技术总结
本实用新型公开了一种用提拉法制备平整石墨烯薄膜的装置，属于石墨烯类材料制备领域，其结构包括组合使用的提拉装置和还原装置，所述提拉装置位于封闭装置内；所述提拉装置包括推进泵、连杆和储液装置，所述连杆纵向布置且与推进泵相连，储液装置为顶端开口的凹槽且位于连杆的正下方；所述还原装置的内部空间分为两层，还原装置内部可实现真空状态。利用本实用新型的装置制备石墨烯薄膜方法操作简单、成本低廉、易于控制，制得石墨烯薄膜平整、均匀且易于进行功能化修饰，为石墨烯薄膜的进一步研发与应用创造了条件。
技术研发人员：冯章启;王婷
受保护的技术使用者：苏州纳赛博丝新材料科技有限公司
文档号码：201621124274
技术研发日：2016.10.14
技术公布日：2017.06.27