专利名称：用于正型热平版印版的近红外辐射敏感涂料组合物的共聚物的制作方法
用于正型热平版印版的近红外辐射敏感涂料组合物的共聚物本发明涉及热平版印版及其涂料。更具体地，本发明涉及用于正型热平版印版的近红外辐射敏感涂料组合物的共聚物。本发明的
背景技术：
在平版印刷中，将印版安装在印刷机的滚筒上。印版表面携带有平版印刷图像，通过在所述图像上施加油墨，然后将所述油墨从印版转移至接收材料(通常为纸张)上而获得印刷复印件。通常首先将油墨转移至中间覆盖层，所述覆盖层又将油墨转移至接受材料的表面(胶版印刷)。通常，所谓“湿”平版印刷是将油墨以及水性润版液(也称为润湿液)提供至由亲油性(或疏水性，即接受油墨，排斥水分)区域和亲水性(或疏油性，即接受水分或排斥油墨)区域构成的平版印刷图像。当用水润湿印版表面并施加油墨时，亲水区域保留水分并排斥油墨，受墨区域接受油墨并排斥水分。在印刷过程中，油墨转移至其上待复制图像的接受材料表面。平版印版通常包含施加在基材(通常为铝)的亲水表面上的成像层(也称为可成像层或涂层)。所述成像层包含通常分散于合适粘合剂中的一种或多种辐射敏感组分。为了在印版上产生平版印刷图像，通过定向辐照使印版成像。这可以以不同方式实施。在直接数字成像(计算机直接制版)中，可用红外或紫外激光器或光源使印版成像。该激光束可通过计算机以数字方式控制，即可启动或关闭激光，以使得前体的成像曝光能借助计算机中所储存的数字化信息进行。因此，待借助这类图文影排机成像曝光的印版成像层必须对光谱的近红外(NIR)或紫外(UV)区域中的辐射敏感。热平版印版为对近红外辐射敏感的印版。
成像设备通过引发成像层的局部转变而蚀刻印版上的图像。事实上，在这类成像系统中，成像层通常包含能吸收入射辐射的染料或颜料，且吸收的能量引发形成图像的反应。在辐射中的曝光引发成像层中的物理或化学过程，从而使得成像区域变得不同于未成像的区域，且显影时在印版上产生图像。成像层中的变化可为亲水性/亲油性、溶解性、硬度等的变化。曝光后，借助合适的显影剂移除成像层的曝光区域或未曝光区域，从而露出下方的基材亲水表面。显影剂通常为可含有无机盐如偏硅酸钠、氢氧化钠或氢氧化钾和表面活性剂的碱性水溶液。或者，在成像后，可直接将“印刷机上可显影的”平版印版安装在印刷机上，且在首次印刷操作过程中通过与油墨和/或润版液接触而显影。换言之，成像层的曝光区域或未曝光区域可借助油墨和/或润版液移除，而不借助显影剂移除。更具体地，所谓的印刷机上显影系统为将已曝光的印版安装在印刷机的印版滚筒上，向其供入润版液和油墨，同时转动滚筒以移除无图像区域的系统。该技术允许在印刷机上原样安装已成像但未显影的印版(也称为印版前体)，作为常规印刷线上的印版。如果移除曝光区域，则该前体为正型的。相反，如果移除未曝光的区域，则该前体为负型的。在每种情况下，保留的成像层区域(即图像区域)为油墨接受性的，而通过显影工艺所显露的亲水表面的区域接受水分和水溶液(通常为润版液)，而且不接受油墨。现有技术已知使用包含氰基(-CN)的共聚物，其中所述氰基与用于制造单层和多层正型热平版胶印版的聚合物主链直接相连。这些具有与聚合物主链直接相连的氰基(-CN)的共聚物通常在印刷机上提供良好的成膜性、机械强度和耐化学性。丙烯腈和甲基丙烯腈为具有低沸点(〈100° C)的液体。近年来，它们被归类为有害和剧毒物质。因此，它们需要特别的处理和运输许可。在预期的加工、使用和处理条件下，由产品中释放的丙烯腈和甲基丙烯腈残留物以8小时时间平均值计不得超过lppm(空气浓度)。当使用含丙烯腈和甲基丙烯腈的共聚物制备平版胶印版时，很难满足这些要求。发明简述根据本发明，提供1. 一种具有如下通式结构的共聚物
