一种不同浓度法制备大颗粒圆滑ε‑HNIW晶体的方法与流程

文档序号:12572890阅读:815来源:国知局
一种不同浓度法制备大颗粒圆滑ε‑HNIW晶体的方法与流程

本发明涉及一种不同浓度法制备大颗粒圆滑ε-HNIW晶体的方法,属于含能材料领域。



背景技术:

六硝基六氮杂异伍兹烷(HNIW或CL-20)是一种笼型多硝胺类高能化合物,是当今世界综合性能最好的单质炸药之一。HNIW有多种晶型,常温常压下有四种晶型(α、β、γ及ε),其中ε晶型的理论密度高达2.044g/cm3,爆速可达9.5km/s-9.6km/s,爆压可达42GPa-43GP,能量输出比HMX高10~14%,可作为HMX的最佳替代品,作为高能、冲击不敏感炸药的含能组份。

迄今为止,在合成出的高能量密度材料中,最有望取代HMX的是HNIW,但是,由于感度高,晶形不规则,粒度分布宽等因素,需要提高HNIW的结晶品质并进行降感处理,以满足军事应用开发的要求。

炸药的物理化学改性的主要手段是将炸药制备成不同形貌的晶体。炸药的晶体形貌主要包括炸药晶体的颗粒度、晶体形状和晶体缺陷。随着对炸药研究的深入,逐渐发现炸药晶体形貌对炸药的性质有重要影响,不同晶体形貌的炸药,安定性、燃烧、爆炸性能都会改变。例如,炸药细化到微米甚至纳米量级后,对窄脉冲变得更敏感,起爆阈值显著降低,而对机械撞击变得钝感,从而可应用于火工药剂。将炸药通过重结晶获得高品质晶体,经过表面优化提高球形度,可以降低冲击波感度,有望用于钝感弹药装药。因此,积极开展高品质炸药制备、性能和应用方面的研究,拓宽高能炸药研究领域和水平,对提高武器装备能力具有重要意义。

为改善浇注和熔铸炸药的流变性能和加工性能,增加装药固含量和装填密度,提高战斗部的爆炸威力,需要对制备工艺技术进行研究,制备出粒度大、形状接近球形、表面光滑的特质HNIW,使其性能进一步提高。

中国专利(CN 103539800A)提出了一种溶剂-反溶剂重结晶法制备ε-HNIW的方法。利用HNIW溶液过饱和区加入晶种的方法,制备出了平均粒径大于350μm的大颗粒HNIW,晶体带有尖锐棱角,反溶剂使用较多,不能回收利用。

Joanna Szczygielska等人利用溶剂-反溶剂法制备ε-HNIW。反溶剂为三氯甲烷和二甲苯,也考虑了加晶种的工艺,经过多次实验,重结晶后的样品在不加晶种情况下团聚,加晶种后虽然不团聚,但是形貌很差。



技术实现要素:

本发明所要解决的技术问题是提供一种不同浓度法制备大颗粒圆滑ε-HNIW晶体的方法,该方法通过在反溶剂中添加低浓度的HNIW滤液,析出少量的晶体,析出的晶体作为类似的“晶种”,加入饱和的HNIW滤液,二次快加反溶剂制备大颗粒圆滑ε-HNIW晶体。

本发明解决上述技术问题的技术方案如下。

一种不同浓度法制备大颗粒圆滑ε-HNIW晶体的方法,将低浓度的HNIW加入到反溶剂中,持续搅拌,析出晶体;再加入高浓度的HNIW,搅拌均匀后加入大量反溶剂使晶体从溶液中析出;过滤、洗涤、干燥得到大颗粒圆滑ε-HNIW晶体;

所述低浓度的HNIW的浓度为0.30-0.35克/毫升;所述高浓度的HNIW的浓度为0.4克/毫升;低浓度的HNIW中的HNIW含量是高浓度的HNIW中HNIW含量的15%-20%。

