介电材料形成的介电部分以及电极， 所述电极设置在电阻部分的与介电部分邻近的相对表面上；其中在所述电极和待保持的物 体之间施加电压。
[0019] 施加至电极的电压可以是至少300V。
[0020] 根据本发明第四方面，提供一种夹持装置，配置成保持物体，所述夹持装置包括电 压可以施加至其上、以便将所述物体固定至夹持装置的电极，所述夹持装置还包括具有入 口和出口的冷却流体管道，其中所述夹持装置设置有加热器，所述加热器配置成局部加热 冷却流体管道的一部分。
[0021] 所述加热器可以配置成局部加热所述冷却流体管道的邻近所述入口的一部分。
[0022] 所述加热器可以邻近所述冷却流体管道的入口。
[0023] 所述加热器可以延伸通过大约90度或更多（从所述夹持装置的中心围绕所述夹 持装置测量）。所述加热器可以延伸通过达到180度（从所述夹持装置的中心围绕所述夹 持装置测量）。
[0024] 加热器可以位于夹持装置的电极和冷却流体管道之间。电极可以是用于固定物体 的电极。
[0025] 所述夹持装置可以是Johnsen-Rahbek夹持装置。夹持装置可以是静电夹持装置。 夹持装置可以是根据本发明第一方面的夹持装置。
[0026] 根据本发明第五方面，提供一种冷却夹持装置的方法，所述夹持装置配置成保持 物体，所述夹持装置包括电压可以施加至其上、以便将所述物体固定至所述夹持装置的电 极，所述方法包括：使冷却流体流入冷却流体管道的入口并从冷却流体管道的出口去除热 的冷却流体，所述方法还包括使用加热器局部加热所述冷却流体。
[0027] 加热器可以用于局部加热邻近所述入口的冷却流体。
[0028] 加热器可以减小邻近所述入口的冷却流体和靠近所述出口的冷却流体之间的温 度梯度。
[0029] 根据本发明第六方面，提供一种光刻设备，包括：照射系统，构造并布置成提供辐 射束；和物体支撑结构，构造并布置成将物体支撑在辐射束的束路径中，其中所述物体支撑 结构包括根据本发明第四方面所述的夹持装置。
[0030] 本发明的其他实施例、特征以及优点以及本发明的不同实施例的结构和操作在下 面参照附图详细描述。应该说明的是，本发明不限于此处描述的具体实施例。这些实施例 在此处仅为了说明。基于此处包含的教导，附加的实施例对于本领域技术人员是显而易见 的。
【附图说明】
[0031] 现在参照随附的示意性附图，仅以举例的方式，描述本发明的实施例，其中，在附 图中相应的附图标记表示相应的部件，且其中：
[0032] 图1示意地示出根据本发明的实施例的光刻设备；
[0033] 图2是光刻设备的更详细的示意图；
[0034] 图3是图1和2的光刻设备的源收集器装置SO的更详细的示意图；
[0035] 图4示意地示出现有技术的静电夹持装置的截面部分；
[0036] 图5示意地示出不同的现有技术的静电夹持装置的截面部分；
[0037] 图6示意地示出根据本发明的实施例的静电夹持装置的一部分的从上面看的截 面图；
[0038] 图7示意地示出根据本发明可选实施例的静电夹持装置的一部分的从上面看的 示图；
[0039] 图8示意地示出图6的静电夹持装置的一部分的截面图，其中在静电夹持装置的 介电层中存在缺陷；
[0040] 图9示意地示出根据本发明的可选实施例的夹持装置的一部分的截面图；和
[0041] 图10示意地示出图9中示出的夹持装置的、从上面看的截面图。
[0042] 通过下文中结合附图详细地描述的说明书，本发明的优点将更加清楚，在附图中 相同的附图标记表示相同的元件。在附图中，相同的附图标记基本上表示相同的、功能类似 和/或结构类似的元件。
【具体实施方式】
[0043] 本说明书公开一个或多个并入本发明的特征的实施例。这些公开的实施例仅给出 本发明的示例。本发明的范围不限于公开的实施例。本发明通过所附的权利要求限定。
[0044] 所述的实施例以及在说明书中提到的"一个实施例"、"实施例"、"示例实施例"等 表明：描述的实施例可以包括特定的特征、结构或特性，但是每个实施例不必包括特定的特 征、结构或特性。而且，这些措辞不必指的是