光刻胶母液中，使量子点均匀分 散，得到量子点旋涂溶液。
[0068] 在本步骤中，将上述得到的量子点溶液采用滴加的方式加入到光刻胶母液中。采 用滴加或缓慢加入的方式是为了能够使量子点溶液更加均匀地分散在光刻胶母液中，以得 到分散均匀的、澄清半透明的量子点旋涂溶液。
[0069] 步骤4:将所述量子点旋涂溶液进行涂覆，得到量子点膜。
[0070] 在本步骤中，可采用旋涂的方式涂覆上述量子点旋涂溶液，得到量子点膜。可以理 解的是，本实施例对于涂覆量子点旋涂溶液的具体方式不做具体限定。
[0071] 本发明实施例提供了一种量子点膜的制备方法，在该制备方法中，首先将量子点 溶于分散剂中，然后再将溶于分散剂的量子点溶于光刻胶中，这样可使量子点有效地分散 在光刻胶中。由于量子点在光刻胶中得到了有效分散，因此溶于光刻胶中的量子点的重量 份可随之增加，从而可制备得到含有高浓度量子点的量子点膜。该方法简单，易操作，切实 解决了现有技术中存在的无法制备得到含有高浓度量子点的量子点膜的技术问题。
[0072] 在上述实施例的可选实施例中，在步骤3中，通过超声或搅拌的方式使量子点均匀 分散。在将量子点溶液滴加到所述光刻胶母液后，可采用超声或搅拌的方式对混合后的溶 液进行处理，以使量子点溶液更加均匀地分散在光刻胶母液中，得到分散均匀的、澄清半透 明的量子点旋涂溶液。
[0073] 如图3所示，本发明实施例的又一方面提供了一种量子点膜的图案化方法，包括以 下步骤：
[0074] 步骤1:将量子点完全溶解在分散剂中，得到量子点溶液。
[0075] 在本步骤中，将大于0、小于等于60份的量子点完全溶解在5-90份的分散剂中，得 到量子点溶液。
[0076] 步骤2:将树脂、含不饱和双键的单体、光引发剂、硅偶联剂、助剂和溶剂进行混合， 得到光刻胶母液。
[0077]在本步骤中，将5-45份的树脂、0.5-18份的含不饱和双键的单体、0.1-3份的光引 发剂、0.1-7份的硅偶联剂、0.1-1份的助剂、40-85份的溶剂进行混合，得到光刻胶母液。
[0078] 步骤3:在搅拌下，将所述量子点溶液滴加到所述光刻胶母液中，使量子点均匀分 散，得到量子点旋涂溶液。
[0079] 在本步骤中，将上述得到的量子点溶液采用滴加的方式加入到光刻胶母液中。采 用滴加或缓慢加入的方式是为了能够使量子点溶液更加均匀地分散在光刻胶母液中，以得 到分散均匀的、澄清半透明的量子点旋涂溶液。
[0080] 步骤4:将所述量子点旋涂溶液涂覆在基板上，形成量子点膜。
[0081] 在本步骤中，可采用旋涂的方式涂覆上述量子点旋涂溶液，得到量子点膜。
[0082] 步骤5:对所述量子点膜依次进行前烘、曝光、显影和后烘步骤，得到图案化的量子 点膜。
[0083] 本发明实施例提供了一种量子点膜的图案化方法，在该图案化方法中，对制备得 到的量子点膜依次进行前烘、曝光、显影和后烘步骤，得到图案化的量子点膜。由于在制备 量子点膜时，量子点是先溶于分散剂中，然后再分散到光刻胶中的，因此使得量子点均匀地 分散在光刻胶中，避免了量子点在光刻胶中的聚集。由于量子点在光刻胶中得到了有效分 散，因此溶于光刻胶中的量子点的重量份也得以增加，从而可制备得到含有高浓度量子点 的图案化量子点膜。该方法简单，易规模化操作，具有普适性。
