具有类金刚石涂层的材料及其制备方法与流程

技术特征：

1.一种具有类金刚石涂层的材料，包括：

一基材；

形成在所述基材上的一过渡层；

形成在所述过渡层上的不含氢的一类金刚石层；以及

形成在所述类金刚石层表面上的一含氟层。

2.如权利要求1所述的具有类金刚石涂层的材料，其特征在于：所述过渡层包括以下一种或多种物质：硅(Si)、氧化硅(SiO₂)、氮化硅(SiN)；以及钛(Ti)、铬(Cr)、铜(Cu)及其金属氧化物。

3.如权利要求1所述的具有类金刚石涂层的材料，其特征在于：所述过渡层的厚度范围为所述类金刚石层的厚度范围为

4.如权利要求1所述的具有类金刚石涂层的材料，其特征在于：所述基材包括以下一种或多种物质：玻璃、蓝宝石、陶瓷、聚合物、金属或金属氧化物。

5.一种具有类金刚石涂层的材料的制备方法，包括：

提供一基材；

在所述基材上采用磁控溅射沉积法沉积形成一过渡层；

在所述过渡层上采用过滤阴极真空电弧法沉积形成一不含氢的类金刚石层；以及

在所述类金刚石层上掺杂一含氟层。

6.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于：在所述过渡层上采用过滤阴极真空电弧法沉积形成一不含氢的类金刚石层步骤中还包括：在沉积过程以 预定速度旋转基材；以及在阳极施加范围在-50V到-100V之间的偏压。

7.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于：在所述类金刚石层上掺杂一含氟层步骤具体包括：采用射频化学气相沉积法掺杂所述含氟层。

8.如权利要求7所述的制备方法，其特征在于：采用射频化学气相沉积法掺杂所述含氟层步骤具体包括：采用四氟化碳(CF₄)为掺杂气体，流量范围为60sccm～100sccm，掺杂时间为10min～20min。

9.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于：在所述基材上采用磁控溅射沉积法沉积形成一过渡层步骤之前还包括：采用离子束刻蚀法清洗所述基材。

10.如权利要求9所述的制备方法，其特征在于：在采用离子束刻蚀法清洗所述基材之前，还包括利用超声波预清洗所述基材。

11.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于：所述过渡层包括以下一种或多种物质：硅(Si)、氧化硅(SiO₂)、氮化硅(SiN)；以及钛(Ti)、铬(Cr)、铜(Cu)及其金属氧化物。

12.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于：所述过渡层的厚度范围为所述类金刚石层的厚度范围为