进一步,所述将低浓度的HNIW加入到反溶剂中时需保证反溶剂体积为低浓度的HNIW所用溶剂的2.5-3倍。

进一步,所述大量反溶剂的体积为高浓度的HNIW所用溶剂体积的2-2.5倍。

进一步,所述持续搅拌的时间为30-40分钟。

进一步,所述反溶剂为工业正辛烷、工业正庚烷、工业二氯甲烷、工业三氯甲烷、工业四氯化碳、甲苯、苯和工业石油醚中的一种或几种的混合物,优选为工业正辛烷。

有益效果

1)本发明使用不同浓度法制备大颗粒ε-HNIW晶体,两种不同浓度的HNIW有各自的作用。低浓度的滤液是为了使其前期析出的晶体较少,转晶时间也会缩短;高浓度的滤液是为了在滤液加入到反应釜中,晶体能尽量多的从溶液中析出来,在前期的晶体表面生长。该工艺具有:操作简单,反溶剂用量少,可以回收,反应条件温和,安全可靠,绿色高效,并容易实现产业化等优点。

2)本发明方法先在低搅拌速率加入低浓度HNIW,由于低浓度滤液体积较少,所以搅拌对其影响不是很大,当低浓度滤液加入后,在反应釜壁上析出的晶体能在加入饱和浓度HNIW中重新溶解在溶液中,也能避免在加入饱和浓度的滤液之前反应釜中溶剂挥发完;在加入饱和滤液前提高搅拌,就是为了使反应釜中溶剂混合均匀,晶体更加圆滑。

3)本发明没有将母液蒸馏的结晶溶剂排入空气中,不污染环境。

附图说明

图1为原料ε-HNIW晶体扫描电镜照片;

图2为实施例1制备的大颗粒ε-HNIW晶体扫描电镜照片;

图3为实施例1制备的大颗粒ε-HNIW粒度分布图。

具体实施方式

以下对本发明的原理和特征进行描述,所举实例只用于解释本发明,并非用于限定本发明的范围。

实施例1

将7gHNIW溶解于20mL工业乙酸乙酯,溶液过滤待用作为滤液A,将40gHNIW溶解于100mL工业乙酸乙酯,溶液过滤待用作为滤液B;结晶釜先用工业乙酸乙酯洗涤干净,再用工业正辛烷冲洗,然后向结晶釜中加入50ml工业正辛烷,将结晶釜处于40℃恒温水浴;开启搅拌器,100rpm低转速下预热保温,直至反溶剂的温度与夹套内水温相同;然后搅拌器转速调至350rpm,开启恒流泵向结晶釜中滴加滤液A滴加速率为40mL/min;待全部滴加完毕后,继续搅拌35min;然后将搅拌器的转速调至450rpm,开启恒流泵向结晶釜中滴加滤液B,全部滴加完毕后搅拌2min,再开启恒流泵向结晶釜中滴加200ml正辛烷,滴加速率为40mL/min;待全部滴加完毕后,继续搅拌3h,将晶体与母液过滤分离,使用工业乙醇充分洗涤晶体2次,再次过滤,在50℃烘箱中干燥10h,称重。晶体重量为42.6g,得率为90.6%。如图2所示,本实施例制备的ε-HNIW外观无尖锐棱角,晶面无裂纹,晶间无包夹物,而现有原料ε-HNIW晶体形貌差,带有尖锐棱角,机械感度高;如图3所示,析出晶体的粒度分布在180-425μm之间的含量,占析出晶体总量50%以上,中位粒径为256.145μm。

