一种限制结构、限制装置及其调节方法和蒸镀系统与流程

本发明涉及蒸镀技术领域，具体地，涉及一种限制结构、限制装置及其调节方法和蒸镀系统。

背景技术：

目前，制备形成有机电致发光器件oled通常采用蒸镀的方法，如有机电致发光器件中的有机发光功能层和阴极通常采用蒸镀的方法形成。

蒸镀所用的点状蒸镀源装置如图1所示，加热丝紧邻蒸镀源3，加热丝通过电流加热对蒸镀源3进行加热，从而使蒸镀源3内的蒸镀材料蒸发。蒸发出来的材料以一定的角度蒸发到上方玻璃基板6上并成膜。其中，限制板7设置于蒸镀源3与玻璃基板6之间，其作用是限制蒸镀源3中材料的蒸发范围。如图2所示，传统的限制板7由两块板相互间隔限制出蒸镀源3的蒸发范围。在限制板7限制的蒸发区域范围内，通常会设置多个蒸镀源3，图2中的限制板7对每个蒸镀源3所限制的蒸镀范围是一样的。

由于单个蒸镀源3成膜膜厚从蒸镀源3正上方向四周依次减薄，在蒸镀过程中，多个蒸镀源3之间会有蒸镀重叠区域s，如图1所示，蒸镀重叠区域s的膜厚是两个蒸镀源3蒸镀膜厚的叠加，在玻璃基板6每个位置所经历的蒸镀时间相同的情况下，采用上述限制板7必然会导致整个玻璃基板6上蒸镀膜厚的不均匀。

因此，如何使蒸镀装置蒸镀形成在玻璃基板上的膜厚更加均匀已成为目前亟待解决的问题。

技术实现要素：

本发明针对现有技术中存在的上述技术问题，提供一种限制结构、限制装置及其调节方法和蒸镀系统。该限制结构能够调节第一调节结构与第二调节结构之间形成的间隔区域的范围，从而调节蒸镀源的蒸镀范围，相对于现有的无法调节其所限制蒸镀范围的限制板结构，本发明中的限制结构能够调节蒸镀形成的膜厚更加均匀，从而提高蒸镀产品的性能，并增强蒸镀产品的竞争力。

本发明提供一种限制结构，包括设置于同一平面上的第一调节结构和第二调节结构，所述第一调节结构与所述第二调节结构的一侧边相对，且所述第一调节结构与所述第二调节结构相互间隔形成间隔区域，所述第一调节结构和所述第二调节结构能相对移动，以调节所述间隔区域的范围。

优选地，所述第一调节结构和所述第二调节结构的排布方向为第一方向；垂直于所述第一方向为第二方向；

所述第一调节结构包括多个第一调节板，所述第二调节结构包括多个第二调节板，多个所述第一调节板沿所述第二方向依次拼接，多个所述第二调节板沿所述第二方向依次拼接；所述第一调节板与所述第二调节板沿所述第一方向相互对应；所述第一调节板和所述第二调节板均能沿所述第一方向移动，以调节相对应的所述第一调节板与所述第二调节板之间沿所述第一方向的间距。

