技术特征：
技术总结
本公开涉及除霜设备及其操作方法。一种除霜系统包括：RF信号源；两个电极，其靠近其内定位有待除霜的负载的腔；传输路径，其在所述RF信号源与所述电极之间；以及阻抗匹配网络，其沿着所述RF信号源的输出端与所述电极之间的所述传输路径电耦合。所述系统还包括功率检测电路系统，所述功率检测电路系统耦合到所述传输路径并且被配置成检测沿着所述传输路径的反射信号功率。系统控制器被配置成基于所述反射信号功率来修改所述阻抗匹配网络的可变电容器的值以降低所述反射信号功率。所述阻抗匹配网络可以是单端网络或双端网络。
技术研发人员：J·M·马克卡维勒;P·M·J·皮埃尔;J·E·司各特;L·莫金;J·西蒙
受保护的技术使用者：恩智浦美国有限公司
技术研发日：2019.03.29
技术公布日：2019.07.19