一种镀膜机真空室恒压自动控制系统的制作方法

本实用新型涉及真空镀膜机技术领域，具体为一种镀膜机真空室恒压自动控制系统。

背景技术：

沉积压力对结合力的影响：压力较低时，入射到衬板表面的原子发生碰撞的几率小，因而有较高的能量，有利于提高沉积时原子的扩散能力，提高薄膜的致密性和附着力，但太低气压时氩气的数量较少，使沉积速率下降；压力较高时，靶材溅射原子会因为多次碰撞而使能量下降，从而导致膜层的致密性差、结合力下降。沉积压力对颜色的影响：在不同氮气流量条件下，获得氮化钛薄膜的颜色有明显差异，这是因为氮气是反应气体，在镀膜过程中氮气流量变化时，参与成膜的N原子核Ti原子的组分发生了改变，TiN膜层的组织和颜色也随之变化，当氮气流量很小时，样品颜色为银白色，当氮气流量过大时，颜色为蓝色和紫色。颜色正好时为金黄色。得知随着氮气流量的增加时，颜色有浅色逐渐变深色。在工具镀膜行业里，要想保障镀出优质的钻头、丝锥膜层，必然要有一种具有高精度恒压自动控制功能的真空镀膜机，而这就需要一种镀膜机真空室恒压自动控制系统来完成。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种镀膜机真空室恒压自动控制系统，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种镀膜机真空室恒压自动控制系统，包括PLC控制器，所述PLC控制器包括第一PID控制器、第二PID控制器、D/A模块、A/D模块、第一定位模块和第二定位模块，所述第一PID控制器的输出端与D/A模块的输入端信号连接，所述D/A模块的输出端与质量流量计数器信号连接，所述质量流量计数器与压力控制器电性连接，所述压力控制器与真空规管检测元件的输入端信号连接，所述真空规管检测元件的输出端与A/D模块的输入端信号连接，所述第二PID控制器的输出端与第一定位模块的输入端信号连接，所述第一定位模块的输出端与伺服节流阀信号连接，所述伺服节流阀与压力控制器电性连接，所述压力控制器与真空规管检测元件信号连接，所述真空规管检测元件输出端与第二定位模块的输入端信号连接。

优选的，所述第一PID控制器和第二PID控制器外连接有指示灯。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该镀膜机真空室恒压自动控制系统设有两种方式，其一是流量计恒压控制系统（在抽速恒定的情况下，改变流量计的充气量来恒定某一个压强）；其二是伺服节流阀恒压控制系统（在充气量恒定的情况下，改变抽速来恒定某一个压强）；针对不同的工具涂层来制定的不同的系统，该实用新型具有结构合理，工作稳定，有很高实用价值。

附图说明

图1为本实用新型电子元件连接结构示意图；

图2为本实用新型电子元件连接结构示意图。

图中：第一PID控制器、第二PID控制器、D/A模块、质量流量计数器、压力控制器、真空规管检测元件、A/D模块、第一定位模块、伺服节流阀、第二定位模块。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-2，本实用新型提供一种技术方案：一种镀膜机真空室恒压自动控制系统，包括PLC控制器，所述PLC控制器包括第一PID控制器、第二PID控制器、D/A模块、A/D模块、第一定位模块和第二定位模块，所述第一PID控制器的输出端与D/A模块的输入端信号连接，所述D/A模块的输出端与质量流量计数器信号连接，所述质量流量计数器与压力控制器电性连接，所述压力控制器与真空规管检测元件的输入端信号连接，所述真空规管检测元件的输出端与A/D模块的输入端信号连接，所述第二PID控制器的输出端与第一定位模块的输入端信号连接，所述第一定位模块的输出端与伺服节流阀信号连接，所述伺服节流阀与压力控制器电性连接，所述压力控制器与真空规管检测元件信号连接，所述真空规管检测元件输出端与第二定位模块的输入端信号连接。

进一步的，所述第一PID控制器和第二PID控制器外连接有指示灯，用于指示该系统的工作情况，和电路连接情况。

工作原理：往真空室充1000ml的氮气，伺服节流阀8的角度为二十度，压力控制器4控制压强为2Pa，由于真空室内的离子环境有时会发生变化，这样真空室的压强就会跟着发生变化。这时真空规管检测装置5检测到压强为2.4Pa，将压强值反馈给PID控制器1，经过PID控制器1来运算控制，比较之后的差值990ml再发给质量流量计数器3，经过多次的运算比较，最终不改变伺服节流阀8角度十度的情况下，将真空室的压强恒定在2Pa的环境下。这样的控制要求是针对TiN、TiALN等涂层的；往真空室充1000ml的氮气，伺服节流阀8的角度为20°，压强为2Pa，由于真空室内的离子环境有时会发生变化，这样真空室的压强就会跟着发生变化。这时真空规管检测装置5检测到压强为2.4Pa，将压强值反馈给PID控制器1，经过PID控制器1来运算控制，比较之后的差值18°，再发给伺服节流8，经过多次的运算比较，最终不改变充气量1000ml的情况下，将真空室的压强恒定在2Pa的环境下。这样的控制要求是针对CrALN等涂层的。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。