优选地，所述第一调节板与所述第二调节板沿所述第一方向一一对应。

优选地，所述第一调节板的沿所述第二方向的尺寸为所述第一调节结构的沿所述第二方向的尺寸的1/10～1/20；

所述第二调节板的沿所述第二方向的尺寸为所述第二调节结构的沿所述第二方向的尺寸的1/10～1/20。

优选地，相邻的所述第一调节板在其拼接的边缘区域相互叠覆；相邻的所述第二调节板在其拼接的边缘区域相互叠覆。

优选地，相邻的所述第一调节板的相互拼接的侧边边缘相贴合；相邻的所述第二调节板的相互拼接的侧边边缘相贴合。

本发明还提供一种限制装置，包括上述限制结构。

优选地，还包括第一控制部和第二控制部，所述第一控制部与所述限制结构的第一调节板连接，用于控制所述第一调节板移动；

所述第二控制部与所述限制结构的第二调节板连接，用于控制所述第二调节板移动。

优选地，还包括计算部，所述计算部连接所述第一控制部和所述第二控制部，用于计算相对应的所述第一调节板和所述第二调节板之间沿第一方向的间距；

所述第一控制部和所述第二控制部用于根据所述间距分别控制所述第一调节板和所述第二调节板沿所述第一方向移动。

本发明还提供一种蒸镀系统，包括上述限制装置。

本发明还提供一种上述限制结构的调节方法，包括：第一调节结构与第二调节结构相对移动，调节所述第一调节结构与所述第二调节结构之间形成的间隔区域的范围。

优选地，所述第一调节结构和所述第二调节结构的排布方向为第一方向；垂直于所述第一方向为第二方向；待镀基板沿所述第一方向移动，以实现所述待镀基板上的材料蒸镀；

所述第一调节结构的第一调节板和所述第二调节结构的第二调节板沿所述第一方向移动，调节相对应的所述第一调节板和所述第二调节板之间沿所述第一方向的间距。

本发明还提供一种上述限制装置的调节方法，包括上述限制结构的调节方法。

优选地，还包括：计算相对应的第一调节板和第二调节板之间沿第一方向的间距；

根据所述间距分别控制所述第一调节板和所述第二调节板沿所述第一方向移动。

本发明的有益效果：本发明所提供的限制结构，通过设置第一调节结构和第二调节结构，且使第一调节结构和第二调节结构能够相对移动，能够调节第一调节结构与第二调节结构之间形成的间隔区域的范围，从而调节蒸镀源的蒸镀范围，相对于现有的无法调节其所限制蒸镀范围的限制板结构，本实施例中的限制结构能够调节蒸镀形成的膜厚更加均匀，从而提高蒸镀产品的性能，并增强蒸镀产品的竞争力。

本发明所提供的限制装置，通过采用上述限制结构，能够调节第一调节结构与第二调节结构之间形成的间隔区域的范围，从而调节蒸镀源的蒸镀范围，进而调节蒸镀形成的膜厚更加均匀，提高了蒸镀产品的性能，并增强了蒸镀产品的竞争力。

本发明所提供的蒸镀系统，通过采用上述限制装置，能使该蒸镀系统蒸镀形成的膜厚更加均匀，从而提高了蒸镀产品的性能，并增强了蒸镀产品的竞争力。

附图说明

图1为现有技术中点状蒸镀装置的蒸镀示意图；

图2为图1中限制板的结构俯视图；

图3为本发明实施例1中限制结构的结构俯视图；

图4为本发明实施例2中限制装置的结构俯视图；

图5为本发明实施例2中计算部拟合出的y(y)的函数曲线图；

图6为对应图5中的y(y)的函数曲线限制装置经调节后的结构俯视图。

其中的附图标记说明：

1.第一调节结构；11.第一调节板；2.第二调节结构；21.第二调节板；3.蒸镀源；m.第一方向；n.第二方向；4.第一控制部；5.第二控制部；6.玻璃基板；7.限制板；s.蒸镀重叠区域。

具体实施方式

为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明所提供的一种限制结构、限制装置及其调节方法和蒸镀系统作进一步详细描述。

实施例1：

本实施例提供一种限制结构，如图3所示，包括设置于同一平面上的第一调节结构1和第二调节结构2，第一调节结构1与第二调节结构2的一侧边相对，且第一调节结构1与第二调节结构2相互间隔形成间隔区域，第一调节结构1和第二调节结构2能相对移动，以调节间隔区域的范围。

其中，间隔区域用于限定蒸镀源3的蒸镀范围。通过设置第一调节结构1和第二调节结构2，且使第一调节结构1和第二调节结构2能够相对移动，能够调节第一调节结构1与第二调节结构2之间形成的间隔区域的范围，从而调节蒸镀源3的蒸镀范围，相对于现有的无法调节其所限制蒸镀范围的限制板结构，本实施例中的限制结构能够调节蒸镀形成的膜厚更加均匀，从而提高蒸镀产品的性能，并增强蒸镀产品的竞争力。

