1.一种上保温结构，其特征在于，包括沿上下方向层叠且间隔设置的多个环形热屏，所述多个环形热屏同心设置；每层环形热屏用于将下方辐射来的热量反射到下方；
自下而上，所述上保温结构包括温差部、散热部和保温部，所述温差部包括多个第一环形热屏，自下而上，所述多个第一环形热屏的内径逐渐增大；所述散热部包括多个第二环形热屏，所述第二环形热屏的内径大于所述多个第一环形热屏中的任意一个；所述保温部包括多个第三环形热屏，所述第三环形热屏的内径小于所述多个第一热屏中的任意一个。
2.根据权利要求1所述的上保温结构，其特征在于，所述多个第二环形热屏的内径相等。
3.根据权利要求2所述的上保温结构，其特征在于，所述多个第三环形热屏的内径相等。
4.根据权利要求3所述的上保温结构，其特征在于，所述第一环形热屏的数量为五个，且自上而下，所述多个第一环形热屏的内径依次为60、70、80、90、100mm；所述第二环形热屏的内径为150mm；所述第三环形热屏的内径为55mm。
5.根据权利要求1所述的上保温结构，其特征在于，所述上保温结构包括由多个环形热屏叠加形成的坩埚盖屏和上热屏，所述坩埚盖屏固定在坩埚开口，所述上热屏扣挂在所述坩埚盖屏上方，且所述上热屏的下底面与坩埚盖屏的上顶面之间存在间隙。
6.根据权利要求5所述的上保温结构，其特征在于，自所述上热屏下底面向上，依次设置有多个第二环形热屏，自所述坩埚盖屏上顶面向下，依次设置有多个第二环形热屏，以使所述上热屏扣挂在所述坩埚盖屏上方时，形成散热部。
7.根据权利要求5所述的上保温结构，其特征在于，所述坩埚盖屏上任意相邻两个所述环形热屏之间设置有支撑件。
8.根据权利要求5所述的上保温结构，其特征在于，所述上热屏上开设有观察孔，所述观察孔用于观察坩埚内晶体的生长情况，所述观察孔与竖直方向的夹角小于等于9°。
9.根据权利要求7所述的上保温结构，其特征在于，所述上保温结构包括多根固定杆，多个所述环形热屏插接在所述固定杆上，所述固定杆上设置有螺纹，且每个所述环形热屏与所述固定杆的连接处下方设置有螺母，所述螺母用于托住所述环形热屏。
10.一种晶体生长设备，其特征在于，包括权利要求1-9任意一项所述的上保温结构。