聚合物的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及通过活性阴离子聚合法使具有空间位阻性仲氨基或空间位阻性卤代 氨基的（甲基）丙烯酸酯聚合的制造方法、以及通过该制造方法得到的聚合物。
[0002] 本申请对2012年12月7日提出申请的日本专利申请第2012-268461号主张优先 权，并将其内容援引于此。
【背景技术】
[0003] 已知可以通过在聚合物的侧链导入受阻胺等高空间位阻性仲胺来改善聚合物的 光稳定性。例如，专利文献1中提出有含有空间位阻性胺侧链的聚醚。专利文献1的段落 0128中，通过使用叔丁醇钾和18-冠醚-6将2, 2, 6, 6-四甲基-4-(2, 3-环氧丙氧基）哌啶 进行阴离子聚合，制造含有高空间位阻性仲胺侧链的聚醚（1)。
[0004]
【主权项】
1. 一种聚合物的制造方法，其特征在于，通过使用聚合引发剂的活性阴离子聚合法，使 由式〔I〕或式〔II〕表示的（甲基）丙烯酸酯聚合，
式中，R1、R2、R3和R4各自独立地表示氢原子或碳原子数1~6的烷基；其中，R1、R2、R3 和R4中的至少2个为碳原子数1~6的烷基，碳原子数1~6的烷基彼此可以各自相同或 不同，另外，也可以相互键合而形成环；r表示碳原子数1~6的烷基，m表示O或1，R11表 示氢原子或甲基，X表示2价的连接基团，n表示O或1，Z表示氢原子或卤素原子；
式中，1?5、1?6、1?7、1? 8和1?9各自独立地表示氢原子或碳原子数1~6的烷基；其中，1?5、1? 6、R'R8和R9中的至少3个为碳原子数1~6的烷基，碳原子数1~6的烷基彼此可以各自相 同或不同，另外，也可以相互键合而形成环；R12表示氢原子或甲基，Y表示2价的连接基团， Q表不氢原子或卤素原子。
2. -种聚合物，其特征在于，含有由式〔III〕表不的重复单元，分子量分布为I.OO~ 1. 50，
式中，R1、R2、R3、R4、R11、n、X、r、m和Z与权利要求1中的记载相同。
3. -种聚合物，其特征在于，含有由式〔IV〕表不的重复单元，分子量分布为I.OO~ 1. 50，
式中，R5、R6、R7、R8、R9、R12、Y和Q与权利要求1中的记载相同。
【专利摘要】本发明寻求具有高空间位阻性仲氨基或高空间位阻性卤代氨基的(甲基)丙烯酸酯系聚合物的新颖的制造方法，尤其是不需要通过保护基保护仲胺的简便的制造方法。具有空间位阻性仲氨基或高空间位阻性卤代氨基的特定的(甲基)丙烯酸酯单体可以在不保护该仲胺的情况下通过活性阴离子聚合法进行聚合，根据本发明的制造方法，能够得到分子量分布窄的(甲基)丙烯酸酯聚合物。
【IPC分类】C08F20-18
【公开号】CN104822714
【申请号】CN201380062849
【发明人】新谷武士, 府川直裕
【申请人】日本曹达株式会社
【公开日】2015年8月5日
【申请日】2013年12月3日
【公告号】WO2014087644A1