物，例如可以列举：N-2_(氨基乙基）-3_氨基丙 基甲基二甲氧基硅烷、N-2_(氨基乙基）-3_氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三甲氧基 硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-脲丙基三烷氧基硅烷等。
[0074] 作为X1中的官能团为环氧基的化合物，例如可以列举：2-(3,4_环氧环己基）乙基 三甲氧基硅烷、3-缩水甘油醚氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-缩水甘油醚氧基丙基三甲氧 基硅烷、3-缩水甘油醚氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-缩水甘油醚氧基丙基三乙氧基硅烷 等。
[0075] 作为X1中的官能团为酸酐基的化合物，例如可以列举：3_三甲氧基甲硅基丙基丁 二酸酐。
[0076] 作为X1中的官能团为乙烯基的化合物，例如可以列举：乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯 基三乙氧基硅烷、苯乙烯基三甲氧基硅烷、3_(甲基）丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、 3_(甲基）丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3_(甲基）丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、 3_(甲基）丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷等。
[0077] 对（D)成分的使用量不进行特别限定，通常，在将（A)成分和（B)成分作为100重 量份（按固体成分换算）的情况下，通常在5-50重量份左右的范围内，优选在20-40重量 份左右的范围内。
[0078] 根据需要，本发明的底漆可以含有各种公知的无机粒子（E)(以下称（E)成分）。 具体而言，例如可以列举：二氧化硅、二氧化钛、氧化铝、氧化锌、氧化锡、氧化锆、氧化铟锡 (ITO)、氧化锑锡（ΑΤΟ)、氢氧化铝、氢氧化钙、氢氧化镁等粒子。这些成分可以单独使用一 种，也可以将两种以上组合使用。其中，特别优选二氧化硅和/或氧化铝。另外，对（Ε)成 分的表面可以施加各种处理。另外，对（Ε)成分的中值粒径（d50)不进行特别限定，通常为 lOnm-5μm左右。
[0079] 对（E)成分的使用量不进行特别限定，通常，在将（A)成分和（B)成分作为100重 量份（按固体成分换算）的情况下，通常在1-20重量份左右的范围内，优选在5-10重量份 左右的范围内。
[0080] 本发明的底漆可以进一步含有光聚合引发剂（F)(以下称（F)成分）。
[0081] 作为（F)成分的具体种类，例如可以列举：二苯甲酮、4'-甲硫基-α-吗啉 基-α-甲基苯丙酮、2, 4, 6-三甲基二苯甲酮、邻苯甲酰苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、叔 丁基蒽醌、2-乙基蒽醌、二乙氧基苯乙酮、2-羟基-2-甲基-1-苯丙烷-1-酮、寡聚{2-羟 基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基）苯基]丙酮}、苯偶酰二甲基缩酮、1-羟基环己基苯 基甲酮、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香异丙醚、安息香异丁醚、2-甲基-[4-(甲硫基）苯 基]-2-吗啉基-1-丙酮、2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉基苯基）-1- 丁酮、2-二甲氨 