专利名称：支承研磨体的支架板的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种支承用于研磨和/或抛光诸如石头、混凝土、水磨石等的硬地板表面的研磨体的支架板。
背景技术：
支承研磨体的支架板从EP-1 321 233或从PCT/SE2004/000905中已知。多个(通常至少是三个)这种支承研磨体的支架板安装在从动研磨板(图2)上，从动研磨板平直地、基本平行于地板表面旋转，而该板安装在例如WO02/062524或EP-0 700 327中所示类型的研磨机中。从而，具有安装有研磨体的支架板的研磨板与地板表面接触，其中研磨板旋转，而地板表面得到研磨和/或得到抛光。
在仅使用研磨和/或抛光的研磨体的场合中，通常至少两个圆形或矩形的研磨体布置在支架板上。对于矩形的研磨体，一个研磨体通常布置成基本与研磨板的切线平行，另一研磨体通常设置为与第一研磨体成一角度，如图1所示。这种已知的研磨体布置是按照这种期望促成的，即，将已被去除的材料向外朝着研磨板的外围驱除。
该已知的研磨体支架板的一个问题是，地板表面上的不平整和凸起部以及位于地板表面上的已被去除的材料引起研磨体上的变化的且有时较大的压力，这会导致研磨体从支架板上断裂、压碎或折断。
发明内容
本发明的一个目的是实现改进的或可选择的支承研磨体的支架板。
该目的全部或部分地由根据所公开的独立权利要求的支承研磨体的支架板来实现。实施例从所公开的独立权利要求和从下面的描述和附图中形成。
因此，实现了支承研磨体的支架板，以研磨和/或抛光石头、混凝土、水磨石等的硬地板表面。支架板具有用于将其安装在从动研磨板上的元件，该从动研磨板平直地(flat)、基本平行于地板表面旋转。研磨板支承至少两个研磨体，其中每个研磨体具有由两个相互隔开基本平行的基表面和至少一个在基表面的边缘之间延伸的侧表面确定的几何体的形式。基表面基本平行于支架板，并且基本为长方形的或椭圆形的(oblong)。研磨体设置在支架板上，使得当支架板安装在研磨板上时，相关的基表面的纵向方向基本平行于位于研磨体处的研磨板的切线。
术语“研磨体”是指具有研磨和/或抛光效果的元件。这种元件可包括含有任何尺寸和任何材料的研磨颗粒(例如，诸如PCD和/或金刚石的研磨剂)的金属或塑性树脂的基体。
术语“用于研磨和/或抛光”这里是指仅具有研磨和/或抛光元件的支架板，而不是具有用于切削地板表面的一个或多个切削刃的支架板。
术语“安装元件”是可用于将支架板附接到研磨圆盘的装置。这种元件的示例可以是用于通过螺钉将支架板紧固到研磨圆盘的螺孔，如EP-1 321233中所示。这种元件的另一示例可以是环绕的凸缘，如PCT/SE2004/000905中所示。
基表面基本为长方形的或椭圆形的(oblong)的提法意思是每个基表面具有纵向方向和关于该纵向方向基本正交的横向方向，而基表面的长度在纵向方向比横向方向长。这些研磨体这样布置在支架板上，使得它们各自的基表面的纵向方向基本平行于研磨板的切线。
术语“基本平行于切线”包括例如偏离该切线的角度范围，使得研磨体的纵向方向可相互平行。实际上，这可以意味着相对较小地偏离研磨板的切线，并且特别是其半径与研磨体相比相对较大时。
通过根据本发明布置研磨体，实现了对位于地板表面上的已去除材料的减小的敏感度，这是因为研磨体受这种已去除材料影响的区域变小了。通过将研磨体布置成其纵向方向平行于切线，支架板本身变得更坚固，从而当使用如在PCT/SE2004/000905中所示的组件元件时减小了从研磨板上脱落的危险。此外，在使用冷却液的场合中实现了冷却液的更加均匀的流动。
基表面可在平行于切线的第一方向逐渐变细。通过使基表面在切线方向逐渐变细，实现了犁效应(plough efiect)，意思是消除了位于地板表面上的已去除材料，从而减小了施加在研磨体的力。
基表面可在与第一方向相反的第二方向逐渐变细。通过使基表面在相反方向逐渐变细，研磨体可在任一方向旋转，即顺时针或逆时针。
根据一个实施例，基表面在纵向方向在其一端具有指向纵向方向的尖端。因为基表面具有尖端，所以实现了改进的刮垢效应(scraping effct)，当涂料残留物或类似物残留在地板表面上并应当从地板表面上去除时，这是有利的。
根据另一实施例，基表面在纵向方向在其一端被倒圆。因为基表面被倒圆，所以发生在地板表面上的刮擦的危险变小。
现在将参照附图更加详细地描述这些实施例。
图1示出根据现有技术的支承研磨体的支架板的图示平面图。
