阵列基板结构及阵列基板断线修补方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板结构及阵列基板断线修补方法。
【背景技术】
[0002]液晶显示装置(LiquidCrystal Display，LCD)具有机身薄、省电、无福射等众多优点，得到了广泛的应用，如:移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。
[0003]现有市场上的液晶显示装置大部分为背光型液晶显示装置，其包括壳体、设于壳体内的液晶显示面板及设于壳体内的背光模组(Backlight module)。液晶显示面板的结构是由一彩色滤光片基板(Color Filter Substrate)、一薄膜晶体管阵列基板(Thin FilmTransistor Array Substrate ,TFT Array Substrate)以及一配置于两基板间的液晶层(Liquid Crystal Layer)所构成，其中在阵列基板上排布有许多竖直的数据线(DataLine)和水平的栅极扫描线(Gate Line)。液晶显示面板的工作原理是通过在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。
[0004]随着显示技术的不断发展，消费者对于液晶显示装置的画质要求越来越高，其中显示分辨率是个非常重要的性能指标之一。显示分辨率表征屏幕图像的精密度，指的是显示面板所能显示的像素有多少。当显示面板尺寸固定时，显示分辨率越高图像越清晰，在单位尺寸内的栅极扫描线和数据线的跨线也会越来越多，由于阵列基板生产工序复杂，受生产工艺及厂房环境因素的影响，阵列基板的数据线与栅极扫描线在跨线处发生断线缺陷的可能性增加，断线会导致在显示画面中产生黑线，严重影响画面显示质量。
[0005]为了修补阵列基板断线，如图1所示，传统的阵列基板断线修补方法需要在栅极扫描线100或数据线200的断线处用激光化学气相沉积(Laser Chemical Vapor Deposit1n,Laser CVD)进行金属(如:钨)沉积形成较长的连接线300将发生断线的栅极扫描线100或数据线200连接起来。该传统修补方法的缺点在于连接线300较长，相应的电阻较大;激光能量较高时，容易造成连接线300与栅极扫描线100或数据线200之间短路，修补成功率较低;耗时长，修补效率低；另外一个重要的影响是连接线300设置在栅极扫描线100或数据线200以外的区域会遮挡光线，使原本应该透光的区域不透光，降低了显示面板的开口率。
【发明内容】
[0006]本发明的目的在于提供一种阵列基板结构，易于进行阵列基板断线修补，且不影响显示面板的开口率，适用于小尺寸的显示面板。
[0007]本发明的目的还在于提供一种阵列基板断线修补方法，能够在不影响显示面板的开口率及对数据线、栅极扫描线电阻影响较小的前提下，简化修补过程，提高修补成功率与效率，降低生产成本。
[0008]为实现上述目的，本发明提供一种阵列基板结构，包括多条沿横向间隔分布的栅极扫描线、多条沿纵向间隔分布与所述多条栅极扫描线在空间上垂直交叉且绝缘的数据线、及于所述数据线与栅极扫描线交叉处设置的呈十字形的金属修补层；
[0009]所述呈十字形的金属修补层包括横向修补线、及与所述横向修补线垂直交叉的纵向修补线;所述横向修补线被所述栅极扫描线遮盖，所述纵向修补线被所述数据线遮盖，所述横向修补线与纵向修补线的交叉处和数据线与栅极扫描线的交叉处在空间上重合。
[0010]所述呈十字形的金属修补层的材料为钼/铝/钼复合层。
[0011]所述横向修补线的宽度不大于栅极扫描线的宽度，所述纵向修补线的宽度不大于数据线的宽度。
[0012]所述阵列基板结构还包括多个呈阵列式排布的TFT;TFT的栅极与所述栅极扫描线均由第一金属层图案化形成，且栅极与栅极扫描线连接;TFT的源极、漏极与数据线均由第二金属层图案化形成，且源极与数据线连接;所述呈十字形的金属修补层由第三金属层图案化形成。
[0013]本发明还提供一种阵列基板断线修补方法，包括如下步骤:
[0014]步骤1、提供阵列基板；
[0015]所述阵列基板的结构包括多条沿横向间隔分布的栅极扫描线、多条沿纵向间隔分布与所述多条栅极扫描线在空间上垂直交叉且绝缘的数据线、及于所述数据线与栅极扫描线交叉处设置的呈十字形的金属修补层；
[0016]所述呈十字形的金属修补层包括横向修补线、及与所述横向修补线垂直交叉的纵向修补线;所述横向修补线被所述栅极扫描线遮盖，所述纵向修补线被所述数据线遮盖，所述横向修补线与纵向修补线的交叉处和数据线与栅极扫描线的交叉处在空间上重合；
