专利名称：提高合成氨普利森装置氢气纯度的工艺的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种提高合成氨普利森装置氢气纯度的工艺。
合成氨普利森装置主要是分离合成氨回路驰放气中的氢气。原设计只有两级分离，出来的氢气纯度仅85～87％左右，不能满足过氧化氢装置所需氢气的纯度要求，以及其它需高纯度氢气的用户要求。
本发明的目的是提供一种提高合成氨普利森装置氢气纯度的工艺。
本发明的目的是通过如下方式实现的由合成氨普利森装置一级分离器管程出来氢气，进入增设的第三级分离器分离，并在原一级分离器管程出口管线上加一旁路阀。
采用本发明，使合成氨普利森装置第三级分离器管程出口氢气纯度达到99％以上，大大降低了过氧化氢的耗氢量，同时提高了过氧化氢装置的氢化效率，增加了过氧化氢的产量，年增效益100万元。
以下结合附图和实例对本发明作进一步说明
图1为本发明的工艺流程示意图。
参见图1，图中1为水洗塔，2为加热器，3为一级分离器，4为二级分离器，5为三级分离器，6为燃烧气系统，7为合成气压缩机入口分离器，8为合成气压缩机段间分离器，9为过氧化氢装置，10为旁路阀。
实例1参见图1，合成回路驰放气进入水洗塔1洗除氨后，进入加热器2，进入一级分离器3，壳侧气体进入二级分离器4，二级分离器4中壳侧出来的非渗透气进入燃烧系统6，二级分离器4中管程出来的渗透气进入合成气压缩机入口分离器7，一级分离器3中管程出来的渗透气进入三级分离器5，三级分离器5中壳侧出来的气体仍进入合成气压缩机段间分离器8，三级分离器5中管程出来的渗透气氢纯度达99％进入过氧化氢装置9，过氧化氢装置停车时一级分离器3中的渗透气通过旁路10直接进入合成气压缩机段间分离器8中。
权利要求
1.一种提高合成氨普利森装置氢气纯度的工艺，其特征在于由合成氨普利森装置一级分离器管程出来的氢气，进入增设的第三级分离器分离。
2.根据权利要求书1所述的一种提高合成氨普利森装置氢气纯度的工艺，其特征在于在原一级分离器管程出口管线上加一旁路阀。
全文摘要
本发明涉及一种提高合成氨普利森装置氢气纯度的工艺。其特点是:由合成氨普利森装置一级分离器管程出来的氢气,进入增设的第三级分离器分离。采用本发明,使合成氨普利森装置第三级分离器管程出口氢气纯度达到99%以上,大大降低了过氧化氢的耗氢量,同时提高了过氧化氢装置的氢化效率,增加了过氧化氢的产量,年增效益100万元。
文档编号C01B3/50GK1362357SQ0110680
公开日2002年8月7日 申请日期2001年1月3日 优先权日2001年1月3日
发明者操斌, 江利民 申请人:中国石化股份公司巴陵分公司洞庭氮肥厂