L，磷酸盐溶液0.375ml/L，Hutner微量元素lml/L,乙酸lml/L, Tris 2.42g/L，琼脂粉15g/L，121°C高压蒸汽灭菌20min，倒平板备用；所述的 TAP 盐溶液为:NH4Cl 15g/L, MgSO4.7H20 4g/L, CaCl2.2H20 2g/L ;所述的磷酸盐溶液为:K2HP04288g/L，KH2PO4144g/L ；Hutner微量元素为:EDTA 二钠盐50g/L, ZnSO4.7Η20 22g/L, H3BO3Il.4g/L, MnCl2.4Η20 5.06g/L, CoCl.6Η20 1.61 g/L, CuSO4.5Η201.57g/L, (NH4)6Mo7O24.4H20 1.1 g/L, FeSO4.7H20 4.99g/L，用 KOH 或者 HCl 调节 pH 至 7.0。
[0025]所述的含有混合抗菌剂的类型、浓度与使用方法为:抗真菌剂嘧菌酯使用终浓度10ug/ml，在上述TAP固体培养基配制时添加，抗细菌剂萘啶酮酸使用终浓度15ug/ml，在上述TAP固体培养基配制灭菌以后，冷却至约55°C后添加。
[0026]实施例1:A.将混合杂菌污染的衣藻接种到TAP固体培养基平板上，在23±0.5°C，14/10小时明暗光周期，8000Lx光强下进行培养3-5天；B.配制含有10ug/ml嘧菌酯以及15ug/ml萘啶酮酸的混合抗菌剂TAP固体培养基平板待用；C.将已经培养好的含杂菌的衣藻转接划线至含有混合抗菌剂的TAP平板上，在23±0.5°C, 14/10小时明暗光周期，SOOOLx光强下进行培养5-8天；D.将已经除过菌的衣藻再次转接划线至普通的TAP固体培养基平板上，在23±0.5°C, 14/10小时明暗光周期，8000Lx光强下进行培养3_5天，进行后续实验或者保种备用。
[0027]具体步骤为:
[0028]1、污染衣藻活化:将受到污染的衣藻接种至TAP固体培养基平板上，在23±0.5°C，14/10小时明暗光周期，SOOOLx光强下进行培养3-5天，以便于衣藻处于生长能力较强的状态；所述的TAP固体培养基平板包括:TAP盐溶液25ml/L，磷酸盐溶液0.375ml/L，Hutner微量元素lml/L,乙酸lml/L, Tris 2.42g/L，琼脂粉15g/L，121 °C高压蒸汽灭菌20min，倒平板备用；所述 TAP 盐溶液为:NH4Cl 15g/L, MgSO4.7H20 4g/L, CaCl2.2H202g/L ；所述的磷酸盐溶液为:K2HP04288g/L，KH2PO4144g/L ；Hutner微量元素为:EDTA 二钠盐50g/L, ZnSO4.7Η20 22g/L, H3BO3Il.4g/L, MnCl2.4Η20 5.06g/L, CoCl.6Η20 1.61 g/L, CuSO4.5Η201.57g/L, (NH4)6Mo7O24.4H20 1.1 g/L, FeSO4.7H20 4.99g/L，用 KOH 或者 HCl 调节 pH 至 7.0。
[0029]2、污染衣藻除菌:配制含有10ug/ml嘧菌酯以及15ug/ml萘啶酮酸的TAP固体培养基平板。将上述已经在TAP固体培养基平板长好的污染衣藻转接划线至含有上述混合抗菌剂的TAP固体培养基平板上，在23 ± 0.5°C，14/10小时明暗光周期，8000Lx光强下进行培养5-8天，保证污染杂菌的去除。
[0030]3、去除菌后的衣藻转接:将已经去除杂菌的衣藻再次转接划线至普通的TAP固体培养基平板上，在23±0.5°C, 14/10小时明暗光周期，8000Lx光强下进行培养3_5天，进行后续实验或者保种备用。
