专利名称：一种真空离子镀膜机的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种真空离子镀膜设备。
背景技术：
目前，镀制复合膜过程中由于设备结构的局限，需要在多台设备装置中进行镀履 或者停机更换功能靶，造成操作不便，工艺重复性差，同时膜层会出现附着力、致密度差，颜 色不均勻的缺陷。
实用新型内容本实用新型的目的在于提供一种能使被镀表面方便地制取金属膜、非金属膜、单 层膜或多层膜的离子镀膜机，其结构简单，镀膜效果好。为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案一种真空离子镀膜机，包括真空室、与真空室底部相连的抽气机、安装在真空室内 的转架，其特征在于还包括安装在真空室内的加热器件，控制加热器件的驱动电源，交替 安装在真空室内壁及底部的电子弧源和磁控溅射靶。所述电子弧源和所述磁控溅射靶是通过法兰盘和密封圈与真空室可拆卸连接。所述电子弧源和所述磁控溅射靶均为圆柱形。上述每个电子弧源和磁控溅射靶各连接一个驱动电源。当需要进行高温镀制薄膜时，可启动真空室内的加热器件。由于每个电子弧源和 磁控溅射靶都有各自的驱动电源，各功能靶的使用互不影响，可根据工艺需要，启用所需要 的功能靶。从而达到在一次排空条件下，在同一真空室内，简单方便地制备各种单层膜或多 层膜，金属膜或非金属膜。磁控溅射和电子蒸发技术融为一体，解决了膜层附着性、致密度 差、颜色不均勻的问题。
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
如附图1所示，本实用新型包括真空室1，真空室内安装有可挂加工组件的转架2， 转架2是通过法兰盘3和密封圈4固定在真空室中。真空室的底部右边开有一小孔与抽气 机6连接。真空室的底部左边安装有一加热器件5，控制加热器件的驱动电源8置于真空室 外面与加热器件连接。电子弧源7和磁控溅射靶9交替安装在真空室内，与转架2固定在 真空室中的方法相同，电子弧源7和磁控溅射靶也是通过法兰盘3和密封圈固定在真空室 中。每个电子弧源7和磁控溅射靶9连接一个驱动电源8。使用时，可根据工艺需要决定启 用电子弧源7或是磁控溅射靶9，或是同时启用电子弧源7和磁控溅射靶9。若需要在高温 的条件下镀膜，只需通过驱动电源8启用加热器件即可。
权利要求1.一种真空离子镀膜机，包括真空室、与真空室底部相连的抽气机、安装在真空室内的 转架，其特征在于还包括安装在真空室内的加热器件，控制加热器件的驱动电源，交替安 装在真空室内壁及底部的电子弧源和磁控溅射靶。
2.如权利要求1所述的一种真空离子镀膜机，其特征在于所述电子弧源和所述磁控 溅射靶是通过法兰盘和密封圈与真空室可拆卸连接。
3.如权利要求1所述的一种真空离子镀膜机，其特征在于所述电子弧源和所述磁控 溅射靶均为圆柱形。
4.如权利要求1至3中任意一项所述的一种真空离子镀膜机，其特征在于每个电子 弧源和磁控溅射靶各连接一个驱动电源。
专利摘要本实用新型涉及一种真空离子镀膜设备，包括真空室、与真空室底部相连的抽气机、安装在真空室内的转架，还包括安装在真空室内的加热器件、交替安装在真空室内壁及底部的电子弧源和磁控溅射靶，每个电子弧源和磁控溅射靶均连接一个驱动电源。本实用新型将磁控溅射与电弧电子蒸发两种技术融为一体，同时结合加热装置，具有一机多功能的特点，并且能使镀膜膜层附着力、致密度、重复度好、一致性好。
文档编号C23C14/22GK201890919SQ201020628880
公开日2011年7月6日 申请日期2010年11月26日 优先权日2010年11月26日
发明者黄瑞安 申请人:黄瑞安