1.一种提高磁控溅射镀膜均匀性及稳定性的靶材基座，包括用于放置靶材（1）的基座（3），其特征在于，在所述基座（3）下部安装可使基座（3）旋转用于调整高度的电机（7），电机（7）的传动杆（5）的一端伸入基座（3）下部螺纹连接，且通过螺母（6）锁紧。