专利名称：调节式布气系统及包含其的磁控溅射镀膜装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及磁控溅射镀膜技术领域，尤其涉及一种调节式布气系统，以及包含该调节式布气系统的磁控溅射镀膜装置。
背景技术：
磁控溅射镀膜技术是当前广泛应用的镀膜技术方法，被普遍应用于光学、微电子、耐磨、耐蚀、装饰等产业领域，用以提供可靠而稳定的薄膜镀层。如装饰用彩色镀膜，手机壳镀膜，建筑玻璃low-e镀膜，ITO透明导电玻璃镀膜等。磁控溅射镀膜的均匀性非常重要，尤其是对于光学、微电子产品镀膜，其均匀性对产品的质量和成品率有重要影响。影响磁控溅射镀膜均匀性的因素很多，包括温场均匀性，等离子体均匀性、工艺气体布气均匀性、磁场的均匀性等。对于布气系统，传统的是采用单一进气管的方式，采用此种方式布气容易出现布气不够均匀，由于平面靶主要是长方形，长宽比很大，因此其主要存在纵向布气不均匀问题，即靶面从上到下布气分布不均匀，从左到右的布气则基本均匀。为了解决上述问题，有技术人员提出一种混合式布气管，用于解决单一进气管布气不均匀的问题，例如，中国专利文献CN 202322999U公开一种“混合式布气管”，其包括进气管和输气管，所述进气管与所述输气管的进气口相连接，所述输气管分布有多层，其出气口连接有减压管，所述减压管上均布有出气孔，上述混合式布气管通过增设减压管，气体通过在减压管内体积膨胀的减压作用，从而获得流经各小孔气体的等流速，达到布气均匀的效果。但是此混合式布气管具有以下缺陷:1、此布气系统虽然可进一步优化布气的均匀性，但是其缺乏可调节性，是一种预设固定好的装置，只有一定的适用范围，对于对薄膜一致性要求高的应用领域，当气体流速改变，气孔出现堵塞，气体种类改变以及靶基距不均匀等情况出现时，其应用效果会下降；2、对布气均匀性的调节缺乏量化指标，大多凭经验判断。又例如，中国专利文献CN 201313933Y公开一种“二元布气管”，其包括磁控溅射阴极的进气管、控制进气管流量的阀门，所述磁控溅射阴极的进气管的末端部分和中间部分各自采用独立的进气管分别供气。通过构建一种二元布气管，使磁控溅射阴极末端部分和中间部分都能更加均匀地进气，从而使反应溅射镀膜更加均匀。此二元布气管虽然具有可调节性，但是其不具有测量不同区域的布气量的功能，不能实现定量测量，因此在镀制不同膜层厚度时，只能根据经验调节和判断，所以不能应用到精确镀膜中，并且其布气方式结构复杂，成产成本较高，操作和维护也很困难。
实用新型内容本实用新型的一个目的，在于提供一种调节式布气系统，使得布气更加均匀，同时还可根据实际需要调节气体的流量，以及对不同区域的布气量进行精确的定量测量，达到实时控制、精确镀膜的目的。本实用新型的另一个目的，在于提供一种调节式布气系统，其结构简单，操作和维护方便，成产成本低廉。本实用新型的另一个目的，在于提供一种磁控溅射镀膜装置，通过使用可调式布气系统，使得布气更加均匀，同时还可根据实际需要调节气体的流量，以及对不同区域的布气量进行精确的定量测量，达到实时控制、精确镀膜的目的，并且使整个装置的结构简单化，操作和维护方便，降低生产成本。为达上述目的，本实用新型采用以下技术方案:一种调节式布气系统，包括至少两根平行设置的布气管，每根所述布气管上均设置流量计，相邻两根所述布气管上错列设置吹气部。作为调节式布气系统的一种优选方案，所述吹气部是由多个规格相同的均匀排列的气孔构成，每个气孔沿布气管的径向开设，多个气孔在布气管沿其轴向依次布置。优选的，所述布气管有三根，分别为第一布气管、第二布气管和第三布气管，所述第一布气管、第二布气管和第三布气管上均设置与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配的吹气段，此吹气段从上至下均分为三段，分别为第一段、第二段、第三段，所述第一布气管的第二段设置吹气部，所述第二布气管的第一段设置吹气部，所述第三布气管的第三段设置吹气部，三个所述吹气部的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配。更加优选的，所述吹气部包括均匀排列的二十三个气孔。