本实施例中，第一调节结构1和第二调节结构2的排布方向为第一方向m；垂直于第一方向m为第二方向n；第一调节结构包括多个第一调节板11，第二调节结构包括多个第二调节板21，多个第一调节板11沿第二方向n依次拼接，多个第二调节板21沿第二方向n依次拼接；第一调节板11与第二调节板21沿第一方向m相互对应；第一调节板11和第二调节板21均能沿第一方向m移动，以调节相对应的第一调节板11与第二调节板21之间沿第一方向m的间距。如此设置，使第一调节结构1和第二调节结构2的沿第一方向m相对应的第一调节板11和第二调节板21之间沿第一方向m的间距均能够分别单独进行调节，从而使第一调节结构1和第二调节结构2之间沿第一方向m的间距在对应第二方向n的各个不同位置点均可随意调节，进而能使第一调节结构1和第二调节结构2之间所限制的蒸镀源3的蒸镀范围能够随意调节，最终满足使蒸镀形成的膜厚更加均匀。

优选的，本实施例中，第一调节板11与第二调节板21沿第一方向m一一对应。

优选的，本实施例中，第一调节板11的沿第二方向n的尺寸为第一调节结构1的沿第二方向n的尺寸的1/10～1/20；第二调节板21的沿第二方向n的尺寸为第二调节结构2的沿第二方向n的尺寸的1/10～1/20。即将第一调节结构1沿第二方向n分割为10～20个第一调节板11，将第二调节结构2沿第二方向n分割为10～20个第二调节板21。进一步优选的，第一调节板11和第二调节板21沿第二方向n的尺寸相等，如此便于对蒸镀范围进行很好的调节。

需要说明的是，第一调节结构1和第二调节结构2分别沿第二方向n所分割形成的第一调节板11和第二调节板21的数量越多，能使第一调节结构1和第二调节结构2之间所限制的蒸镀源3的蒸镀范围的调节越精确，从而使蒸镀形成的膜厚越均匀。

本实施例中，相邻的第一调节板11之间无缝拼接；相邻的第二调节板21之间无缝拼接。如此设置，能够防止相邻的第一调节板11之间以及相邻的第二调节板21之间在移动过程中产生缝隙，从而避免蒸镀材料通过缝隙蒸镀到基板上。

需要说明的是，相邻的第一调节板11和相邻的第二调节板21之间的无缝拼接可以通过多种方式实现，如：相邻的第一调节板11或相邻的第二调节板21之间在其拼接的边缘区域相互叠覆，相互叠覆部分能够对其拼缝进行遮挡；或者，相邻的第一调节板11或相邻的第二调节板21的相互拼接的侧边边缘紧密贴合且能相对滑动自如，即拼缝处不留缝隙，以免蒸镀材料通过缝隙。只要能实现相邻两调节板之间无缝拼接的方式均在本发明的保护范围之内。

基于限制结构的上述结构，本实施例还提供一种该限制结构的调节方法，包括：第一调节结构与第二调节结构相对移动，调节第一调节结构与第二调节结构之间形成的间隔区域的范围。

该调节方法通过调节间隔区域的范围，能够调节蒸镀源的蒸镀范围，以使蒸镀源蒸镀形成均匀的膜厚。

该调节方法具体为：第一调节结构和所述第二调节结构的排布方向为第一方向；垂直于第一方向为第二方向；待镀基板沿第一方向移动，以实现待镀基板上的材料蒸镀。第一调节结构的第一调节板和第二调节结构的第二调节板沿第一方向移动，调节相对应的第一调节板和所述第二调节板之间沿第一方向的间距。

实施例1的有益效果：实施例1中所提供的限制结构，通过设置第一调节结构和第二调节结构，且使第一调节结构和第二调节结构能够相对移动，能够调节第一调节结构与第二调节结构之间形成的间隔区域的范围，从而调节蒸镀源的蒸镀范围，相对于现有的无法调节其所限制蒸镀范围的限制板结构，本实施例中的限制结构能够调节蒸镀形成的膜厚更加均匀，从而提高蒸镀产品的性能，并增强蒸镀产品的竞争力。

实施例2：

本实施例提供一种限制装置，如图4所示，包括实施例1中的限制结构。

本实施例中，限制装置还包括第一控制部4和第二控制部5，第一控制部4与限制结构的第一调节板11连接，用于控制第一调节板11移动；第二控制部5与限制结构的第二调节板21连接，用于控制第二调节板21移动。

其中，第一控制部4可以设置一个或多个，多个第一控制部4与第一调节板11一一对应连接；第二控制部5也可以设置一个或多个，多个第二控制部5与第二调节板21一一对应连接。第一控制部4和第二控制部5均采用马达。

