技术总结
本实用新型属于机械制造技术领域，具体涉及一种精密打磨抛光装置，包括机架，所述机架上设有打磨平台，所述机架外侧环设有环形导轨，所述环形导轨的上方与径向调整轨活动连接，所述径向调整轨上设有径向调整座，所述径向调整座上设有液压伸缩装置，所述液压伸缩装置的顶部通过伸缩杆固定连接有抛光装置。本实用新型能避免电机振动导致铸件表面的抛光不均匀，有效提升加工精度及加工效率。
技术研发人员：卫正所
受保护的技术使用者：安徽巨泰机械制造有限公司
文档号码：201621183425
技术研发日：2016.11.03
技术公布日：2017.05.10