技术特征：
技术总结
本发明涉及一种多离子源溅射生产薄膜的装置及方法，该装置包括真空腔室及置于真空腔室内的靶材、离子源和产品平台；靶材及离子源均为多个且一一对应，靶材及离子源的类型能调整且两者均位于产品平台的上方，产品平台能旋转；每个离子源用于向对应的靶材溅射离子源束流，产品平台用于对从所有靶材脱离的材料分子沉积成薄膜。本发明通过将靶材及离子源均设置为多个且一一对应，通过控制离子源溅射对应类型的靶材的先后顺序，即能实现制造单层薄膜、多层薄膜及单层混合薄膜的要求，该装置在制膜过程中能将同一类型的离子源设置为多个，以提高靶材材料的沉积速度，通过调整靶材及离子源的类型，即能改变制造的单层混合薄膜中的材料成分。
技术研发人员：刘伟基;冀鸣;陈蓓丽
受保护的技术使用者：中山市博顿光电科技有限公司
技术研发日：2017.03.28
技术公布日：2017.07.11