粘着剂层等，在防尘薄膜组件框架10的外面直接贴附，也可以从框架的外面b设置掘入部58，在其内部贴附。
[0085]图7表示的放大图的实施方式中，掘入部58的一部分，为开放形状，与防尘薄膜组件框架本体11和水平伸出部13之间的间隙14为一体化。这些通气孔55，过滤器56的位置以及个数，形状，可以考虑所要求的通气性以及作业的情况等，来进行适宜决定。
[0086]防尘薄膜53，可以根据使用的曝光光源，从纤维素系树脂，氟系树脂等的材料中进行最适选择。从透过率，机械的强度等的观点，以0.1?10 μ m左右的范围的最适膜厚来制作，根据需要也可以赋予反射防止层。因此，防尘薄膜接着层52，可以使用丙烯酸系接着剂，氟系接着剂，硅系接着剂等的公知的接着剂来构成。
[0087]本发明中的防尘薄膜组件贴附的截面概略图为图8，另外，为了比较，将以往的防尘薄膜组件贴附的截面概略图作成图10。通常，防尘薄膜组件的贴附，如图10表示的那样，通过从防尘薄膜接着层82上面用框状的加压装置85进行加压而进行。加压力，通过防尘薄膜组件框架81来传达到光掩模粘着剂层84上，光掩模粘着剂层，被压在光掩模86而接着(粘着)。
[0088]本发明的防尘薄膜组件50，可以用与以往同样的方法来使其贴附于光掩模，但是，特别优选，如图8表示的那样，在防尘薄膜组件框架10的水平伸出部13和防尘薄膜组件框架本体11的间隙中插入平板状的加压装置91，将该加压装置91加压，从而使防尘薄膜组件50贴附于光掩模92上。
[0089]加压装置91，在本实施方式中为完全的平板状，从刚性等的观点，但是可以适宜地设置段差，变更板厚，设置回折等使其最适化。该加压装置91，在具有充分的刚性的同时，以至少要有10 μ m的平面度，对光掩模至少有20 μ m的平行度来配置。
[0090]该加压装置91，没有必要非要在防尘薄膜组件框架10的全周上无间隙地设置，断续地配置也可。另外，加压装置91，为了在贴附操作前后将其装在防尘薄膜组件上或卸下，至少以二分割构成是必要的，优选如图9平面图表示得那样，四分割，或者在该构成的同时，搭载在向防尘薄膜组件框架10插入，退出装置(未图示)上。
[0091]在本发明的一个实施方式中，光掩模92保持水平，从垂直方向将防尘薄膜组件50被贴附而构成。但是，光掩模92保持垂直，从水平方向将防尘薄膜组件50进行贴附的构成也优选，这样，贴附机构虽然有若干复杂，但是从易于防止在防尘薄膜组件贴附时的异物的卷入，以及从防止光掩模的自重弯曲等来看是有优点的。
[0092]防尘薄膜组件的贴附所必要的加压力，在保持光掩模和防尘薄膜组件(以及光掩模粘着剂)的平面度的同时，其面形状的不同越小，加压力越可以减小。另外，防尘薄膜组件框架以及光掩模粘着剂层的柔软性越高，加压力越小。如贴附力减少，贴附时的光掩模的变形量就越减小，其结果，贴附后的光掩模的变形就会小。
[0093]本发明中，光掩模粘着剂层51被设置的水平伸出部13柔软，如用装置91对此直接加压，极小的加压力也可以将光掩模粘着剂层51充分地贴附于光掩模92表面上。另外，这在所得到接着力(粘着力)的确保的同时，由于使用小的贴附力，所以贴附时的光掩模92的变形也被抑制。
[0094]进一步，光掩模粘着剂层51和防尘薄膜组件框架本体11之间由于具有柔软的伸出部12，13，防尘薄膜组件框架本体11和光掩模92的面形状的不同被缓和，通过这些综合的结果，防尘薄膜组件50的贴附后的光掩模92的变形极小。
