、 0.2 %的K20、5.5 %的MgO和8.6 %的CaO的玻璃(玻璃化转变温度566 °C)
[0239] (玻璃材料B)以摩尔％表示含有64.3%的5丨〇2、8.0%的六12〇3、12.5%的此2〇、 4 · 0% 的K20、10 · 5% 的Mg0、0 · 1 % 的Ca0、0 · 1 % 的Sr0、0 · 1 % 的BaO 和0 · 5% 的Zr02的玻璃(玻 璃化转变温度604 °C)
[0240] (玻璃材料C)以摩尔％表示含有68 · 0 %的Si02、10 · 0 %的AI2O3、14 · 0 %的Na20和 8 · 0 %的MgO的玻璃(玻璃化转变温度662 °C)
[0241 ](玻璃材料D)以摩尔％表示含有68 · 8 %的Si02、3 · 0 %的AI2O3、14 · 2 %的Na20、 7.8 %的CaO、6.2 %的MgO和0.2 %的K20的玻璃(玻璃化转变温度552 °C)
[0242](翘曲量的测定）
[0243]在化学强化前利用SURFC0M表面粗糙度-轮廓形状测定机(株式会社东京精密制） 测定翘曲量，然后对各玻璃进行化学强化，并同样地测定化学强化后的翘曲量，且基于上述 步骤而算出翘曲位移量。
[0244](二次离子质谱分析:SIMS)
[0245] 二次离子质谱分析的分析条件设定为以下。
[0246] 测定装置:ULVAC-PHI 公司制ADEPT 1010
[0247] 一次离子种类:Cs+
[0248] 一次加速电压:5.0kV
[0249] 一次离子电流：1μΑ
[0250] -次离子入射角(距试样面垂直方向的角度）：60°
[0251] 光栅尺寸：200Χ200μπι2
[0252] 检测区域:40Χ40μπι2
[0253] 二次离子极性:负 [0254]中和用的电子枪使用:有
[0255] 根据所得到的结果利用上述式w~式ζ求出强度比（F/Si)，进而转换为氟浓度(摩 尔％ )。制作将横轴设为深度、将纵轴设为氟浓度(摩尔％ )的深度方向分布曲线，并将其积 分值作为玻璃中所含的氟量(摩尔％ ·μπ〇。
[0256] 另外，通过SIMS分析而得到的深度方向分布曲线的横轴的深度是利用触针式膜厚 计(维易科公司制造的Dektakl 50)测定分析凹坑的深度而求出。
[0257] ( AF/AH20)
[0258] 使用上述二次离子质谱分析，以实施例及比较例的化学强化前的玻璃板为对象测 定氟浓度及H20浓度的厚度方向分布。基于该测定结果而得到△ F/ △ H20。
[0259] (氟的侵入深度X)
[0260]基于由SB1S得到的F浓度分布曲线而得到氟的侵入深度X。
[0261](表层氟比例）
[0262]使用上述二次离子质谱分析，以实施例及比较例的化学强化前的玻璃板为对象测 定氟浓度。基于该测定结果而得到上述表层氟比例。
[0263](凹部的有无）
[0264] 对玻璃的HF处理面进行SEM观察，在于观察视野内（倍率5万~20万倍)观察到一处 以上的凹部的情况下，视为有凹部。
[0265] (CS及D0L)
[0266] CS及D0L使用折原制作所公司制的表面应力计(FSM-6000LE)而测定。
[0267] (HF总接触量）
[0268] HF总接触量(摩尔/cm2)通过下式而求出。该式中的处理时间是指，HF气体与玻璃 带的表面接触的时间。[HF总接触量(摩尔/cm 2) ] = [HF气体浓度(体积％ ) ]/100 X [气体流 量(摩尔/秒/cm2)]X [处理时间（秒）]…（b)
[0269] [实施例1]
[0270]在流动有玻璃材料B(实施例1-1~1-25、比较例1-1~1-2)或玻璃材料A(实施例1-26~1-37、比较例1-3)的玻璃带的浮抛窑中，使用HF气体作为含氟流体而实施氟化处理（以 下称为HF处理）。通过上述步骤测定所得到的玻璃，并算出玻璃中所含的氟量、△ F/△ H20及 Xo
