专利名称：有机小分子热蒸发坩埚组件的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种真空热蒸发工艺设备，特别是涉及一种有机小分子热蒸发坩埚组件。
背景技术：
有机半导体技术由于其低成本、可柔性、易于大面积成膜等特点而成为当前研究开发的热点，基于有机半导体材料的有机发光、有机太阳能、有机薄膜晶体管、有机激光、有机存储、有机传感器等近年来都在快速的发展中。有机半导体材料有小分子和聚合物两种， 有机小分子器件一般采用真空热蒸发技术制备，而聚合物器件一般采用溶液法制备，由于技术的相对成熟，基于真空热蒸发工艺的有机小分子器件近年来得到了相对较快的发展。有机小分子器件的制备过程一般是在高真空(10_3Pa I(T7Pa)环境下，通过加热石英或陶瓷坩埚内的有机材料使其熔化、挥发，从而沉积到坩埚上方的基片上，对于有机材料的真空热蒸发工艺来说，最重要的是在基片上形成均勻分布的有机薄膜，因此，各种提高有机薄膜均勻性的坩埚技术应运而生，包括有线性蒸发源技术，以及在坩埚上加上一层具有一定空间分布的出料孔的上盖等，在充分考虑真空中粒子宏观运动规律的基础上，通过蒸发源的加长、出料孔的合理空间位置分布，来达到提高有机薄膜均勻性的目的。然而，在现有的技术中，缺乏避免坩埚形状引起的薄膜均勻性变差的合理设计，研究发现，真空中粒子的运动与坩埚的形状、深度、开口大小密切相关，由于工业生产中每次加料比较多，坩埚必须具有一定的容量与深度，因此，当坩埚深度太深而开口不够大时所引起的薄膜均勻变差的现象，将随着基片尺寸、坩埚尺寸的越来越大而更加明显。鉴于此，实有必要设计一种有机小分子热蒸发坩埚组件，用于解决上述技术问题。
发明内容
鉴于以上所述现有技术的缺点，本发明的目的在于提供一种有机小分子热蒸发坩埚组件，用于解决现有技术中因坩埚形状引起的有机薄膜均勻性变差的问题。为实现上述目的及其他相关目的，本发明提供一种有机小分子热蒸发坩埚组件， 该坩埚组件包括坩埚本体以及三层盖板；所述三层盖板包括设置在坩埚口的底层盖板、位于底层盖板上的中层盖板以及位于中层盖板上的顶层盖板；所述底层盖板上设有若干通孔；所述中层盖板上至少设有一个微腔室；所述顶层盖板上至少设有一个出料孔；所述出料孔和通孔均与所述微腔室贯通；所述出料孔和通孔在同一水平面上的投影不重叠。优选地，所述通孔1011与出料孔1031在同一水平面上投影的间距d满足的关系如下
权利要求
1.一种有机小分子热蒸发坩埚组件，其特征在于，该坩埚组件包括坩埚本体(100) 以及三层盖板；所述三层盖板包括设置在坩埚口的底层盖板(101)、位于底层盖板上的中层盖板(102)以及位于中层盖板上的顶层盖板(10 ；所述底层盖板上设有若干通孔 (1011)；所述中层盖板上至少设有一个微腔室(1021)；所述顶层盖板上至少设有一个出料孔(1031)；所述出料孔(1031)和通孔(1011)均与所述微腔室(1021)贯通；所述出料孔 (1031)和通孔(1011)在同一水平面上的投影不重叠。
2.根据权利要求1所述的有机小分子热蒸发坩埚组件，其特征在于所述通孔(1011) 与出料孔(1031)在同一水平面上投影的间距d满足的关系如下
3.根据权利要求1所述的有机小分子热蒸发坩埚组件，其特征在于所述顶层盖板厚度为0. 05mm，所述出料孔(1031)的孔径为0. 3mm。
4.根据权利要求1所述的有机小分子热蒸发坩埚组件，其特征在于所述中层盖板的厚度为0. 05mm，所述微腔室为圆柱体，其横截面的直径为2. 5mm。
5.根据权利要求1所述的有机小分子热蒸发坩埚组件，其特征在于所述底层盖板的厚度为0. Imm,所述通孔大小相等，数目为四个，呈中心对称排列。
6.根据权利要求5所述的有机小分子热蒸发坩埚组件，其特征在于所述通孔直径为 0. 5mmο
7.根据权利要求1所述的有机小分子热蒸发坩埚组件，其特征在于所述顶层盖板、中层盖板以及底层盖板的材料为金属材料或者具有传热性的绝缘材料。
全文摘要
本发明提供一种有机小分子热蒸发坩埚组件，该坩埚组件包括坩埚本体(100)以及三层盖板；所述三层盖板包括设置在坩埚口的底层盖板(101)、位于底层盖板上的中层盖板(102)以及位于中层盖板上的顶层盖板(103)；所述底层盖板上设有若干通孔(1011)；所述中层盖板上至少设有一个微腔室(1021)；所述顶层盖板上至少设有一个出料孔(1031)；所述出料孔(1031)和通孔(1011)均与所述微腔室(1021)贯通；所述出料孔(1031)和通孔(1011)在同一水平面上的投影不重叠。本发明有效的解决了现有技术中因坩埚形状引起的有机薄膜均匀性变差的问题。
文档编号C23C14/24GK102392219SQ20111041716
公开日2012年3月28日 申请日期2011年12月14日 优先权日2011年12月14日
发明者容佳玲, 张建华, 曹进, 王立 申请人:上海大学