[0095]如以上所述，本发明的一实施方式中，防尘薄膜组件框架本体11的光掩模92侧的面上，在形成的刚性低的水平伸出部13上有光掩模粘着剂层51形成，所以，与光掩模92的形状相合的形式，光掩模粘着剂层51柔软地追随变形，所以防尘薄膜组件框架本体11的形状的影响减少，防尘薄膜组件50的装着后的光掩模92的变形大幅度地被抑制。另外，由于为向有光掩模粘着剂层51设置的水平伸出部13直接加压而贴附，贴附负载被抑制到极小，由于贴附而造成的光掩模92的变形被抑制。
[0096]并且，本发明的一实施方式中，由于可以提高对光掩模92的追从性，所以将防尘薄膜组件框架本体11的高度减低的(刚性减低)必要性小，异物的焦点错离性能可以维持在高水平。另外，防尘薄膜组件框架本体11，由于具有充分的刚性，所以在制造以及使用上的不良也少。
[0097]本发明的防尘薄膜组件，可以适用于具有防尘薄膜组件贴附造成的变形问题和的所有的防尘薄膜组件，但是，在适用于先端半导体制造中使用的防尘薄膜组件的场合，特别有效果。
[0098]实施例
[0099]以下，对本发明的实施例进行具体说明，但是本发明，并不局限于此。
[0100]首先，将图1?图4表示的防尘薄膜组件框架10加以准备。该防尘薄膜组件框架10，是通过对A7075铝合金进行机械切削加工而成的，外尺寸149x115mm，高度5.5mm。在此，防尘薄膜组件框架本体11的幅度wl = 1.9mm，垂直的伸出部12的幅度w2 = 0.3mm，水平伸出部13的厚度w3 = 0.3mm,防尘薄膜组件框架本体11和水平伸出部13的间隙w4 =
0.8mm，这一截面形状在角部也同样。
[0101]另外，如图5表示的那样，防尘薄膜组件框架10的长边中央上设置直径0.5mm的通气孔55，其周围有掘入部58，进一步，各边的角部附近有作业用的非贯通的夹具孔57。因此，棱部施以C0.1?0.2_左右的切角(未图示)，表面的全表面进行Ra0.6左右喷砂后，进行黑色氧化膜处理。最后，对防尘薄膜组件框架的各种尺寸进行计测以及修正加工，结果，光掩模粘着面侧(g)的平面度为20 μ m。
[0102]进一步，防尘薄膜组件框架的“平面度”，为对防尘薄膜组件框架的各角部4点和4边的中央4点的共计8点的高度测定，算出假想平面，从该假想平面到各点的距离之中，从最高点减去最低点的差，来算出。防尘薄膜组件框架的平坦度，可以用“有XY轴控制台的激光变位计”来进行测定，在本发明中，使用了自制的变位计。
[0103]然后，用该防尘薄膜组件框架10，制作具有图5那样的斜视图，图6那样的截面构造的防尘薄膜组件50。以下，为其制作顺序。
[0104]将防尘薄膜组件框架10用界面活性剂和纯水彻底清洗，干燥。对水平伸出部13上的面g，将作为光掩模粘着剂的硅粘着剂(商品名；KR3700，信越化学工业(株)制)，对防尘薄膜接着面c，将作为接着层的氟系树脂(商品名；CYT0P，旭硝子(株)制)用3轴直交机器人上搭载的气体加压式分布器进行涂布，溶媒干燥的同时，130°C加热硬化，形成光掩模粘着剂层51，防尘薄膜接着层52。光掩模粘着剂层51的表面，在溶媒干燥前，用平面度0.3 μπι的研磨的玻璃基板进行推压，平坦化，厚度0.5_，表面的平面度10 μm。
[0105]然后，为了保护光掩模粘着剂层51的表面，贴附厚度125 μπι的离型剂涂布的PET制薄膜分离片54。其后，以将长边中央的通气孔55覆盖的形式，将由PTFE多孔质膜构成的过滤器56用丙烯酸粘着剂进行接着。过滤器56，如图7表示的那样，被收纳于掘入部58的内部。
[0106]另外，将作为防尘薄膜53的氟系树脂(商品名；CYT0P，旭硝子(株)制)在成膜基板(300_硅晶片)上用旋涂法成膜，溶媒干燥后，将与基板外形同尺寸的暂用框接着，从成膜基板剥离，得到厚度0.28