[0271] 将所得到的板厚0.7mm的玻璃切割为100mm见方的3块，并测定该基板的与90mm见 方部分相当的部分的2条对角线的翘曲，将其平均值作为强化前的翘曲量。之后，将玻璃材 料B的玻璃板在加热至450°C的KN〇3熔融盐中浸渍2小时、将玻璃材料A的玻璃板在加热至 420°C的KN03熔融盐中浸渍2.5小时而进行化学强化。接下来，测定基板的与90mm见方部分 相当的部分的2根对角线的翘曲，将其平均值作为强化后的翘曲量，并算出翘曲位移量。
[0272] 需要说明的是，比较例1-1~1-3是未进行HF处理的参照。
[0273] 将结果示于表1~2。另外，对于实施例卜10~卜25,将以AF/AH20为横轴、以翘曲 位移量(Mi)为纵轴绘制而成的图示于图14中。
[0274]表 1
[0275]
[0276] 表 2
[0277]
[0278] 如表1~2所示，可知AF/AH2〇为0.4以上且玻璃中所含的氟量大于0.23摩尔％ · μπι的实施例1-1~1-37的化学强化后的翘曲得以有效改善。另外，如表1~2所示，χ(μπι)为1 以上的实施例1-1~1-37的化学强化后的翘曲得以有效改善。此外，在实施例1-10~1-25 中，如图14所示，AF/AHsO与翘曲位移量表现出相关关系(y = 26.03x)。为了改善化学强化 后的翘曲，翘曲位移量优选为ΙΟμπι以上，从图14所示的图可知，通过将Δ F/ Δ H20设定为 0.38以上，可以有效改善化学强化后的翘曲。
[0279][实施例2]
[0280]将玻璃材料B变更为玻璃材料C，将化学强化处理的时间设定为1.5小时，除此以 外，通过与实施例1同样的方法，在流动有玻璃材料C(实施例2-1~2-6、比较例2-1~2-2)的 玻璃带的浮抛窑中实施HF处理。通过与实施例1同样的步骤测定所得到的玻璃，并算出表层 氟比例、八？/八出〇、^强化前的翘曲量、强化后的翘曲量、翘曲位移量等。需要说明的是，在 实施例2中，与实施例1相比，较高地设定HF处理时的玻璃带的温度。
[0281] 比较例2-1~2-2为未进行HF处理的参照。
[0282] 将结果示于表3~4。
m
[0283] 詻 術
[0284]
[0285] 如表3~4所示，可知表层氟比例为0.1以上且小于0.5且Fq-3大于0.02的实施例2-1 ~2-6的化学强化后的翘曲得以有效改善。需要说明的是，对于实施例2-1~2-6和比较例2- 1~2-2未观察到凹部的产生。
[0286] 另外，可知通过将Δ F/ Δ H2O设定为0.38以上，而使得翘曲位移量变为ΙΟμπι以上， 由此可有效改善化学强化后的翘曲。另外，可知AF/AH 20为0.38以上的实施例2-1~2-6的 化学强化后的翘曲得以有效改善。另外，χ(μπι)为5以上的实施例2-1~2-6的化学强化后的 翘曲得以有效改善。
[0287] [实施例3]
[0288]将玻璃材料Β变更为玻璃材料D，将化学强化处理的温度设定为420°C，并将时间设 定为2.5小时，除此以外，通过与实施例1同样的方法，在流动有玻璃材料D(实施例3-1~3-4、比较例3-1)的玻璃带的浮抛窑中实施HF处理。通过与实施例1同样的步骤测定所得到的 玻璃，并算出表层氟比例、△?/^出0^、强化前的翘曲量、强化后的翘曲量、翘曲位移量等。
[0289] 比较例3-1为未进行HF处理的参照。
[0290] 将结果示于表5~6。
[0291] ^
[0292] 幣
[0293] 如表5~6所示，可知表层氟比例为0.1以上且小于于0.5且Fo-3大于0.02的实施例 3-1~3-4的化学强化后的翘曲得以有效改善。需要说明的是，对于实施例3-1~3-4和比较 例3-1未观察到凹部的产生。
[0294] 另外，可知通过将Δ F/ Δ H20设定为0.38以上，而使得翘曲位移量变为ΙΟμπι以上， 由此可以有效改善化学强化后的翘曲。另外，可知Δ F/Δ Η20为0.38以上的实施例3-1~3-4 的化学强化后的翘曲得以有效改善。另外，χ(μπι)为5以上的实施例3-1~3-4的化学强化后 的翘曲得以有效改善。
