1.一种用于金属镀膜的矩形磁控溅射靶，其特征在于：包括阳极座（1）、水冷靶座（3）、磁铁组件（4）、靶材（6）和靶背板（5），所述阳极座（1）设有矩形安装槽（11），所述水冷靶座（3）安装于矩形安装槽（11）内，所述磁铁组件（4）安装于水冷靶座（3）内并通过靶背板（5）密封，所述靶材（6）装设于靶背板（5）上，所述磁铁组件（4）包括中心磁铁（43）、两个端部磁铁（42）和多个侧部磁铁（41），所述两个端部磁铁（42）和多个侧部磁铁（41）构成矩形磁铁框，所述中心磁铁（43）沿矩形磁铁框长度方向固定于矩形磁铁框内部，每个侧部磁铁（41）固设一固定块（44），所述水冷靶座（3）内设有多个安装凸块（31），所述固定块（44）与安装凸块（31）一一对应，所述固定块（44）可移动的与安装凸块（31）连接。
2.根据权利要求1所述的用于金属镀膜的矩形磁控溅射靶，其特征在于：所述固定块（44）上设有沿矩形磁铁框的宽度方向设置的腰型孔（441），所述安装凸块（31）上设有用于固定所述固定块（44）的安装孔（311）。
3.根据权利要求1所述的用于金属镀膜的矩形磁控溅射靶，其特征在于：所述中心磁铁（43）、两个端部磁铁（42）和多个侧部磁铁（41）的外表面均包裹用于隔离冷却水的塑料层。
4.根据权利要求1至3任意一项所述的用于金属镀膜的矩形磁控溅射靶，其特征在于：所述用于金属镀膜的矩形磁控溅射靶还包括靶扣板（7），所述靶扣板（7）将靶材（6）压紧于靶背板（5）上。
5.根据权利要求1至3任意一项所述的用于金属镀膜的矩形磁控溅射靶，其特征在于：所述水冷靶座（3）与矩形安装槽（11）之间设有绝缘件（2），且水冷靶座（3）与矩形安装槽（11）的四周侧壁之间具有一定间隙。
6.根据权利要求1至3任意一项所述的用于金属镀膜的矩形磁控溅射靶，其特征在于：所述矩形安装槽（11）上的槽口端装设有方框形的阳极板（8），所述阳极板（8）与靶扣板（7）之间具有一定间隙。
7.根据权利要求6所述的用于金属镀膜的矩形磁控溅射靶，其特征在于：所述矩形安装槽（11）上的槽口端设有用于安装阳极板（8）的第一螺纹孔（111），所述矩形安装槽（11）的侧壁上设有可与所述第一螺纹孔（111）连通的排气孔（9）。
8.根据权利要求1至3任意一项所述的用于金属镀膜的矩形磁控溅射靶，其特征在于：所述水冷靶座（3）上设有用于安装靶背板（5）的第二螺纹孔（32），所述水冷靶座（3）的侧壁设有可与所述第二螺纹孔（32）连通的排气孔（9）。
9.根据权利要求1至3任意一项所述的用于金属镀膜的矩形磁控溅射靶，其特征在于：所述矩形安装槽（11）的底部设有可供冷却进水管、冷却出水管穿过的进口和出口，以及可供电极线穿过的电极引入孔，所述冷却进水管和冷却出水管均与水冷靶座（3）连通，所述电极线穿过电极引入孔与水冷靶座（3）连接。
10.根据权利要求1至3任意一项所述的用于金属镀膜的矩形磁控溅射靶，其特征在于：所述端部磁铁（42）的内侧面为圆弧面。