本发明涉及一种镀膜玻璃，具体涉及一种高红外反射镀膜玻璃及其制备方法。
背景技术：
镀膜玻璃具有节能减排及装饰幕墙的双重功效，推出市场后，深受人们喜爱，随着人们对节能需求的不断提高，人们在追求高的透光率的同时，对红外反射率的要求越来越高，需求更高透过率的玻璃。
技术实现要素：
本发明的一种高红外反射镀膜玻璃，具有较高的可见光透过率和红外反射率，有效阻止热能透过玻璃进入室内。
本发明另一目的是提供一种高红外反射镀膜玻璃的制备方法。
本发明是通过以下技术方案实现的：
一种高红外反射镀膜玻璃，包括玻璃基板，所述玻璃基板上依次设有ITO层、Nb2O5层、AZO层、Ag层、Ti层、TIOx层和Si3N4层。
优选的，所述ITO层为磁控溅射氧化铟锡靶(In2O3：SnO2＝90：10(wt％))，交流电源溅射，用Ar气作为溅射气体，气体流量800SCCM，膜厚120～135nm，方阻<15欧。
优选的，所述Nb2O5层为磁控溅射铌靶，交流电源反应溅射，用Ar气、O2作为溅射气体，气体流量400SCCM:800SCCM，膜厚20～50nm。
优选的，所述AZO层，为磁控溅射掺铝氧化锌靶(ZnO:Al＝92:8(wt％))，交流电源反应溅射，用Ar气、O2作为溅射气体，气体流量1000SCCM:40SCCM，膜厚20～50nm。
优选的，所述Ag层，磁控溅射Ag层，直流电源溅射，用Ar气作为溅射气体，气体流量500～550SCCM，膜厚8～12nm。
优选的，所述Ti层，磁控溅射Ti层，直流电源溅射，用Ar气作为溅射气体，气体流量500～550SCCM，膜厚0.8～2nm。
优选的，所述TIOx层，磁控溅射氧化钛靶，交流电源溅射，用Ar气、O2作为溅射气体，气体流量1000SCCM:40SCCM，膜厚20～35nm。
优选的，所述Si3N4层，磁控溅射硅铝靶(Si:Al＝92:8(wt％))，交流电源溅射，用Ar气、O2作为溅射气体，气体流量400SCCM:600SCCM，膜厚50～85nm。
优选的，所述玻璃基板为厚度为4～8mm的浮法玻璃。
一种制备绿色基调的低辐射镀膜玻璃的方法，包括以下步骤：
A：选择4～8mm玻璃基板，按预定尺寸用切割机进行切割，用清洗机对玻璃基板进行清洗；
B：将玻璃基板送入镀膜室磁控溅射ITO层，用交流电源、Ar气作为保护气体，磁控溅射氧化铟锡靶(In2O3：SnO2＝90：10(wt％))，用Ar气流量800SCCM，在玻璃基板上溅射120～135nm的ITO层；
C：继续磁控溅射Nb2O5层，用交流电源，Ar气、O2作为保护气体，磁控溅射铌靶，用Ar和O2气体流量400SCCM:800SCCM，溅射20～50nm的Nb2O5层；
D：继续磁控溅射第一AZO层，用交流电源，Ar气、O2作为保护气体，磁控溅射铝氧化锌靶(ZnO:Al＝92:8(wt％))，用Ar和O2气体流量1000SCCM:40SCCM，溅射20～50nm的AZO层；
E：继续磁控溅射Ag层，用直流电源，Ar气作为保护气体，磁控溅射，用Ar气体流量500～550SCCM，溅射8～12nm的Ag层；
F:继续磁控溅射Ti层，用直流电源，Ar气作为保护气体，磁控溅射，用Ar气体流量500～550SCCM，溅射0.8～2nm的第二Ti层；
G：继续磁控溅射TIOx层，用交流电源，Ar气、O2作为保护气体，磁控溅射氧化钛靶，用Ar和O2气体流量1000SCCM:40SCCM，溅射20～35nm的TIOx层；
