技术总结
本实用新型公开一种蒸镀对位系统及蒸镀装置，涉及蒸镀技术领域，为解决待蒸镀基板因静电被吸附在冷却板上而导致蒸镀装置的工作受到不良影响的问题。所述蒸镀对位系统，包括基板载具、掩膜版载具和冷却板，冷却板内设置有分离件；对待蒸镀基板进行蒸镀时，待蒸镀基板安装在基板载具上，掩膜版安装在掩膜版载具上，待蒸镀基板位于冷却板的下方，掩膜版位于待蒸镀基板的下方；分离件可与基板载具一起相对冷却板向下移动，使待蒸镀基板与冷却板分离。分离件与基板载具一起向下移动，分离件向待蒸镀基板施加向下的力，使待蒸镀基板与冷却板分离，防止蒸镀装置的工作受到不良影响。本实用新型提供的蒸镀对位系统应用于蒸镀装置中。
技术研发人员：田川
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
文档号码：201621105664
技术研发日：2016.10.08
技术公布日：2017.03.08