图2示出根据图1的研磨圆盘的图示平面图，研磨圆盘上设置有三个支架板。
图3示出根据本发明一个实施例的支承研磨体的支架板的图示平面图。
图4a-4g示出根据本发明可选择实施例的研磨体的图示平面图。
图5是图4a中的研磨体的图示透视图。
具体实施例方式
图1示出已知的支承研磨体的支架板1，其安装有以传统方式布置的两个研磨体2a、2b。
图2示出已知的研磨板3，研磨板3上布置有三个支承研磨体的支架板1。可以看出，布置在研磨板上的支架板1的数量可根据需要而不同。通常的构造包括3-6个支架板1。
图3示出根据本发明的支承研磨体的支架板1。在支架板1上以这样的方式设置两个研磨体2a、2b，即它们各自的纵向方向L基本平行于研磨板3的切线，支架板1将设置在研磨板3上。根据一个实施例，各个研磨体2a、2b的纵向方向L1、L2与研磨板的半径r之间的角度V1和V2基本是相同大小，但是它们也可彼此稍稍偏离，例如使得研磨体2a、2b的纵向方向L1、L2彼此平行。
研磨体具有三维主体的形式，该三维主体由两个基本平行的基表面B(图5)和在基表面的相对边缘之间延伸的侧表面S(图5)确定。
图4a-4g示出基表面的几何形状的示例性实施例。如图4a-4g所示，研磨体可认为是长方形的或椭圆形的(oblong)，因为它们各自具有大于它们各自宽度t的长度L。
根据一个实施例，研磨体(图5)的全部基表面B基本相似。根据该实施例的第一变型，这些基表面具有基本相同的尺寸。根据这些实施例的第二变型，这些基表面包括离支架板最近定位的第一基表面和远离支架板定位的第二基表面，其中第一基表面具有比第二基表面大的面积。因此研磨体从支架板1向下朝着待研磨的地板表面逐渐变细。根据该实施例的第三变型，这些基表面包括离支架板最近定位的第一基表面和远离支架板定位的第二基表面，其中第一基表面具有比第二基表面小的面积。
如图4a-4d和4f-4g所示，基表面可在平行于切线的第一方向逐渐变细，也可在与第一方向相反的第二方向逐渐变细。
如图4b和图4f所示，基表面在纵向方向L上的末端可具有倒圆4。可选择地，如图4a和4c-4d以及4g所示，基表面可具有指向纵向方向的尖端5。
可以看出，根据本发明的支架板1可根据需要和支架板1上的可用空间安装任意数量的研磨体，例如1、2、3、4、5或6个。
权利要求
1.支承用于研磨和/或抛光如石头、混凝土、水磨石等的硬地板表面的研磨体的支架板(1)，所述支架板(1)具有用于将其安装在从动研磨板(3)上的元件(6)，所述从动研磨板(3)平直地、基本平行于所述地板表面旋转，所述支架板(1)承载至少两个研磨体(2)，每个研磨体(2)具有由两个相互隔开基本平行的基表面(B)和至少一个在所述基表面的边缘之间延伸的侧表面(S)确定的几何体的形式，所述基表面(B)基本平行于所述支架板(1)，并且所述基表面(B)基本为长方形的或椭圆形的，其特征在于所述研磨体(2)设置在所述支架板(1)上，使得当所述支架板(1)安装在所述研磨板(3)上时，相关的基表面的纵向方向(L)基本平行于位于所述研磨体(2)处的研磨板(3)的切线(T)。
2.根据权利要求1所述的支架板(1)，其中，所述基表面(B)在平行于所述切线(T)的第一方向逐渐变细。
3.根据权利要求2所述的支架板(1)，其中，所述基表面(B)在与所述第一方向相反的第二方向逐渐变细。
4.根据上述权利要求中任一项所述的支架板(1)，其中，所述基表面(B)在所述纵向方向上在其一端具有指向所述纵向方向(L)的尖端(5)。
5.根据上述权利要求1-3中任一项所述的支架板(1)，其中，所述基表面(B)在所述纵向方向上在其一端被倒圆(4)。
全文摘要
本发明公开了一种支承研磨体的支架板。支承用于研磨和/或抛光石头、混凝土、水磨石等的硬地板表面的研磨体的支架板(1)具有用于将其安装在从动研磨板(3)上的元件(6)，从动研磨板(3)平直地、基本平行于所述地板表面旋转。支架板(1)承载至少两个研磨体(2)，每个研磨体(2)具有由两个相互隔开基本平行的基表面(B)和至少一个在基表面的边缘之间延伸的侧表面(S)确定的几何体的形状。基表面(B)基本平行于支架板(1)，并且基本为长方形的或椭圆形的。研磨体(2)设置在支架板(1)上，使得当支架板(1)安装在研磨板(3)上时，相关的基表面的纵向方向(L)基本平行于研磨板(3)的切线(T)。
文档编号B24DGK1781664SQ20051012681
公开日2006年6月7日 申请日期2005年11月22日 优先权日2004年11月29日
发明者黑坎·锡塞尔 申请人:Htc瑞典公司