H：继续磁控溅射Si3N4层，用交流电源，Ar气、O2作为保护气体，磁控溅射硅铝靶(Si:Al＝92:8(wt％))，用Ar和O2气体流量400SCCM:600SCCM，溅射50～85nm的Si3N4层。
与现有技术相比，本发明具有如下优点：
1、本发明的一种高红外反射镀膜玻璃，在红外反射层外制备扩散阻挡层，金属层和介质层间隔设置形成吸收层，在吸收层外制备减反射层，形成具有间隔设置的金属层和介质层的吸收层，其工艺流程简单，靶材成本低，可大规模制备生产，其制成的产品可见光透过率达60％以上，红外反射率99％以上，实现高红外光反射的特点，利于低辐射玻璃的推广使用；
2、本发明的一种高红外反射镀膜玻璃制备方法，功能膜层依次沉积在玻璃基板上，膜层具有耐候性和耐腐蚀性能优秀、辐射率低、表面电阻小、均匀性好、结合力强的优点。
【附图说明】
图1是本发明结构示意图。
【具体实施方式】
如附图1所示的一种高红外反射镀膜玻璃，包括玻璃基板1，所述玻璃基板1上依次设有ITO层2、Nb2O5层3、AZO层4、Ag层5、Ti层6、TIOx层7和Si3N4层8。本发明的玻璃由一块玻璃基片及多层镀层复合而成，以获得搞红外反射率，可见光透过率达60％以上，红外反射率99％以上，有效隔绝热源透过玻璃进入室内，实现节能的效果。
所述ITO层2为磁控溅射氧化铟锡靶In2O3：SnO2＝90：10(wt％)，交流电源溅射，用Ar气作为溅射气体，气体流量800SCCM，膜厚120～135nm，方阻<15欧。
所述Nb2O5层3为磁控溅射铌靶，交流电源反应溅射，用Ar气、O2作为溅射气体，气体流量400SCCM:800SCCM，膜厚20～50nm。该镀层能够提高膜层折射率，从而提高透过率。
所述AZO层4，为磁控溅射掺铝氧化锌靶ZnO:Al＝92:8(wt％)，交流电源反应溅射，用Ar气、O2作为溅射气体，气体流量1000SCCM:40SCCM，膜厚20～50nm。该镀层用来平整银层，并降低面电阻，可进一步降低红外的透过率。
所述Ag层5，磁控溅射Ag层，直流电源溅射，用Ar气作为溅射气体，气体流量500～550SCCM，膜厚8～12nm。该镀层用来作为功能层，反射红外线。
所述Ti层6，磁控溅射Ti层，直流电源溅射，用Ar气作为溅射气体，气体流量500～550SCCM，膜厚0.8～2nm。该镀层作为阻挡层，防止并减缓银层被氧化。
所述TIOx层7，磁控溅射氧化钛靶，交流电源溅射，用Ar气、O2作为溅射气体，气体流量1000SCCM:40SCCM，膜厚20～35nm。该镀层为玻璃提供高折射率，从而实现高的透过率，并且膜层耐磨、耐腐蚀。
所述Si3N4层8，磁控溅射硅铝靶Si:Al＝92:8(wt％)，交流电源溅射，用Ar气、O2作为溅射气体，气体流量400SCCM:600SCCM，膜厚50～85nm。该镀层提供高折射率，从而实现玻璃的高透过率，并使膜层具有较高的机械性能
所述玻璃基板1为厚度为4～8mm的浮法玻璃。
结合具体实施例，说明本发明制备高红外反射镀膜玻璃的方法：
实施例1-4
一种制备高红外反射镀膜玻璃的方法，包括以下步骤：
A：选择玻璃基板，按预定尺寸用切割机进行切割，用清洗机对玻璃基板进行清洗；
B：将玻璃基板送入镀膜室内逐层进行磁控溅射，条件如表1所示；
表1：
如上条件所得的高红外反射镀膜玻璃，按照GB/T2680-94《建筑玻璃可见光透射比、太阳光直接透射比、太阳能总透射比、紫外线投射比及有关窗玻璃参数的测定》对实施例1-4制得的玻璃进行光学性能的测定，测试结果如表2所示：
表2：
本发明的一种高红外反射镀膜玻璃，功能膜层依次沉积在玻璃基板上，膜层具有耐磨性和耐腐蚀性能，较高折射率和透过率，产品成本低廉。