优选的，所述布气管有三根，分别为第一布气管、第二布气管和第三布气管，所述第一布气管、第二布气管和第三布气管上均设置与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配的吹气段，此吹气段从上至下均分为三段，分别为第一段、第二段、第三段；所述第一布气管的第一段、第二段和第三段上分别设置第二吹气部、第一吹气部和第三吹气部，所述第二布气管的第一段、第二段和第三段上分别设置第四吹气部、第五吹气部和第六吹气部，所述第三布气管的第一段、第二段和第三段上分别设置第八吹气部、第九吹气部和第七吹气部；所述第二吹气部的气孔密度、所述第三吹气部的气孔密度、所述第五吹气部的气孔密度、所述第六吹气部的气孔密度、所述第八吹气部的气孔密度、所述第九吹气部的气孔密度均相同，且均为第一密度；所述第一吹气部的气孔密度、所述第四吹气部的气孔密度、所述第七吹气部的气孔密度均相同，且均为第二密度；第二密度大于第一密度；所述第一吹气部、第二吹气部、第三吹气部的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配；所述第四吹气部、第五吹气部、第六吹气部的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配；所述第七吹气部、第八吹气部、第九吹气部的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配；所述第一吹气部、第四吹气部、第七吹气部的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配。更加优选的，所述第一吹气部、第四吹气部以及第七吹气部均具有相同的第一长度，并且在相同的第一长度上分别均匀排列二十三个气孔，以使上述三吹气部具有相同的第一气孔密度；所述第二吹气部、第三吹气部、第五吹气部、第六吹气部、第八吹气部、第九吹气部均具有相同的第二长度，并且在相同的第二长度上分别均匀排列的七个气孔，以使上述六吹气部具有相同的第二气孔密度；第一长度与第二长度相同，使得第一气孔密度大于第二气孔密度。[0019]优选的,所述布气管有四根,分别为第一布气管、第二布气管、第三布气管和第四布气管，所述第一布气管、第二布气管、第三布气管和第四布气管上均设置与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配的吹气段，此吹气段从上至下均分为四段，分别为第一段、第二段、第三段、第四段；所述第一布气管的第三段设置吹气部，所述第二布气管的第二段设置吹气部，所述第三布气管的第一段设置吹气部，所述第四布气管的第四段设置吹气部，四个所述吹气部的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配。更加优选的，所述吹气部包括均匀排列的十六个气孔。优选的，所述布气管有四根，分别为第一布气管、第二布气管、第三布气管和第四布气管，所述第一布气管、第二布气管、第三布气管和第四布气管上均设置与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配的吹气段，此吹气段从上至下均分为四段，分别为第一段、第二段、第三段、第四段；所述第一布气管的第一段、第二段、第三段、第四段分别设置第二吹气部、第三吹气部、第一吹气部和第四吹气部；所述第二布气管的第一段、第二段、第三段、第四段分别设置第六吹气部、第五吹气部、第七吹气部和第八吹气部；所述第三布气管的第一段、第二段、第三段、第四段分别设置第九吹气部、第十吹气部、第十一吹气部和第十二吹气部；所述第四布气管的第一段、第二段、第三段、第四段分别设置第十四吹气部、第十五吹气部、第十六吹气部和第十三吹气部；所述第二吹气部的气孔密度、所述第三吹气部的气孔密度、所述第四吹气部的气孔密度、所述第六吹气部的气孔密度、所述第七吹气部的气孔密度、所述第八吹气部的气孔密度、所述第十吹气部的气孔密度、所述第十一吹气部的气孔密度、所述第十二吹气部的气孔密度、所述第十四吹气部的气孔密度、所述第十五吹气部的气孔密度、所述第十六吹气部的气孔密度均相同，且均为第一密度；所述第一吹气部的气孔密度、所述第五吹气部的气孔密度、所述第九吹气部的气孔密度和第十三吹气部的气孔密度均相同，且均为第二密度；第二密度大于第一密度；所述第一吹气部、第二吹气部、第三吹气部、第四吹气部的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配；所述第五吹气部、第六吹气部、第七吹气部、第八吹气部的