[0017]步骤2、检测所述阵列基板中出现断线的数据线、与出现断线的栅极扫描线；
[0018]步骤3、对于在数据线与栅极扫描线的交叉处发生断线的数据线，将所述呈十字形的金属修补层的纵向修补线的两端分别与相应数据线出现断线的两端连接起来；
[0019]对于在数据线与栅极扫描线的交叉处发生断线的栅极扫描线，将所述呈十字形的金属修补层的横向修补线的两端分别与相应栅极扫描线出现断线的两端连接起来。
[0020]所述呈十字形的金属修补层的材料为钼/铝/钼复合层。
[0021]所述横向修补线的宽度不大于栅极扫描线的宽度，所述纵向修补线的宽度不大于数据线的宽度。
[0022]所述步骤3通过激光焊接工艺将所述呈十字形的金属修补层的纵向修补线的两端分别与相应数据线出现断线的两端连接起来;通过激光焊接工艺将所述呈十字形的金属修补层的横向修补线的两端分别与相应栅极扫描线出现断线的两端连接起来。
[0023]本发明的有益效果:本发明提供的阵列基板结构及阵列基板断线修补方法，在数据线与栅极扫描线交叉处设置呈十字形的金属修补层，所述呈十字形的金属修补层包括横向修补线、及与所述横向修补线垂直交叉的纵向修补线;所述横向修补线被栅极扫描线遮盖，所述纵向修补线被数据线遮盖，所述横向修补线与纵向修补线的交叉处和数据线与栅极扫描线的交叉处在空间上重合，数据线与栅极扫描线本身处于遮光区域，所述呈十字形的金属修补层不占用透光区域，不影响显示面板的开口率，且金属修补层的横向修补线与纵向修补线垂直交叉，排线数量少，占用空间小，适用于小尺寸的显示面板;对于在数据线与栅极扫描线的交叉处发生断线的数据线，将所述呈十字形的金属修补层的纵向修补线的两端分别与相应数据线出现断线的两端连接起来，对于在数据线与栅极扫描线的交叉处发生断线的栅极扫描线，将所述呈十字形的金属修补层的横向修补线的两端分别与相应栅极扫描线出现断线的两端连接起来，相比于现有的长线修补技术，对数据线、栅极扫描线电阻影响较小，修补过程简单，提高了修补成功率与效率，降低了生产成本。
【附图说明】
[0024]为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
[0025]附图中，
[0026]图1为传统的阵列基板断线修补方法的示意图；
[0027]图2为本发明的阵列基板结构的示意图；
[0028]图3为本发明的阵列基板断线修补方法的流程图；
[0029]图4为本发明的阵列基板断线修补方法的步骤3中对数据线进行断线修补的示意图；
[0030]图5为本发明的阵列基板断线修补方法的步骤3中对栅极扫描线进行断线修补的示意图。
【具体实施方式】
[0031]为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
[0032]请参阅图2，本发明首先提供一种阵列基板结构，包括多条沿横向间隔分布的栅极扫描线1、多条沿纵向间隔分布与所述多条栅极扫描线I在空间上垂直交叉且绝缘的数据线
2、及于所述数据线2与栅极扫描线I交叉处设置的呈十字形的金属修补层3。
[0033]所述呈十字形的金属修补层3包括横向修补线31、及与所述横向修补线31垂直交叉的纵向修补线32;所述横向修补线31被所述栅极扫描线I遮盖，所述纵向修补线32被所述数据线2遮盖，所述横向修补线31与纵向修补线32的交叉处和数据线2与栅极扫描线I的交叉处在空间上重合。可以理解的是，在本实施例中，呈十字形的金属修补层3设于数据线2与栅极扫描线I交叉处的下方，但并不用于限制本发明，只要满足横向修补线31与纵向修补线32的交叉处和数据线2与栅极扫描线I的交叉处在空间上重合即可。
[0034]所述呈十字形的金属修补层3用于修补数据线2的断线缺陷及栅极扫描线I的断线缺陷。由于数据线2与栅极扫描线I本身处于遮光区域，所述呈十字形的金属修补层3被数据线2与栅极扫描线I遮盖，不占用透光区域，不影响显示面板的开口率，且金属修补层3的横向修补线31与纵向修补线32垂直交叉，排线数量少，占用空间小，适用于小尺寸的显示面板。对于在数据线2与栅极扫描线I的交叉处发生断线的数据线2，将所述呈十字形的金属修补层3的纵向修补线32的两端分别与相应数据线2出现断线的两端连接起来，即可实现对数据线2的修补;对于在数据线2与栅极扫描线I的交叉处发生断线的栅极扫描线I，将所述呈十字形的金属修补层3的横向修补线31的两端分别与相应栅极扫描线I出现断线的两端连接起来，即可实现对栅极扫描线I的修补；相比于现有的长线修补技术，本发明的阵列基板结构利用呈十字形的金属修补层3进行修补，对数据线2、栅极扫描线I的电阻影响较小，修补过程简单，能够提高修补成功率与效率，降低生