专利名称:医疗电子x射线摄影用卤化稀碱荧光体的制作方法
本发明是一种适用于医疗电子X射线摄影用的荧光体。
一般电子X射线摄影是根据半导体的光电特性和静电现象来提高电子摄影的图象，常用的电子X射线摄影用的荧光体为(Zn·Cd)S∶Ag或Cd2O2S∶Tb。但是，把它们真空蒸镀到硒极上却需要很高的温度，必需采用电子束流轰击才能实现真空蒸镀，用于生产存在着设备昂贵，电力消耗大，生产成本高等问题。此外，为提高软X射线的效率，采用含有活性溴化铷(Rubidium bromide)和卤化铊(Thalium halogenide)荧光体的X射线转换屏，其发光或荧光屏是用一定幅射能量激发含活化的卤化稀碱发光物质;其中RbBr∶Tl对软X线有很好的吸收和很好的发光效率。但是，这种荧光体因化学稳定性差目前仅用于X线增强管的玻璃质荧光屏。
根据上述存在的问题，为开拓卤化稀碱荧光体在医疗电子X射线硒极摄影中的应用，本发明采用低熔点的卤化稀碱荧光体，其特点是先制成YX∶Z高亮度的主峰波长为560nm的宽谱带荧光体(其中Y一般为Cs;X为F、Cl、Br或I;Z为Tl或Eu2+，其发光光谱和光电导体的光谱灵敏曲线近于一致，有利于对X射线感光灵敏度的提高(见附图1)，真空镀膜仅需使用一般电炉加热200-400℃便可实现，而不需使用电子束流轰击。其另一特点是先对金属基板蒸镀上述荧光体，再蒸镀硒，使荧光体很好地被隔绝空气，避免了它与空气中氧和水的化学作用，解决了这类荧光体的化学性质不稳定的问题。
采用本发明荧光体制造电子X射线含荧光体的硒感光板，真空蒸镀荧光体的温度低，不必使用电子束流轰击，用一般电炉加热便可将荧光体蒸镀到硒基板上，使生产设备投资较低，电力消耗较小，生产成本降低，用作医疗X射线诊断时比普通硒板提高灵敏度一倍，X射线剂量可减少一半。
实施例按常规合成CsI和TLI，按摩尔比为CsI∶TLI＝1∶0.0037准确称取CsI和TLI，加入少量无水乙醇研磨，混合均匀，烘干，在刚玉坩埚中，加盖，250-400℃下灼烧10-60分钟，制得白色的CsI∶TL荧光体。
将CsI∶TL荧光体放入真空镀膜机内，200-450℃温度下，真空蒸镀CsI∶TL荧光体到基板上，然后按常规蒸镀硒粉等，便可制得电子X射线硒感光板。
附图为光导体的光谱灵敏曲线和荧光体发光光谱曲线。其中，纵座标为相对灵敏度，横座标为波长。
a曲线为光导体的光谱灵敏度曲线〔引自《映像情报》VOl 13NO6p184(1981)〕。
b曲线为本发明CsI∶TL荧光体所测得的发光光谱曲线。
权利要求
1.一种卤化稀碱荧光体其特征是医疗电子X射线摄影用卤化稀碱荧光体，采用先制成高亮度的荧光体，再真空蒸镀到硒感光基板上而成；
2.按权利要求
1所述高亮度、荧光体，其特征是制成YX∶Z高亮度卤化稀碱荧光体，其中Y一般为Cs，X为卤素，Z为Tl或Eu2+;
3.按权利要求
1所述真空蒸镀，其特征是在温度200-400℃时真空镀膜YX∶Z荧光体，并不需要使用电子束流轰击。
专利摘要
本发明研究出了一种医用电子X射线摄影用卤化稀碱荧光体。叙述了真空蒸镀荧光体到硒基板上的工艺；它具有温度低，不必使用电子束流轰击等优点。
文档编号C03C1/00GK85100259SQ85100259
公开日1986年7月16日 申请日期1985年4月1日
发明者何喜庆, 蒋昌武, 吴琳琍, 杜秀珍, 陈纯 申请人:武汉大学导出引文BiBTeX, EndNote, RefMan