基-2-(4-甲基苄基）-1-[4-(4_吗啉基）苯基]-1- 丁酮、二乙基硫杂蒽酮、异丙基硫杂蒽 酮、2, 4, 6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、双（2, 6-二甲氧基苯甲酰基）-2, 4, 4-三甲基戊 基氧化膦、双（2, 4, 6-三甲基苯甲酰基）苯基氧化膦、2-羟基-l-{4-[4-(2-羟基-2-甲基丙 酰基）苄基]苯基}_2_甲基丙烷-1-酮、苯甲酰甲酸甲酯、苯基乙醛酸甲酯、4,4'-双（二 乙氨基）二苯甲酮、2-苄基-2-二甲氨基-4-吗啉苯丁酮、2, 2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、 2-甲基-1-苯基-2-吗啉代丙烷-1-酮、2-甲基-1- (4-己基苯基）-2-吗啉代丙烷-1-酮、 2-乙基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉代苯基）-1- 丁酮以及日本专利公开公报特开2014-1390 号记载的光聚合引发剂等。这些成分可以单独使用一种，也可以将两种以上组合使用。另 外，作为（F)成分，例如可以使用Irgacure907、Irgacure369、Irgacure379、Irgacure651、 Irgacurel84、Irgacure500、IrgacurelOOO、Irgacurel49、Irgacure261、Darocurell73 等 市售商品。另外，这些成分可以单独使用一种，也可以将两种以上组合使用。
[0082] 对（F)成分的使用量不进行特别限定，通常，在将（C)成分作为100重量份（按固 体成分换算）的情况下，（F)成分的使用量通常在0. 1-10重量份左右的范围内，优选在1-5 重量份左右的范围内。
[0083] 另外，作为（F)成分的助剂，可以将下述成分组合使用：三乙醇胺、三异丙醇胺、 4, 4'-二甲氨基苯甲酮（米氏酮）、4, 4'-二乙氨基苯甲酮、2-二甲氨基苯甲酸乙酯、4-二 甲氨基苯甲酸乙酯、4-二甲氨基苯甲酸（正丁氧基）乙酯、4-二甲氨基苯甲酸异戊酯、4-二 甲氨基苯甲酸-2-乙基己酯、2, 4-二乙基硫杂蒽酮、2, 4-二异丙基硫杂蒽酮等。另外，这些 成分可以单独使用一种，也可以将两种以上组合使用。
[0084] 在本发明的底漆中，可以进一步含有机溶剂（G)(以下称（G)成分）。具体而言，例 如可以列举：甲乙酮、甲基异丁酮等低级酮类；甲苯等芳香族烃类；乙醇、丙醇等醇类；丙二 醇单甲醚乙酸酯、乙二醇乙醚乙酸酯等醚酯类；乙酸乙酯；三氯甲烷；二甲基甲酰胺等。这 些成分可以单独使用一种，也可以将两种以上组合使用。
[0085] 对（G)成分的使用量不进行特别限定。然而，（G)成分的使用量通常是使本发明 底漆的固体成分浓度成为1-60重量％左右的范围内。
[0086] 在本发明的底漆中，可以进一步含有氨基甲酸酯化催化剂。具体而言，例如可以列 举：二月桂酸二丁基锡、二月桂酸二辛基锡、辛酸铋等有机金属催化剂；二氮杂二环辛烷、 二甲基环己胺、四甲基丙二胺、乙基吗啉、二甲基乙醇胺、三乙胺、三亚乙基二胺等有机胺系 催化剂等。这些成分可以单独使用一种，也可以将两种以上组合使用。另外，对该氨基甲酸 酯化催化剂的使用量不进行特别限定，然而，在将（A)成分和（B)成分作为100重量份（按 固体成分换算）的情况下，该催化剂的使用量通常在〇. 01-0. 5重量份左右的范围内，优选 在0. 05-0. 2重量份左右的范围内。
[0087] 另外，根据需要，本发明的底漆可以含有多巯基化合物。具体而言，例如可以列举： 1，3, 5-三（3-巯基丁酰氧基乙基）-1，3, 5-三嗪-2, 4, 6 (1H，3H，5H)-三酮、1，4-双（3-巯 基丁酰氧基）丁烷、三羟甲基丙烷三（3-巯基丁酸酯）、三羟甲基乙烷三（3-巯基丁酸酯）、 季戊四醇四（3-巯基丁酸酯）、二季戊四醇六（3-巯基丁酸酯）等。这些成分可以单独使用 一种，也可以将两种以上组合使用。对该多巯基化合物的使用量不进行特别限定，在将（A) 成分和（B)成分作为100重量份（按固体成分换算）的情况下，该多巯基化合物的使用量 通常在1-20重量份左右的范围内，优选5-10重量份左右的范围内。
