溶液)以外，按照与实施例1相同的方式制备光学膜。
[0093] 实施例3
[0094]除在制备功能性涂布溶液时使用1.40g的聚苯胺磺酸(PAS,Mitsubishi Rayon有 限公司，具有3.0 %固体含量的水溶液)来代替PED0T/PSS(具有1.4 %固体含量的水溶液)作 为导电材料以外，按照与实施例1相同的方式制备光学膜。
[0095] 实施例4
[0096]除在制备功能性涂布溶液时使用2.33g的聚苯胺磺酸(PAS,Mitsubishi Rayon有 限公司，具有3.0 %固体含量的水溶液)来代替PED0T/PSS(具有1.4 %固体含量的水溶液)作 为导电材料以外，按照与实施例1相同的方式制备光学膜。
[0097] 实施例5
[0098]除在制备功能性涂布溶液时使用0.21g的离子液体（IL-OH8，K0EI Chemical有限 公司）来代替PED0T/PSS(具有1.4 %固体含量的水溶液)作为导电材料以外，按照与实施例1 相同的方式制备光学膜。
[0099] 实施例6
[0100]除在制备功能性涂布溶液时使用4.67g的基于丙烯酸的树脂(TAKAMATSU 0IL&FAT 有限公司，A-645:具有30 %固体含量的水溶液）来代替水分散性基于聚氨酯的树脂 (Chokwang Paint有限公司，CK-PUD-PF:具有30 %固体含量的水溶液）以外，按照与实施例1 相同的方式制备光学膜。
[0101] 实施例7
[0102] 除在制备功能性涂布溶液时使用4.67g的基于丙烯酸的树脂(TAKAMATSU 0IL&FAT 有限公司，A-645:具有30 %固体含量的水溶液）来代替水分散性基于聚氨酯的树脂 (Chokwang Paint有限公司，CK-PUD-PF:具有30 %固体含量的水溶液）以外，按照与实施例2 相同的方式制备光学膜。
[0103] 实施例8
[0104] 除在制备功能性涂布溶液时使用4.67g的基于丙烯酸的树脂(TAKAMATSU 0IL&FAT 有限公司，A-645:具有30 %固体含量的水溶液）来代替水分散性基于聚氨酯的树脂 (Chokwang Paint有限公司，CK-PUD-PF:具有30 %固体含量的水溶液）以外，按照与实施例5 相同的方式制备光学膜。
[0105] 对比实施例1
[0106] 在250°C和250rpm条件下，使用T模成膜装置，用聚(环己基马来酰亚胺-共-甲基丙 烯酸甲酯）（LG MMAPMMA830HR)树脂制备宽800mm的未定向膜后，在135°C的温度下使该膜在 MD方向1.8倍定向。
[0107] 如下制备光学膜:在135°C的温度下使如上所制备的膜在TD方向进行2.0倍定向1 分钟，不进行如实施例1的制备和涂布抗静电功能性涂布溶液的过程。
[0108] 对比实施例2
[0109]除通过混合4.67g的水分散性基于聚氨酯的树脂(Chokwang Paint有限公司，CK-PUD-PF:具有30%固体含量的水溶液)和13.33g的纯水来制备涂布溶液并将该溶液涂布于 定向膜上以外，按照与实施例1相同的方式制备光学膜。
[0110] 对比实施例3
[0111] 除在制备功能性涂布溶液时使用15g的导电材料(PED0T/PSS，具有1.4 %固体含量 的水溶液)以外，按照与实施例1相同的方式制备光学膜。
[0112] 对比实施例4
[0113]除在制备功能性涂布溶液时使用lg的导电材料(PED0T/PSS，具有1.4%固体含量 的水溶液)以外，按照与实施例1相同的方式制备光学膜。
[0114] 对比实施例5
[0115] 除在制备功能性涂布溶液时使用0.43g的离子液体（IL-OH8，K0EI Chemical有限 公司）来代替PED0T/PSS(具有1.4 %固体含量的水溶液)作为导电材料以外，按照与实施例1 相同的方式制备光学膜。
[0116] 对比实施例6
[0117] 除在制备功能性涂布溶液时使用0.014g的离子液体（IL_0H8，K0EI Chemical有限 公司）来代替PED0T/PSS(具有1.4 %固体含量的水溶液)作为导电材料以外，按照与实施例1 相同的方式制备光学膜。
[0118]测试实施例
[0119] 1.表面电阻
[0120] 使用表面电阻测量装置(MCP-HT450/MITSUBUSHI CHEMICAL)和探针(URS，UR100) 对制备好的抗静电光学膜的表面上的三个点各测量三次，计算平均值。结果示于下表1中。
[0121] 2.涂布性评价
[0122] 观察实施例1至8和对比实施例2至6中制备的20cm X 20cm的膜表面，并评价涂布的 外部缺陷的程度，如总体的污迹、棒图案污迹(bar pattern stain)、点型污迹和去湿痕迹。 结果示于下[表1]中。