权利要求
1.一种具有如下通式结构的共聚物
2.根据权利要求1的共聚物，其中Al为下式
3.根据权利要求1或2的共聚物，其中Al为
4.根据权利要求1-3中任一项的共聚物，其中Α2包含侧基，所述侧基包括5，5- 二烷基乙内酰脲基如5，5- 二甲基乙内酰脲基、氨基磺酰胺基或羟基。
5.根据权利要求1-3中任一项的共聚物，其中A2为下式
6.根据权利要求5的共聚物，其中Y为
7.根据权利要求5的共聚物，其中A2为
8.根据权利要求1-7中任一项的共聚物，其中c为约O.01-约O. 90。
9.根据权利要求8的共聚物，其中A3包含烷基或芳基侧基，其中芳基最终被烷基取代。
10.根据权利要求8的共聚物，其中A3为下式
11.根据权利要求9的共聚物，其中A3为
12.根据权利要求1-10中任一项的共聚物，其中A4包含侧基，所述侧基包括羧酸基或磷酸基。
13.根据权利要求1-11中任一项的共聚物，其中A4为下式
14.根据权利要求1-12中任一项的共聚物，其中A4为通过聚合如下单体而获得的单体单元丙烯酸、甲基丙烯酸、4-羧基苯基甲基丙烯酰胺、4-羧基苯基丙烯酰胺、乙烯基苯甲酸、乙烯基磷酸、甲基丙烯酰基烷基磷酸或丙烯酰基烷基磷酸。
15.—种近红外福射敏感涂料组合物,其包含 ■根据权利要求1-13中任一项所定义的共聚物； ■粘合剂树脂； ■近红外辐射吸收性化合物；和 ■任选的添加剂。
16.一种正型热平版印版，其包含近红外辐射敏感涂层，其中所述涂层为由权利要求14的涂料组合物制备的涂层。
17.—种正型热平版印版，其包含近红外辐射敏感的涂层，所述涂层包含 ■根据权利要求1-13中任一项所定义的共聚物； ■粘合剂树脂； ■近红外辐射吸收性化合物； ■任选的添加剂。
18.一种制备正型热平版印版的方法，所述方法包括如下步骤 c)提供基材，和 d)将权利要求14的涂料组合物涂覆在所述基材上。
19.一种印刷方法，所述方法包括如下步骤 f)提供根据权利要求15或16的正型热平版印版， g)使用近红外辐射使所述印版成像， h)将所述印版显影，和 i)使用所述印版在印刷机上进行印刷。
20.一种单体，其对应于权利要求1-3中任一项所定义的单体单元Al。
21.—种单体，其对应于权利要求1和权利要求4-7中任一项所定义的单体单元A2。
22.—种单体，其对应于权利要求1和权利要求9-11中任一项所定义的单体单元A3。
23.—种单体，其对应于权利要求1、12和13中任一项所定义的单体单元A4。
全文摘要
提供了一种具有如下通式结构的共聚物，其中a，b和d为约0.01-约0.90的摩尔比，c为约0.01-约0.90的摩尔比；A1表示包含含氰基的侧基的单体单元，其中所述氰基不与所述共聚物的主链直接相连；A2表示包含两个或更多个氢键合位点的单体单元；A3表示提高在有机溶剂中的溶解度的单体单元；且A4表示提高在碱性水溶液中的溶解度的单体单元。还提供了一种包含该共聚物的近红外辐射敏感涂料组合物，一种包含含该共聚物的近红外辐射敏感涂层的正型热平版印版，一种可制作该印版的方法，最后涉及使用该印版进行印刷的方法。式I
文档编号C08F220/54GK103038267SQ201080067245
公开日2013年4月10日 申请日期2010年9月14日 优先权日2010年9月14日
发明者M·T·阮, A·潘, V-T·阮-特鲁昂, M-A·罗卡斯 申请人:米兰集团