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配；所述第九吹气部、第十吹气部、第十一吹气部、第十二吹气部的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配；所述第十三吹气部、第十四吹气部、第十五吹气部、第十六吹气部的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配；所述第一吹气部、第五吹气部、第九吹气部、第十三吹气部的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配。更加优选的，所述第一吹气部、第五吹气部、第九吹气部以及第十三吹气部均具有相同的第三长度，在相同的第三长度上分别均匀排列十六个气孔，以使上述的四个吹气部具有相同的第三气孔密度；所述第二吹气部、第三吹气部、第四吹气部、第六吹气部、第七吹气部、第八吹气部、第十吹气部、第i^一吹气部、第十二吹气部、第十四吹气部、第十五吹气部、第十六吹气部均具有相同的第四长度，在相同的第四长度上分别均匀排列六个气孔，以使上述的十二个吹气部具有相同的第四气孔密度；上述的第三长度与第四长度相同，以使第三气孔密度大于第四气孔密度。[0028]优选的，所述气孔为圆形孔、方形孔或者异型孔。一种磁控溅射镀膜装置，包含如上述所述的调节式布气系统，还包括磁控溅射靶，所述磁控溅射靶一侧设置靶面，所述靶面至少一侧设置所述布气系统，所述布气系统的气体流向与所述靶面平行。作为磁控溅射镀膜装置的一种优选方案，所述靶面两侧均设置所述布气系统。优选的，所述布气系统包括至少两根平行设置的布气管，每根所述布气管上均设置流量计，相邻两根所述布气管上错列设置吹气部。对比现有技术，本实用新型的有益效果为:1、通过将布气系统设置为至少两根布气管，并在相邻两根布气管上错列设置吹气部，可以使布气系统吹出的气体能均匀的到达靶面，保证磁控溅射装置镀制的膜层均匀，稳
定可靠；2、通过在布气管上设置流量计，使气体的流量可实时的调节，即根据靶面距待镀膜物体表面的距离、镀膜厚度的不同，精确的调节气体的流量，并且能使各个布气管上吹出的气体的流量相等，达到实时控制、精确镀膜的目的；3、通过将调节式布气系统运用到磁控溅射镀膜装置中，不仅可以实时精确的调整气体的流量，使镀制的膜层均匀，且整个装置的结构简单，操作和维护方便，生产成本低。
图1为实施例一所述的调节式布气系统的结构示意图；图2为实施例一中所述的第一布气管的结构不意图；图3为实施例一中所述的第二布气管的结构示意图；图4为实施例一中所述的第三布气管的结构不意图；图5为实施例一所述的包含调节式布气系统的磁控溅射镀膜装置的结构示意图；图6为实施例二所述的调节式布气系统的结构示意图；图7为实施例二中所述的第一布气管的结构示意图；图8为实施例二中所述的第二布气管的结构示意图；图9为实施例二中所述的第三布气管的结构示意图；图10为实施例二中所述的第四布气管的结构示意图；图11为实施例二所述的包含调节式布气系统的磁控溅射镀膜装置的结构示意图。图1 5中:1、布气系统；11、第一布气管；111、第一吹气部；112、第二吹气部；113、第三吹气部；12、第二布气管；121、第四吹气部；122、第五吹气部；123、第六吹气部；13、第三布气管；131、第七吹气部；132、第八吹气部；133、第九吹气部；14、第一流量计；15、第二流量计；16、第三流量计；17、气孔；2、磁控溅射靶；3、靶面。图6 11 中:4、布气系统；[0056]41、第一布气管；411、第一吹气部；412、第二吹气部；413、第三吹气部；414、第四吹气部；42、第二布气管；421、第五吹气部；422、第六吹气部；423、第七吹气部；424、第八吹气部；43、第三布气管；431、第九吹气部；432、第十吹气部；433、第i^一吹气部；434、第十二吹气部；44、第四布气管；441、第十三吹气部；442、第十四吹气部；443、第十五吹气部；444、第十六吹气部；45、第一流量计；46、第二流量计；47、第三流量计；48、第四流量计；49、气孔；5、磁控派射祀；6、革巴面。
具体实施方式