[0123] 〇（良好）：缺陷区域面积小于1%。
[0124] Δ (中等）：缺陷区域面积大于或等于1%并小于10%。
[0125] X(差）：缺陷区域面积为10%以上。
[0126] 3.粘附强度评价
[0127] 使用结构分析仪以0.05N和0.5cm/秒使通过用粘合剂将实施例1至8和对比实施例 1至6中制备的膜、PVA偏光片和另外的保护膜层压而制备的2cmX2cm的偏光板分离，并且通 过丙烯酸基底膜的破坏程度来确定制备的基于丙烯酸的膜和PVA之间的粘附强度。测量结 果示于下[表1 ]中。（本文中，基于丙烯酸的膜受到破坏是指PVA偏光片和底漆完全粘附。）
[0128] 〇（良好）：粘附表面上丙烯酸基底膜被破坏的面积为50%以上。
[0129] △(中等）：粘附表面上丙烯酸基底膜被破坏的面积为50%以下。
[0130] X (差）：粘附表面上丙烯酸基底膜没有被破坏的面积。
[0131] 4.抗粘连性
[0132] 将制备的膜的两端切开、然后在辊上卷绕该膜500m以上从而形成膜卷。将该卷放 置一周或更长后肉眼观察鉴定该膜的卷绕状态、以及卷外观的改变等，并如下评价抗粘连 性。测量结果示于下[表1]中。
[0133] 〇（良好）：膜卷绕无褶皱，并且观察无外观改变或者在被放置一周或更长后膜之 间没有粘附。
[0134] X(差）：膜卷绕时有褶皱，或者观察有外观改变，或者在被放置后膜之间有粘附。
[0135] [表 1]
[0137]
[0138] 当比较表1的实施例1至8和对比实施例1时，可以看出，与不包括功能性涂层的基 于丙烯酸的膜相比，根据本发明的包括功能性涂层的基于丙烯酸的膜具有更卓越的表面电 阻，由此具有优异的抗静电性。此外，当检查对比实施例3至6时，可知当导电聚合物的含量 超出本发明所述的合适的含量范围时，涂布性和粘附强度降低。
[0139] 上文中，已经详细描述了本发明的实施例，然而，本发明的权利范围并不限于此， 并且不违背本发明权利要求所述的主旨可以进行各种的修饰和改变，这对本领域技术人员 而g是显而易见的。
【主权项】
1. 一种光学膜，包括： 基于丙烯酸的膜;和 形成于所述基于丙烯酸的膜的至少一个表面上的功能性涂层，所述功能性涂层包含导 电材料和水分散性树脂，并具有109W/Sq至1013W/Sq的表面电阻。2. 根据权利要求1所述的光学膜，其中，所述导电材料为导电聚合物;离子液体;金属氧 化物;或其混合物。3. 根据权利要求2所述的光学膜，其中，所述导电聚合物是基于聚噻吩的聚合物化合 物、基于聚吡咯的聚合物化合物、基于聚苯胺的聚合物化合物或其混合物。4. 根据权利要求2所述的光学膜，其中，所述金属氧化物是掺杂的氧化锌(ZnO)、掺杂的 氧化锡(ΑΤΟ)或掺杂的氧化铟（ITO)。5. 根据权利要求2所述的光学膜，其中，所述离子液体包括选自由烷基咪唑鑰、烷基磷 鑰、N-烷基吡啶鑰、N，N二烷基咪唑鑰或其衍生物形成的阳离子；由溴化物、六氟磷酸盐、 六氟锑酸盐、四氟硼酸盐、二氟甲磺酸盐、甲磺酸盐、甲苯磺酸盐、氯化物或其衍生物形成的 阴离子;及其混合物中的一种或多种。6. 根据权利要求2所述的光学膜，其中，相对于100重量份的所述水分散性树脂，所述功 能性涂层包含1至10重量份的导电聚合物。7. 根据权利要求2所述的光学膜，其中，相对于100重量份的所述水分散性树脂，所述功 能性涂层包含5至25重量份的离子液体。8. 根据权利要求2所述的光学膜，其中，相对于100重量份的所述水分散性树脂，所述功 能性涂层包含0.1至10重量份的金属氧化物。9. 根据权利要求1所述的光学膜，其中，所述水分散性树脂是水分散性基于聚氨酯的树 月旨、水分散性基于丙烯酸的树脂或其组合。10. 根据权利要求9所述的光学膜，其中，所述基于聚氨酯的树脂的重均分子量为10， 000至100,000〇11. 根据权利要求9所述的光学膜，其中，所述基于聚氨酯的树脂包含羧基。12. 根据权利要求1所述的光学膜，其是用于偏光板的保护膜。13. -种包括权利要求1~12任一项所述的光学膜的偏光板。14. 一种包括权利要求13所述的偏光板的图像显示装置。
【专利摘要】本发明涉及一种光学膜，其包括：基于丙烯酸的膜；和功能性涂层，所述功能性涂层形成于所述基于丙烯酸的膜至少一个表面上，包含如导电聚合物、离子液体或金属氧化物的导电材料和水分散性树脂，并具有109W/Sq至1013W/Sq的表面电阻。
【IPC分类】G02F1/1335, G02B5/30, B32B27/30
【公开号】CN105593719
【申请号】CN201480054153
【发明人】金倞源, 李南贞, 沈花燮, 朴俊昱, 林伊琅
【申请人】Lg化学株式会社
【公开日】2016年5月18日
【申请日】2014年9月26日