母液在80℃下蒸馏,蒸出工业乙酸乙酯,收集待处理,过滤馏分,得γ-HNIW和工业正辛烷,γ-HNIW和工业正辛烷回收继续使用。

实施例2

将12gHNIW溶解于40mL工业乙酸乙酯,溶液过滤待用作为滤液A,将80gHNIW溶解于200mL工业乙酸乙酯,溶液过滤待用作为滤液B;结晶釜先用工业乙酸乙酯洗涤干净,再用工业正辛烷冲洗,然后向结晶釜中加入120ml工业正辛烷,将结晶釜处于40℃恒温水浴;开启搅拌器,100rpm低转速下预热保温,直至反溶剂的温度与夹套内水温相同,然后搅拌器转速调至350rpm,开启恒流泵向结晶釜中滴加滤液A滴加速率为50mL/min;待全部滴加完毕后,继续搅拌35min,然后搅拌器转速调至450rpm,开启恒流泵向结晶釜中滴加滤液B,全部滴加完毕后搅拌2min,再开启恒流泵向结晶釜中滴加400ml正辛烷,滴加速率为50mL/min;待全部滴加完毕后,继续搅拌3h,将晶体与母液过滤分离,使用工业乙醇充分洗涤晶体2次,再次过滤,在50℃烘箱中干燥10h,称重。晶体重量为83.8g,得率为91.1%。

母液在80℃下蒸馏,蒸出工业乙酸甲酯,收集待处理,过滤馏分,得γ-HNIW和正辛烷,γ-HNIW和正辛烷回收继续使用。

实施例3

将160gHNIW溶解于500mL工业乙酸乙酯,溶液过滤待用作为滤液A,将1kgHNIW溶解于2.5L工业乙酸乙酯,溶液过滤待用作为滤液B;结晶釜先用工业乙酸乙酯洗涤干净,再用工业正辛烷冲洗,然后向结晶釜中加入1.5L工业正辛烷,将结晶釜处于38℃恒温水浴;开启搅拌器,100rpm低转速下预热保温,直至反溶剂的温度与夹套内水温相同,然后搅拌器转速调至300rpm,开启恒流泵向结晶釜中滴加滤液A滴加速率为35mL/min;待全部滴加完毕后,继续搅拌30min,然后搅拌器转速调至450rpm,开启恒流泵向结晶釜中滴加滤液B,全部滴加完毕后搅拌5min,再开启恒流泵向结晶釜中滴加6L正辛烷,滴加速率为35mL/min;待全部滴加完毕后,继续搅拌3h,将晶体与母液过滤分离,使用工业乙醇充分洗涤晶体2次,再次过滤,在50℃烘箱中干燥10h,称重。晶体重量为1.068kg,得率为92.1%。

母液在80℃下蒸馏,蒸出工业乙酸甲酯,收集待处理,过滤馏分,得γ-HNIW和正辛烷,γ-HNIW和正辛烷回收继续使用。

实施例4

将700gHNIW溶解于1.5L工业乙酸乙酯,溶液过滤待用作为滤液A,将4kgHNIW溶解于10L工业乙酸乙酯,溶液过滤待用作为滤液B;结晶釜先用工业乙酸乙酯洗涤干净,再用工业正辛烷冲洗,然后向结晶釜中加入4.5L工业正辛烷,将结晶釜处于38℃恒温水浴;开启搅拌器,100rpm低转速下预热保温,直至反溶剂的温度与夹套内水温相同,然后搅拌器搅拌转速调至300rpm,开启恒流泵向结晶釜中滴加滤液A滴加速率为45mL/min;待全部滴加完毕后,继续搅拌30min,然后搅拌器转速调至450rpm,开启恒流泵向结晶釜中滴加滤液B,全部滴加完毕后搅拌3min,再开启恒流泵向结晶釜中滴加20L正辛烷,滴加速率为45mL/min;待全部滴加完毕后,继续搅拌5h,将晶体与母液过滤分离,使用工业乙醇充分洗涤晶体2次,再次过滤,在50℃烘箱中干燥10h,称重。晶体重量为4.3kg,得率为91.5%。

母液在80℃下蒸馏,蒸出工业乙酸乙酯,收集待处理,过滤馏分,得γ-HNIW和工业正辛烷,γ-HNIW和工业正辛烷回收继续使用。

以上所述仅为本发明的较佳实施例,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

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