实施例一:如图1所示，此实施例中所述的调节式布气系统，包括三根平行设置的布气管，分别为第一布气管11、第二布气管12和第三布气管13，在第一布气管11上设置用于控制其气体流量的第一流量 计14，在第二布气管12上设置用于控制其气体流量的第二流量计15，在第三布气管13上设置用于控制其气体流量的第三流量计16。第一布气管11、第二布气管12和第三布气管13上设置有与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配的吹气段，且三个布气管的吹气段长度一致。如图2所示，第一布气管11的吹气段从上至下均分为三段，即第一段、第二段、第三段，第一布气管11的第一段、第二段和第三段上分别设置第二吹气部112、第一吹气部111和第三吹气部113，吹气部均是由多个规格相同的均匀排列的气孔17构成，且每个气孔17沿第一布气管11的径向开设，多个气孔17在第一布气管11上沿其轴向布置。第二吹气部112中的气孔数量等于第三吹气部113中的气孔数量，且均为七个气孔17，第一吹气部111中的气孔数量大于第二吹气部112中的气孔数量，且为二十三个气孔17，第一吹气部111、第二吹气部112、第三吹气部113的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配。如图3所示，第二布气管12的吹气段从上至下均分为三段，即第一段、第二段、第三段，第二布气管12的第一段、第二段和第三段上分别设置第四吹气部121、第五吹气部122和第六吹气部123，吹气部均是由多个规格相同的均匀排列的气孔17构成，且每个气孔17沿第二布气管12的径向开设，多个气孔17在第二布气管11上沿其轴向布置。第五吹气部122中的气孔数量等于第六吹气部123中的气孔数量，且均为七个气孔17，第四吹气部121中的气孔数量大于第五吹气部122中的气孔数量，且为二十三个气孔17，第四吹气部121、第五吹气部122、第六吹气部123的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配。如图4所示，第三布气管13的吹气段从上至下均分为三段，即第一段、第二段、第三段，第三布气管13的第一段、第二段和第三段上分别设置第八吹气部132、第九吹气部133和第七吹气部131，吹气部均是由多个规格相同的均匀排列的气孔17构成，且每个气孔17沿第三布气管13的径向开设，多个气孔17在第三布气管13上沿其轴向布置。[0070]第八吹气部132中的气孔数量等于第九吹气部133中的气孔数量，且均为七个气孔17，第七吹气部131中的气孔数量大于第八吹气部132中的气孔数量，且为二十三个气孔17，第七吹气部131、第八吹气部132、第九吹气部133的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配。且第一吹气部111、第四吹气部121、第七吹气部131的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配，使得整个均匀的气流能布满磁控溅射靶的靶面。此实施例中，气孔17为圆形孔。如图5所示，此实施例中所述的磁控溅射镀膜装置，包括磁控溅射靶2，磁控溅射靶2前侧设置靶面3，靶面3呈长方形，在靶面3的一侧设置上述的调节式布气系统1，此布气系统I气体的流向与靶面平行。布气系统I包括平行设置在靶面3—侧的第一布气管11、第二布气管12和第三布气管13，在第一布气管11上设置第一流量计14，在第二布气管12上设置第二流量计15，在第三布气管13上设置第三流量计16。工作原理如下:气体由管道分流至第一布气管11、第二布气管12和第三布气管13内，然后再从布气管上设置的吹气部吹出，调节第一流量计14、第二流量计15、第三流量计16使第一吹气部111、第四吹气部121、第七吹气部131吹出的气体均匀，因为第一吹气部111、第四吹气部121、第七吹气部131为密集的气孔17构成，因此只要保证此三个吹气部的气流稳定一致，即可使靶面3纵向方向上的气体均匀，进而保证镀制的膜层均匀，当靶面3与待镀制薄膜的产品的距离调整时，只需要调整流量计，就能达到精确镀膜的目的。实施例二:如图6所示，此实施例中所述的调节式布气系统，包括四根平行设置的布气管，分别为第一布气管41、第二布气管42、第三布气管43和第四布气管44，在第一布气管41上设置用于控制其气体流量的第一流量计45，在第二布气管42上设置用于控制其气体流量的第二流量计46，在第三布气管43上设置用于控制其气体流量的第三流量计47，在第四布气管44上设置用于控制其气体流量的第四流量计48。