本实用新型公开一种炭黑的除杂装置，属于炭黑生产技术领域。
背景技术：
常规的炭黑制造的工艺是采用特制的反应炉进行高温热解碳基原料，其碳基原料包括气体或液体形态，碳基原料经高温热裂解后成为黑色粉末状炭黑，炭黑在生产时，各种设备如金属管道、储罐、运动设备等，在工作时会产生金属磨屑，而且在检修时设备内也可能会掉落下金属物件，这些金属杂质都会混杂在炭黑中，对炭黑品质造成影响，而且由于炭黑溶液中含较多的金属离子且ph值很高，在烘干过程中会结团，形成焦粒，从而造成杂质。
技术实现要素：
针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的是为了提供一种炭黑的除杂装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案来实现的：
一种炭黑的除杂装置，包括搅拌机、负压舱和管道，所述搅拌机内设有搅拌装置，所述搅拌机上方设有入料口一、入料口二和测量管，所述测量管内设有ph测量计，所述测量管设置在液面以下，所述搅拌机下方设有出料口，所述负压舱设有入料口三，所述出料口与入料口三通过管道相连接，所述出料口的下方设有抽水泵一，所述入料口三的上方设有过滤箱，所述过滤箱内设有磁铁除杂栅，所述负压舱分为两部分，分别为负压舱一和负压舱二，所述负压舱一和负压舱二之间设有过滤栅板，所述过滤栅板设置成漏斗状，所述过滤栅板上设有滤布，所述负压舱二连接有抽水泵二。
作为优选：所述入料口一和入料口二设置在搅拌装置左侧，所述测量管设置在搅拌装置右侧。
作为优选：所述入料口一设置成固体入料口，所述入料口二设置成液体入料口。
作为优选：所述入料口二设有三道管道，分别为净水管道、丙酮管道和酸液管道，且三道管道上均设有阀门。
作为优选：所述搅拌装置包括电机、搅拌轴和搅拌桨。
由上述技术方案可知，本实用的有益效果是：
通过设置丙酮管道和酸液管道能减少炭黑混合液中的金属离子，防止烘干过程中焦粒的产生，提高炭黑的纯度，而且通过磁铁除杂栅能有效分离炭黑中的金属杂质，通过负压舱能使炭黑去除水分时更快速、更干燥，同时将入料口二设置成三道管道，有利于对液体注入量的控制，也使得操作更加方便。
附图说明
图1为本实用新型一种炭黑的除杂装置的结构示意图。
附图标记：1、搅拌机；2、负压舱；201、负压舱一；202、负压舱二；3、管道；4、搅拌装置；5、入料口一；6、入料口二；601、净水管道；602、丙酮管道；603、酸液管道；7、测量管；8、出料口；9、入料口三；10、抽水泵一；11、过滤箱；12、磁铁除杂栅；13、过滤栅板；14、滤布；15、抽水泵二。
具体实施方式
参照图1对本实用新型一种炭黑的除杂装置做进一步说明。
一种炭黑的除杂装置，包括搅拌机1、负压舱2和管道3，所述搅拌机1内设有搅拌装置4，所述搅拌机4上方设有入料口一5、入料口二6和测量管7，所述测量管7内设有ph测量计，所述测量管7设置在液面以下，所述搅拌机1下方设有出料口8，所述负压舱2设有入料口三9，所述出料口8与入料口三9通过管道3相连接，所述出料口8的下方设有抽水泵一10，所述入料口三9的上方设有过滤箱11，所述过滤箱11内设有磁铁除杂栅12，所述负压舱2分为两部分，分别为负压舱一201和负压舱二202，所述负压舱一201和负压舱二202之间设有过滤栅板13，所述过滤栅板13设置成漏斗状，所述过滤栅板13上设有滤布14，所述负压舱二202连接有抽水泵二15，所述入料口一5和入料口二6设置在搅拌装置4左侧，所述测量管7设置在搅拌装置4右侧，所述入料口一5设置成固体入料口，所述入料口二6设置成液体入料口，所述入料口二6设有三道管道，分别为净水管道601、丙酮管道602和酸液管道603，且三道管道上均设有阀门。
在入料口一5加入炭黑粉末，通过净水管道601注入纯净水，启动电机，带动搅拌轴和搅拌桨旋转，使炭黑粉末与纯净水混合搅拌，由于溶液的ph值很高，酸液管道603滴入酸液以中和溶液中的碱性，而测量管7内的ph测量计能测量出溶液中ph值，通过丙酮管道602注入适量的丙酮，将溶液搅拌完全，打开抽水泵一10将溶液运送到负压舱一201内，由于该溶液通过了过滤箱11内的磁铁除杂栅12，使得炭黑溶液中的金属杂质被吸附在磁铁除杂栅12上，当磁铁除杂栅12上吸附的金属杂质过多时可以将其取出，去除掉上面的金属杂质，在炭黑溶液被运输到负压舱一201内的过滤栅板13上，由于过滤栅板13上方有滤布14，悬浮的炭黑会留在滤布14上，水则被过滤掉，使得炭黑溶液中的金属离子也一起被过滤掉，防止了炭黑在烘干过程中产生焦粒，提高炭黑的纯度，负压舱二202连接有抽水泵二15，当抽水泵二15将负压舱二202内的液体抽掉一部分后，负压舱二202内产生负压，加快了过滤的进程，也使得过滤后的炭黑更加干燥。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。