[0031]进一步污染衣藻除菌时，选用步骤:如果衣藻污染杂菌较为严重，可以经过上述第2步处理后，再次将已经经过第2步处理的衣藻转接划线于含有上述混合抗菌剂的TAP固体培养基平板上，在23±0.5°C, 14/10小时明暗光周期，8000Lx光强下进行培养5_8天，以保证污染杂菌的彻底去除。
【主权项】
1.一种利用混合抗菌剂进行莱茵衣藻培养过程中的除菌方法，其特征是:杂菌污染的衣藻转接划线至含有混合抗菌剂的TAP固体培养基平板上，在23±0.5°C, 14/10小时明暗光周期，SOOOLx光强下进行除菌培养5-8天，实现衣藻的除菌；所述的混合抗菌剂包括:10ug/ml抗真菌剂和15 ug/ml抗细菌剂；所述的抗真菌剂为啼菌醋，抗细菌剂为萘啶酮酸。2.根据权利要求1所述的利用混合抗菌剂进行莱茵衣藻培养过程中的除菌方法，其特征是:所述的衣藻即实验藻种为:莱茵衣藻，即Chlamydomonas reinhardtii。3.根据权利要求1所述的利用混合抗菌剂进行莱茵衣藻培养过程中的除菌方法，其特征是:所述TAP固体培养基平板为:TAP盐溶液25 ml/L，磷酸盐溶液0.375 ml/L，Hutner微量元素I ml/L，乙酸I ml/L, Tris 2.42 g/L，琼脂粉15 g/L，121°C高压蒸汽灭菌20 min,倒平板备用；所述的 TAP 盐溶液为:NH4Cl 15 g/L, MgSO4-7H20 4 g/L, CaCl2.2Η20 2 g/L ；所述的磷酸盐溶液为:K2HP04 2 88 g/L, KH2PO4 144 g/L ；Hutner微量元素为:EDTA 二钠盐50 g/L, ZnSO4WH2O 22 g/L, H3BO3 11.4 g/L, MnCl2.4Η20 5.06 g/L, CoC1.6H20 1.61 g/L, CuSO4AH2O 1.57 g/L, (NH4) 6Μο7024.4Η20 LI g/L, FeSO4.7Η20 4.99 g/L，用 KOH 或者HCl调节pH至7.0。4.根据权利要求1所述的利用混合抗菌剂进行莱茵衣藻培养过程中的除菌方法，其特征是:所述的含有混合抗菌剂的类型、浓度与使用方法为:抗真菌剂嘧菌酯使用终浓度10ug/ml，在上述TAP固体培养基配制时添加，抗细菌剂萘啶酮酸使用终浓度15 ug/ml，在上述TAP固体培养基配制灭菌以后，冷却至约55°C后添加。
【专利摘要】一种利用混合抗菌剂进行莱茵衣藻培养过程中的除菌方法，属于莱茵衣藻除细菌与真菌的方法。方法：A.将混合杂菌污染的衣藻接种到TAP固体培养基平板上，在23±0.5℃，14/10小时明暗光周期，8000Lx光强下培养3-5天；B.配制10ug/ml嘧菌酯和15ug/ml萘啶酮酸的混合抗菌剂TAP固体培养基平板待用；C.将已经培养好的含杂菌的衣藻转接划线至含有混合抗菌剂的TAP平板上，在23±0.5℃，14/10小时明暗光周期，8000Lx光强下培养5-8天；D.将已经除过菌的衣藻再次转接划线至普通的TAP固体培养基平板上，在23±0.5℃，14/10小时明暗光周期，8000Lx光强下培养3-5天，进行后续实验或者保种备用。优点是利用嘧菌酯去除真菌、萘啶酮酸去除细菌，解决利用莱茵衣藻进行科学实验与应用过程中产生的杂菌污染问题。
【IPC分类】A01P1/00, A01N43/54, C12N1/12, A01P3/00, A01N43/90
【公开号】CN104893979
【申请号】CN201510274547
【发明人】王亮, 陆军, 郑元林, 陈慧怡, 杨丰源
【申请人】江苏师范大学
【公开日】2015年9月9日
【申请日】2015年5月26日