第一布气管41、第二布气管42、第三布气管43和第四布气管44上设置有与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配的吹气段，且四个布气管的吹气段长度一致。如图7所示，第一布气管41的吹气段从上至下均分为四段，即第一段、第二段、第三段、第四段，第一布气管41的第一段、第二段、第三段和第四段上分别设置第二吹气部412、第三吹气部413、第一吹气部411和第四吹气部414，吹气部均是由多个规格相同的均匀排列的气孔49构成，且每个气孔49沿第一布气管41的径向设置，多个气孔49在第一布气管41上沿其轴向布置。第二吹气部412、第三吹气部413以及第四吹气部414中的气孔数量均为六个，第一吹气部411中的气孔数量大于第二吹气部412中的气孔数量，且为十六个，第一吹气部411、第二吹气部412、第三吹气部413、第四吹气部414的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配。如图8所示，第二布气管42的吹气段从上至下均分为四段，即第一段、第二段、第三段、第四段，第二布气管42的第一段、第二段、第三段和第四段上分别设置第六吹气部422、第五吹气部421、第七吹气部423和第八吹气部424，吹气部均是由多个规格相同的均匀排列的气孔49构成，且每个气孔49沿第二布气管42的径向设置，多个气孔49在第二布气管42上沿其轴向布置。第六吹气部422、第七吹气部423以及第八吹气部424中的气孔数量均为六个，第五吹气部421中的气孔数量大于第六吹气部422中的气孔数量，且为十六个，第五吹气部421、第六吹气部422、第七吹气部423、第八吹气部424的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配。如图9所示，第三布气管43的吹气段从上至下均分为四段，即第一段、第二段、第三段、第四段，第三布气管43的第一段、第二段、第三段和第四段上分别设置第九吹气部431、第十吹气部432、第i^一吹气部433和第十二吹气部434，吹气部均是由多个规格相同的均匀排列的气孔49构成，且每个气孔49沿第三布气管43的径向设置，多个气孔49在第三布气管43上沿其轴向设置。第十吹气部432、第i^一吹气部433以及第十二吹气部434中的气孔数量均为六个，第九吹气部431中的气孔数量大于第十吹气部432中的气孔数量，且为十六个，第九吹气部431、第十吹气部432、第i^一吹气部433和第十二吹气部434的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配。如图10所示，第四布气管44的吹气段从上至下均分为四段，即第一段、第二段、第三段、第四段，第四布气管44的第一段、第二段、第三段和第四段上分别设置第十四吹气部442、第十五吹气部443、第十六吹气部444和第十三吹气部441，吹气部均是由多个规格相同的均匀排列的气孔49构成，且每个气孔49沿第四布气管44的径向设置，多个气孔49在第四布气管44上沿其轴向设置。第十四吹气部442、第十五吹气部443、第十六吹气部444中的气孔数量均为六个，第十三吹气部441中的气孔数量大于第十四吹气部442中的气孔数量，且为十六个，第十三吹气部441、第十四吹气部 442、第十五吹气部443、第十六吹气部444的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配。且第一吹气部411、第五吹气部421、第九吹气部431、第十三吹气部441的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配，使得整个均匀的气流能布满磁控溅射靶的靶面。此实施例中，气孔17为圆形孔。如图11所示，此实施例中所述的磁控溅射镀膜装置，包括磁控溅射靶5，磁控溅射靶5前侧设置靶面6，靶面6呈长方形，在靶面6的两侧对称设置调节式布气系统4，此两个布气系统4气体的流向与祀面6平行。布气系统4包括第一布气管41、第二布气管42、第三布气管43和第四布气管44，在第一布气管41上设置用于控制其气体流量的第一流量计45，在第二布气管42上设置用于控制其气体流量的第二流量计46，在第三布气管43上设置用于控制其气体流量的第三流量计47，在第四布气管44上设置用于控制其气体流量的第四流量计48。