[0084]在上述实施例的可选实施例中，在步骤4中，将所述量子点旋涂溶液以200-400转/ 分钟涂覆在基板上，形成量子点膜。可以理解的是，本领域技术人员可根据工艺的需要，在 上述范围内选择适宜的涂覆转速进行涂覆，例如，可为250转/分钟、300转/分钟、350转/分 钟、360转/分钟等，这里并不做--列举。在步骤S5中，将形成的量子点膜依次在50°C_130 °C下前烘3-5分钟、在100-300MJ下曝光、然后在0.42%K0H中显影40-90秒，最后在60-150°C 下后烘10-60分钟。具体地，前烘温度可为60°C、70°C、80°C、90°C、100°C、110°C、120°C，其中 优选为 60°C、70°C;后烘温度可为 70°C、80°C、90°C、100°C、110°C、120°C、130°C、140°C，其中 优选80°C。可以理解的是，本领域技术人员可根据工艺的需要，在上述范围内选择适宜的温 度、时间等，这里并不做一一列举。本实施例在原有工艺的基础上，通过调整工艺参数，可使 量子点膜在图案化工艺中，较好地保持量子点浓度及其亮度，从而得到含有高浓度量子点 的图案化量子点膜。
[0085] 为了更好说明本发明提供的一种量子点膜及其制备方法、量子点膜的图案化方法 及显示器，下面以红色量子点为例，对制备得到的量子点膜及图案化的量子点膜进行详细 说明。
[0086] 实施例1
[0087]将0.01lg的量子点溶于200yL的分散剂中，超声使量子点完全溶解，得到量子点溶 液;然后将量子点溶液滴加到200yL的光刻胶母液(包含树脂、含不饱和双键的单体、光引发 剂、硅偶联剂、助剂和溶剂）中，超声10分钟，得到量子点旋涂溶液；以6转/秒的涂膜转速涂 覆量子点旋涂溶液，得到平整均匀的量子点膜，膜厚为1.8μπι。
[0088]将实施例1中的量子点以及光刻胶母液进行换算，换算后光刻胶母液的固含量为 22.9% ;红色量子点在除去溶剂后在干膜中的重量份为20%。
[0089] 实施例2
[0090]将〇.〇17g的量子点溶于200yL的分散剂中，超声使量子点完全溶解，得到量子点溶 液;然后将量子点溶液滴加到200yL的光刻胶母液(包含树脂、含不饱和双键的单体、光引发 剂、硅偶联剂、助剂和溶剂）中，超声10分钟，得到量子点旋涂溶液；以6转/秒的涂膜转速涂 覆量子点旋涂溶液，得到平整均匀的量子点膜，膜厚为1.6μπι。
[0091]将实施例2中的量子点以及光刻胶母液进行换算，换算后光刻胶母液的固含量为 22.9% ;红色量子点在除去溶剂后在干膜中的重量份为27%。
[0092] 实施例3
[0093]将0.028g的量子点溶于200yL的分散剂中，超声使量子点完全溶解，得到量子点溶 液;然后将量子点溶液滴加到200yL的光刻胶母液(包含树脂、含不饱和双键的单体、光引发 剂、硅偶联剂、助剂和溶剂）中，超声10分钟，得到量子点旋涂溶液；以6转/秒的涂膜转速涂 覆量子点旋涂溶液，得到平整均匀的量子点膜，膜厚为1.5μπι。
[0094] 将实施例3中的量子点以及光刻胶母液进行换算，换算后光刻胶母液的固含量为 22.9% ;红色量子点在除去溶剂后在干膜中的重量份为38%。
[0095] 对比例
[0096] 将0.006g红色量子点直接加入到lOOOyL的光刻胶母液中进行混合，得到无分散剂 的量子点旋涂溶液；以6转/秒的涂膜转速涂覆无分散剂的量子点旋涂溶液，得到量子点膜， 膜厚为1.8μπι。
[0097]将对比例中的红色量子点进行换算，红色量子点在除去溶剂后在干膜中的重量份 为 3wt%。
[0098]荧光试验
[0099] 观察上述实施例1-3以及对比例中得到的量子点膜的荧光光谱，其中，荧光测试条 件为:激发波长:370nm，发射狭缝:2 · 5nm，接收狭缝：10nm，扫描速度:600nm/min，焚光测试 结果如图4所不。
[0100] 如图4所示，对比例中在未加入分散剂，且加入的红色量子点的重量份为3%时，所 观察到的荧光强度在625nm处仅