[0295] 参照特定的方式对本发明进行了详细说明，但对于本领域技术人员而言明确的 是，在不脱离本发明的精神及范围的情况下可以进行各种变更及修正。
[0296] 需要说明的是，本申请基于2013年9月25日提出的日本专利申请（特愿2013-198467)、2013年12月13日提出的日本专利申请(特愿2013-258466)及2013年12月13日提出 的日本专利申请(特愿2013-258467)，且将其整体通过引用的方式援引至本文。
[0297] 附图标记
[0298] 1中央狭缝
[0299] 2外狭缝
[0300] 4 流路
[0301 ] 5排气狭缝
[0302] 15 壳体
[0303] 20玻璃板
[0304] 30保护玻璃
[0305] 40显示装置
[0306] 41、42 功能膜
[0307] 45显示面板
[0308] 101玻璃带
[0309] 102 横梁
[0310] 103辐射堰板
[0311] 11〇玻璃带的宽度方向
[0312] 111、112、113 气体系统
[0313] 114、115 隔板
[0314] 116吹气孔
【主权项】
1. 一种玻璃板，其为在厚度方向上相对的一个面的氟浓度大于另一个面的氟浓度的玻 璃板，其满足下式(1)，并且， 在将横轴设为深度且将纵轴设为氟浓度(摩尔％ )的由二次离子质谱分析(SIMS)得到 的深度方向分布曲线上，玻璃中所含的氟量大于0.23摩尔％ ·μπ?且小于等于21摩尔％ · μ m, 在此，氟浓度为由SHIS得到的深度1~24μπι范围内的平均氟浓度(摩尔％ ); 0.1 < af/ah2〇---(i) 式（1)中，AF为从氟浓度大的面中的深度1~24μπι范围内的由SMS得到的平均氟浓度 (摩尔％ )减去氟浓度小的面中的深度1~24μπι范围内的由S頂S得到的平均氟浓度(摩尔％ ) 所得到的值； 式（1)中，ΛΗ20为从氟浓度小的面中的深度1~24μπι范围内的由SMS得到的平均Η20浓 度（摩尔％ )减去氟浓度大的面中的深度1~24μπι范围内的由SMS得到的平均Η20浓度（摩 尔％ )所得到的值的绝对值。2. 如权利要求1所述的玻璃板，其中，所述玻璃中所含的氟量为0.7摩尔％ · μπι以上且9 摩尔％ · μL?以下。3. 如权利要求1或2所述的玻璃板，其为通过浮法而制造的玻璃板。4. 如权利要求1~3中任一项所述的玻璃板，其厚度为1.5mm以下。5. 如权利要求1~4中任一项所述的玻璃板，其厚度为0.8mm以下。6. 如权利要求1~5中任一项所述的玻璃板，其表面粗糙度Ra为2.5nm以下。7. -种玻璃板，其通过对权利要求1~6中任一项所述的玻璃板进行化学强化而得到。8. -种平板显示装置，其为具备保护玻璃的平板显示装置，其中，所述保护玻璃为权利 要求7所述的玻璃板。
【专利摘要】本发明涉及一种玻璃板，其为在厚度方向上相对的一个面的氟浓度大于另一个面的氟浓度的玻璃板，其满足下式(1)，并且，在将横轴设为深度且将纵轴设为氟浓度(摩尔％)的由二次离子质谱分析(SIMS)得到的深度方向分布曲线上，玻璃中所含的氟量大于0.23摩尔％·μm且小于等于21摩尔％·μm。在此，氟浓度为由SIMS得到的深度1～24μm范围内的平均氟浓度(摩尔％)。0.1≤△F/△H2O…(1)；(△F及△H2O记载在说明书中)。
【IPC分类】C03B18/20, C03C23/00, C03C21/00
【公开号】CN105579406
【申请号】CN201480053031
【发明人】宫坂聪史, 加藤亮祐, 白井正信, 井川信彰, 三浦丈宜, 山中一彦, 林泰夫, 谷井史朗
【申请人】旭硝子株式会社
【公开日】2016年5月11日
【申请日】2014年9月22日
【公告号】US20160200627, WO2015046106A1