[0088] 另外，在使用多巯基化合物的情况下，为了延长本发明的底漆的贮放时间，可以 使用各种公知的硫醇-烯反应抑制剂。具体而言，例如可以列举：三苯基膦、亚磷酸三苯 酯等膦系化合物；对甲氧基苯酚、对苯二酚、连苯三酚、萘胺、叔丁基邻苯二酚、氯化亚铜、 2, 6-二叔丁基对甲酚、2, 2'-亚甲基双（4-乙基-6-叔丁基苯酚）、2,2< -亚甲基双 (4-甲基-6-叔丁基苯酚）、N-亚硝基-N-苯基羟胺铝盐、二苯基亚硝胺等自由基聚合抑制 剂；苄基二甲胺、2-(二甲氨基甲基）苯酚、2, 4, 6-三（二氨基甲基）苯酚、1，8_二氮杂双 环[5. 4.0]i^一碳-7-烯等叔胺类；2-甲基咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑、2-乙基己基咪唑、 2--I^一基咪唑、1-氰基乙基-2-甲基咪唑等咪唑类等。这些成分可以单独使用一种，也可 以将两种以上组合使用。
[0089] 在本发明的底漆中，还可以含有流平剂、抗氧化剂、聚合抑制剂、紫外线吸收剂等 其它添加剂。
[0090] 本发明的具有铜薄膜的基材是在各种基材的表面，按照如下顺序层叠而成的复合 基材：本发明的底漆固化而成的底漆层；以及铜薄膜层。
[0091] 作为上述基材，例如可以列举：不仅有聚酯、聚氯乙烯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚碳酸 酯、聚乙烯、聚丙烯等塑料材料，还有金属、玻璃、纸、纳米纤维素纸、木材等非塑料材料。另 外，对这些基材的形状不进行特别限定，例如可以是球状、圆柱状、长方体状、板状、膜状；另 外，它们的表面的一部分可以有凹凸和曲面等存在。在本发明的具有铜薄膜的基材作为导 电膜使用的情况下，从耐热性和光学特性等方面考虑，基材优选塑料膜，特别优选聚酯膜。 另外，对该基材膜的厚度也不进行特别限定，通常为50-200μm左右。
[0092] 另外，对上述固化底漆层的厚度不进行特别限定，通常为0. 1-5μm左右。
[0093] 作为上述铜薄膜层，例如可以列举：铜气相沉积膜、铜溅射膜、铜CVD膜。本发明的 具有铜薄膜的膜在用于电极膜的情况下，作为该铜薄膜，特别优选铜气相沉积膜或铜溅射 膜。另外，对该铜薄膜层的厚度不进行特别限定，通常为〇. 1-2μm左右。
[0094] 对本发明的具有铜薄膜的基材的制造方法不进行特别限定。例如可以列举包含下 述工序的实施方式：（1)在基材的表面（基材例如是膜状的话，为单面或两面）涂布本发明 的底漆；（II)将该基材加热后；（III)通过进一步照射活性能量线，形成固化底漆层；（IV) 在该固化底漆层上形成铜薄膜层。
[0095] 关于工序（I)，对在上述基材的表面（基材例如是膜状的话，为单面或两面）涂布 本发明的底漆的条件不进行特别限定，作为涂布设备，例如可以列举：喷涂机、辊涂机、逆转 辊涂机、凹版辊涂机、刀式涂布机、棒式涂布机、点式涂布机等。另外，对涂布量也不进行特 别限定，通常，作为干燥固体成分为〇.〇l-l〇g/m2左右。
[0096] 关于工序（II)，对该基材加热时的条件不进行特别限定，通常温度为80_150°C左 右，时间为10秒至2分钟左右。通过该处理，在使用有机溶剂（G)的情况下，使得有机溶剂 从半固化的底漆层挥发，同时在该层中，（A)成分和（B)成分发生氨基甲酸酯化反应，形成 交联结构。另外，在该氨基甲酸酯化反应中，（C)成分以及（D)成分中的例如具有羟基、氨 基、疏基、异氛酸酯基等的成分也参与反应。
[0097] 关于工序（III)，对向半固化的底漆层照射活性能量线时的条件不进行特别限 定。作为活性能量线，例如可以列举：紫外线、电子束等。作为紫外线的供给源，例如可以 列举：高压