工作原理如下:气体由管道分流至第一布气管41、第二布气管42、第三布气管43和第四布气管44内，然后再从布气管上设置的吹气部吹出，调节第一流量计45、第二流量计46、第三流量计47、第四流量计48使第一吹气部411、第五吹气部421、第九吹气部431以及第十三吹气部441吹出的气体均匀，因为第一吹气部411、第五吹气部421、第九吹气部431以及第十三吹气部441为密集的气孔17构成，因此只要保证此四个吹气部的气流稳定一致，即可使靶面6纵向方向上的气体均匀，进而保证镀制的膜层均匀，当靶面6与待镀制薄膜的产品的距离调整时，只需要调整流量计，就能达到精确镀膜的目的。布气管的数量不限于上述实施例一和实施例二所述的三根和四根，同时吹气段也不限于上述实施例一和实施例二所述的三段和四段。以上结合具体实施例描述了本实用新型的技术原理。这些描述只是为了解释本实用新型的原理，而不能以任何方式解释为对本实用新型保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本实用新型的其它具体实施方式
，这些方式都将落入本实用新型的保护范围之内。
权利要求1.一种调节式布气系统，其特征在于，包括至少两根平行设置的布气管，每根所述布气管上均设置流量计，相邻两根所述布气管上错列设置吹气部。
2.根据权利要求1所述的调节式布气系统，其特征在于，所述吹气部是由多个规格相同的均匀排列的气孔构成，每个气孔沿布气管的径向开设，多个气孔在布气管沿其轴向依次布置。
3.根据权利要求2所述的调节式布气系统，其特征在于，所述布气管有三根，分别为第一布气管、第二布气管和第三布气管，所述第一布气管、第二布气管和第三布气管上均设置与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配的吹气段，此吹气段从上至下均分为三段，分别为第一段、第二段、第三段，所述第一布气管的第二段设置吹气部，所述第二布气管的第一段设置吹气部，所述第三布气管的第三段设置吹气部，三个所述吹气部的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配。
4.根据权利要求2所述的调节式布气系统，其特征在于，所述布气管有三根，分别为第一布气管、第二布气管和第三布气管，所述第一布气管、第二布气管和第三布气管上均设置与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配的吹气段，此吹气段从上至下均分为三段，分别为第一段、第二段、第三段； 所述第一布气管的第一段、第二段和第三段上分别设置第二吹气部、第一吹气部和第三吹气部，所述第二布气管的第一段、第二段和第三段上分别设置第四吹气部、第五吹气部和第六吹气部，所述第三布气管的第一段、第二段和第三段上分别设置第八吹气部、第九吹气部和第七吹气部； 所述第二吹气部的气孔密度、所述第三吹气部的气孔密度、所述第五吹气部的气孔密度、所述第六吹气部的气 孔密度、所述第八吹气部的气孔密度、所述第九吹气部的气孔密度均相同，且均为第一密度； 所述第一吹气部的气孔密度、所述第四吹气部的气孔密度、所述第七吹气部的气孔密度均相同，且均为第二密度；第二密度大于第一密度； 所述第一吹气部、第二吹气部、第三吹气部的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配；所述第四吹气部、第五吹气部、第六吹气部的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配；所述第七吹气部、第八吹气部、第九吹气部的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配；所述第一吹气部、第四吹气部、第七吹气部的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配。
5.根据权利要求2所述的调节式布气系统，其特征在于，所述布气管有四根，分别为第一布气管、第二布气管、第三布气管和第四布气管，所述第一布气管、第二布气管、第三布气管和第四布气管上均设置与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配的吹气段，此吹气段从上至下均分为四段，分别为第一段、第二段、第三段、第四段； 所述第一布气管的第三段设置吹气部，所述第二布气管的第二段设置吹气部，所述第三布气管的第一段设置吹气部，所述第四布气管的第四段设置吹气部，四个所述吹气部的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配。
