技术总结
本发明提供一种基板处理方法以及基板处理装置。基板处理方法是使用了处理室的基板处理方法，该处理室具有：第1处理气体供给区域；为了对供给于该第1处理气体供给区域的第1处理气体进行排气而设置的第1排气口；第2处理气体供给区域；为了对供给于该第2处理气体供给区域的第2处理气体进行排气而设置的第2排气口；将所述第1排气口和所述第2排气口连通的连通空间，在该基板处理方法中，使所述第1排气口的排气压力比所述第2排气口的排气压力高出规定压力，防止所述第2处理气体混入所述第1排气口来进行基板处理。
技术研发人员：三浦繁博;佐藤润
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
文档号码：201610512071
技术研发日：2016.06.30
技术公布日：2017.01.11