一种用于单晶制备过程中的pbn坩埚固定底座的制作方法
【技术领域】
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[0001]本实用新型涉及制备晶体技术领域，具体涉及一种用于单晶制备过程中的PBN坩祸固定底座。
【背景技术】
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[0002]PBN，即热解氮化硼，由硼原子和氮原子构成六方氮化硼层，层与层堆放在一起，具有较好的挠曲强度，较高的抗压强度，较高的破裂阻力，高温条件下机械性能增强，无毒，不与其他酸、碱、有机物、熔融金属或石墨反应，因此PBN坩祸被广泛地用作单晶生长的反应容器。
[0003]在原料融化和单晶生长过程中，熔体和坩祸长时间接触会产生粘连现象。在单晶生长完毕后，需要进行脱模处理，即将PBN坩祸与坩祸内的晶体分离开。脱模的操作流程为:把PBN坩祸平放入恒温的甲醇炉，使整个坩祸完全浸泡在甲醇中，直至晶体与坩祸可完全分离。由于PBN坩祸一种陶瓷材料制品，容易出现裂纹，在脱模过程中，PBN坩祸会与甲醇槽有直接的接触，因此可能会对PBN坩祸造成不同程度的损坏。
【实用新型内容】:
[0004]为了解决上述技术问题，本实用新型提出一种用于单晶制备过程中的PBN坩祸固定底座，PBN坩祸固定底座对PBN坩祸进行有效地固定，减少应力对PBN坩祸的损伤，降低甲醇炉对PBN坩祸的磨损，从而延长PBN坩祸的使用寿命，节省生产成本。
[0005]本实用新型的技术方案是:一种用于单晶制备过程中的PBN坩祸固定底座包括底座基体，所述的底座基体为前后两面平行的四棱台，底座基体的上端面为与PBN坩祸底面形状相吻合的弧面凹槽，弧面凹槽截面弧形所在圆的直径与PBN坩祸的外径相同，底座基体的宽度略大于坩祸的直径，底座基体的长度为PBN坩祸等径部分长度的3/4，弧面凹槽凹面与底座基体的侧面成圆角过渡。
[0006]本实用新型具有如下有益效果:1、本新型能够有效固定PBN坩祸，防止PBN坩祸在甲醇炉槽内移动；2、可稳定、贴合地托住PBN坩祸，减少应力对PBN坩祸的损伤；3、避免PBN坩祸与甲醇槽的接触，降低甲醇槽对PBN坩祸的磨损，从而延长PBN坩祸的使用寿命，节省生产成本。
【附图说明】
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[0007]附图1是本实用新型的结构示意图；
[0008]附图2是附图1的俯视图。
[0009]图中:1_底座基体；2_弧面凹槽；3_圆角。
【具体实施方式】
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[0010]下面结合附图对本实用新型作进一步说明:
[0011]由图1所示，一种用于单晶制备过程中的PBN坩祸固定底座包括底座基体1，所述的底座基体1为前后两面平行的四棱台，底座基体1的上端面为与PBN坩祸底面形状相吻合的弧面凹槽2，弧面凹槽2内表面光滑，弧面凹槽2截面弧形所在圆的直径与PBN坩祸的外径相同，底座基体1的宽度略大于坩祸的直径，在避免底座占用过多空间的同时，确保相邻的PBN坩祸之间存在一定的间隔，有效防止PBN坩祸之间的相互刮蹭，底座基体1的长度为PBN坩祸等径部分长度的3/4，确保PBN坩祸可稳定、平衡地固定于底座上，弧面凹槽2凹面与底座基体1的侧面成圆角3过渡。
[0012]在实际操作中，将PBN坩祸放置于弧面凹槽2上，由于弧面凹槽面2截面弧形所在圆的直径与PBN坩祸的外径相同，所以弧面凹槽2与坩祸外壁可以完全贴合，从而可以对PBN坩祸达到有效的支撑和保护的作用，减少应力对PBN坩祸的损伤。底座基体1可有效地将PBN坩祸固定于甲醇槽内，圆角3可避免底座对PBN坩祸的损伤。
【主权项】
1.一种用于单晶制备过程中的PBN坩祸固定底座，包括底座基体(I)，其特征在于:所述的底座基体(I)为前后两面平行的四棱台，底座基体(I)圆角的上端面为与PBN坩祸底面形状相吻合的弧面凹槽(2)，弧面凹槽(2)截面弧形所在圆的直径与PBN坩祸的外径相同，底座基体⑴的宽度略大于坩祸的直径，底座基体⑴的长度为PBN坩祸等径部分长度的3/4，弧面凹槽(2)凹面与底座基体(I)的侧面成圆角(3)过渡。
【专利摘要】本实用新型提出用于一种用于单晶制备过程中的PBN坩埚固定底座，PBN坩埚固定底座包括底座基体，所述的底座基体为前后两面平行的四棱台，底座基体的上端面为与PBN坩埚底面形状相吻合的弧面凹槽，弧面凹槽截面弧形所在圆的直径与PBN坩埚的外径相同，底座基体的宽度略大于坩埚的直径，底座基体的长度为PBN坩埚等径部分长度的3/4，弧面凹槽凹面与底座基体的侧面成圆角过渡。PBN坩埚固定底座对PBN坩埚进行有效地固定，减少应力对PBN坩埚的损伤，降低甲醇炉对PBN坩埚的磨损，从而延长PBN坩埚的使用寿命，节省生产成本。
【IPC分类】C30B35/00
【公开号】CN204982141
【申请号】CN201520753311
【发明人】于会永
【申请人】大庆佳昌晶能信息材料有限公司
【公开日】2016年1月20日
【申请日】2015年9月25日