6.根据权利要求2所述的调节式布气系统，其特征在于，所述布气管有四根，分别为第一布气管、第二布气管、第三布气管和第四布气管，所述第一布气管、第二布气管、第三布气管和第四布气管上均设置与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配的吹气段，此吹气段从上至下均分为四段，分别为第一段、第二段、第三段、第四段； 所述第一布气管的第一段、第二段、第三段、第四段分别设置第二吹气部、第三吹气部、第一吹气部和第四吹气部；所述第二布气管的第一段、第二段、第三段、第四段分别设置第六吹气部、第五吹气部、第七吹气部和第八吹气部；所述第三布气管的第一段、第二段、第三段、第四段分别设置第九吹气部、第十吹气部、第十一吹气部和第十二吹气部；所述第四布气管的第一段、第二段、第三段、第四段分别设置第十四吹气部、第十五吹气部、第十六吹气部和第十三吹气部； 所述第二吹气部的气孔密度、所述第三吹气部的气孔密度、所述第四吹气部的气孔密度、所述第六吹气部的气孔密度、所述第七吹气部的气孔密度、所述第八吹气部的气孔密度、所述第十吹气部的气孔密度、所述第十一吹气部的气孔密度、所述第十二吹气部的气孔密度、所述第十四 吹气部的气孔密度、所述第十五吹气部的气孔密度、所述第十六吹气部的气孔密度均相同，且均为第一密度； 所述第一吹气部的气孔密度、所述第五吹气部的气孔密度、所述第九吹气部的气孔密度和第十三吹气部的气孔密度均相同，且均为第二密度；第二密度大于第一密度； 所述第一吹气部、第二吹气部、第三吹气部、第四吹气部的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配；所述第五吹气部、第六吹气部、第七吹气部、第八吹气部的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配；所述第九吹气部、第十吹气部、第i^一吹气部、第十二吹气部的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配；所述第十三吹气部、第十四吹气部、第十五吹气部、第十六吹气部的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配；所述第一吹气部、第五吹气部、第九吹气部、第十三吹气部的长度之和与磁控溅射靶的靶面的长度相匹配。
7.根据权利要求2 6任一所述的调节式布气系统，其特征在于，所述气孔为圆形孔、方形孔或者异型孔。
8.—种磁控溅射镀膜装置，包含如权利要求1 7任一项所述的调节式布气系统，其特征在于，还包括磁控溅射靶，所述磁控溅射靶一侧设置靶面，所述靶面至少一侧设置所述布气系统，所述布气系统的气体流向与所述靶面平行。
9.根据权利要求8所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述靶面两侧均设置所述布气系统。
10.根据权利要求8或9所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述布气系统包括至少两根平行设置的布气管，每根所述布气管上均设置流量计，相邻两根所述布气管上错列设置吹气部。
专利摘要本实用新型公开一种调节式布气系统及包含其的磁控溅射镀膜装置，包括至少两根平行设置的布气管，每根布气管上均设置流量计，相邻两根布气管上错列设置吹气部，吹气部是由多个规格相同的均匀排列的气孔构成，每个气孔沿布气管的径向开设，多个气孔在布气管沿其轴向依次布置。通过将布气系统设置为至少两根布气管，并在相邻两根布气管上错列设置吹气部，可以使布气系统吹出的气体能均匀的到达靶面，保证膜层均匀；通过在布气管上设置流量计，使气体的流量可实时的调节，即根据靶面距待镀膜物体表面的距离、镀膜厚度的不同，精确的调节气体的流量，并且能使各个布气管上吹出的气体的流量相等，达到实时控制、精确镀膜的目的。
文档编号C23C14/35GK202936476SQ20122068033
公开日2013年5月15日 申请日期2012年12月10日 优先权日2012年12月10日
发明者陈宇 申请人:广东志成冠军集团有限公司