本实施例中，限制装置还包括计算部，计算部连接第一控制部4和第二控制部5，用于计算相对应的第一调节板11和第二调节板21之间沿第一方向m的间距；第一控制部4和第二控制部5用于根据间距分别控制第一调节板11和第二调节板21沿第一方向m移动。其中，计算部采用计算机。

其中，计算部根据蒸镀工艺条件计算相对应的第一调节板11和第二调节板21之间沿第一方向m的间距。计算部的具体工作过程为：计算部先拟合出采用常规的标准形状的限制板(即两限制板之间所限制的蒸镀范围处处相等)时蒸镀材料在待镀基板上成膜膜厚(此时的成膜膜厚不均匀)的分布曲线函数；然后控制马达使沿第一方向m相对应设置的第一调节板11和第二调节板21之间的间距发生变化，该间距变化遵从前述拟合的成膜膜厚曲线，以使蒸镀源3的蒸镀范围发生变化，最终使蒸镀形成的膜厚更加均匀。

下面举例说明计算部的工作过程，例如：一条由n个蒸镀点源组成的线源(即蒸镀某种材料的蒸镀线源)，在以第一方向为横坐标轴x、第二方向为纵坐标轴y形成的二维平面内，蒸镀点源1、蒸镀点源2……蒸镀点源n单独成膜的膜厚分布分别为f1(x,y)、f2(x,y)……fn(x,y)，那么这几个蒸镀点源在二维平面的膜厚叠加分布函数为y(x,y)，其中，

y(x,y)＝f1(x,y)+f2(x,y)+......+fn(x,y)

假设在蒸镀过程中，待镀基板沿x方向运动，以在整个待镀基板上蒸镀形成材料膜层。将膜厚叠加分布函数y(x,y)在x方向上进行积分，这里假设两标准形状的限制板(即两限制板之间所限制的蒸镀范围沿y轴方向处处相等)之间沿x轴方向的距离为l，设第一调节板和第二调节板沿x轴方向的调节范围均为l/2，那么得到：

y(y)的意义是：该条线源的沿y轴排布的方向上，在每一个蒸镀点源所对应的一条沿x轴的直线上，两限制板所限制的蒸镀范围内待镀基板上蒸镀形成的膜厚(这里，当采用两标准形状的限制板时，在y轴上不同的y位置处，蒸镀形成的膜厚y(y)各不相同，即膜厚不均匀)。

在蒸镀速率稳定的情况下，假设要达到的目标均匀膜厚为h，那么应该有：

y(y)*x′＝h

其中，x′表示在y轴方向上的某个位置处，沿x轴方向上第一调节板和第二调节板之间的距离。由于y(y)在y轴方向上的不同位置处均不同，所以沿x轴方向上第一调节板和第二调节板之间的距离会随着y轴方向上y值的变化而变化；这样会得到一组x′值，在计算机的控制下，马达驱动沿x轴方向相对应设置的第一调节板和第二调节板运动，可以使得蒸镀在待镀基板上的膜厚变得更加均匀。

例如：共有6个蒸镀源3，计算部拟合出的y(y)的函数曲线为：y(y)＝100+y³-50y²-y；如图5所示。然后，马达在计算部的驱动下，带动每个第一调节板11和第二调节板21移动到设定的位置，第一调节板11和第二调节板21移动后形成的形状如图6所示，这样可以使得蒸镀形成的膜厚更加均匀。

基于限制装置的上述结构，本实施例还提供一种该限制装置的调节方法，包括实施例1中的限制结构的调节方法，还包括：计算相对应的第一调节板和第二调节板之间沿第一方向的间距；根据间距分别控制第一调节板和第二调节板沿第一方向移动。

实施例2的有益效果：实施例2中所提供的限制装置，通过采用实施例1中的限制结构，能够调节第一调节结构与第二调节结构之间形成的间隔区域的范围，从而调节蒸镀源的蒸镀范围，进而调节蒸镀形成的膜厚更加均匀，提高了蒸镀产品的性能，并增强了蒸镀产品的竞争力。

实施例3：

本实施例提供一种蒸镀系统，包括实施例2中的限制装置。

通过采用实施例2中的限制装置，能使该蒸镀系统蒸镀形成的膜厚更加均匀，从而提高了蒸镀产品的性能，并增强了蒸镀产品的竞争力。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。