技术特征：
技术总结
本发明提供了一种具有同一等离子体源的原子层沉积的装置及方法，包括反应物传输腔以及与反应物传输腔相邻的可移动基底，反应物传输腔内设置有至少一个独立的前驱体反应物传输渠道和至少一个与所述前驱体反应物传输渠道间隔分布的等离子体反应物传输渠道，所述前驱体反应物传输渠道出口和等离子体反应物传输渠道出口设置在反应物传输腔与可移动基底的相邻面上，所述反应物传输腔上还连接有一等离子体源，为等离子体反应物传输渠道提供等离子体反应物，所有等离子体反应物传输渠道共享同一个等离子体源。本发明通过设置多个等离子体反应物传输渠道和前驱体反应物传输渠道间隔分布，并设置可移动基底，达到高速率沉积材料的效果。
技术研发人员：李哲峰
受保护的技术使用者：李哲峰;辛玲玲
技术研发日：2017.05.17
技术公布日：2017.09.26