本实用新型涉及立式铣床技术领域，尤其是指立式铣床的冲洗装置。
背景技术：
立式铣床与卧式铣床相比较，主要区别是主轴垂直布置，除了主轴布置不同以外，工作台可以上下升降， 立式铣床用的铣刀相对灵活一些，适用范围较广。可使用立铣刀、机夹刀盘、钻头等。可铣键槽、铣平面、镗孔等。目前立式铣床在对工件加工时，碎屑直接落在台面上，需要人工清扫，而且碎屑时常会落在工件上，影响工件加工。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于克服现有技术的不足，提供一种立式铣床的结构简单、操作方便的冲洗装置。
为实现上述目的，本实用新型所提供的技术方案为：立式铣床的冲洗装置，它包括有安装在机架上的工作台，工作台表面设有上下贯穿的导水孔，工作台下方的机架上设有集污槽，集污槽底部设有倾斜面，倾斜面较低一端的集污槽侧壁上设有导水槽；机架后部一侧设有水箱，供水管一端与水箱顶部连接，供水管另一端与喷水枪相连接，工作台上方的机架上设有支架，支架为长方形，架体一端设有滑槽，滑槽通过限位螺栓活动安装在机架上，架体另一端延伸至工作台上方形成悬臂，悬臂端部设有U形卡槽，喷水枪活动装配在U形卡槽上，U形卡槽顶部设有下凹的定位面。
所述的工作台两端设有伸缩式的支撑架，导水槽位于支撑架下方。
本实用新型在采用上述方案后，可以直接将碎屑冲入集污槽，然后再通过导水槽进行统一处理，这样可以有效保持台面整洁，同时在加工时可以将喷水枪置于支架上，缓慢放水对加工工件进行降温，喷水枪位置可以通过移动支架的位置进行调节；下凹的定位面可以使喷水枪放置后自动面对工件方向，采用本方案后的结构简单、操作方便。
附图说明
图1为本实用新型的整体结构示意图。
具体实施方式
下面结合所有附图对本实用新型作进一步说明，本实用新型的较佳实施例为：参见附图1，本实施例所述的立式铣床的冲洗装置包括有安装在机架上的工作台1，工作台1表面设有上下贯穿的导水孔2，工作台1下方的机架上设有集污槽4，集污槽4底部设有倾斜面，倾斜面较低一端的集污槽4侧壁上设有导水槽5，所述的工作台1两端设有伸缩式的支撑架3，导水槽5位于支撑架3下方；机架后部一侧设有水箱6，供水管7一端与水箱6顶部连接，供水管7另一端与喷水枪8相连接，工作台1上方的机架上设有支架9，支架9为长方形，架体一端设有滑槽10，滑槽10通过限位螺栓11活动安装在机架上，架体另一端延伸至工作台1上方形成悬臂，悬臂端部设有U形卡槽12，喷水枪8活动装配在U形卡槽12上，U形卡槽12顶部设有下凹的定位面。本实施例可以直接将碎屑冲入集污槽，然后再通过导水槽进行统一处理，这样可以有效保持台面整洁，同时在加工时可以将喷水枪置于支架上，缓慢放水对加工工件进行降温，喷水枪位置可以通过移动支架的位置进行调节；下凹的定位面可以使喷水枪放置后自动面对工件方向。
以上所述之实施例只为本实用新型之较佳实施例，并非以此限制本实用新型的实施范围，故凡依本实用新型之形状、原理所作的变化，均应涵盖在本实用新型的保护范围内。