技术总结
本发明属于半导体行业晶片处理技术领域，具体地说是一种喷嘴清洗装置及清洗方法。所述装置包括清洗槽、接液盒及真空发生器，其中清洗槽设置于接液盒内，所述接液盒的底部设有接液盒排废口，所述清洗槽的两端为开口结构，并槽体内布设有流道，所述清洗槽的内壁上设有与所述流道连通的多个喷孔，所述清洗槽的底部设有与所述流道连通的液体进出口，所述液体进出口分别与供液管路和排液管路连接，所述真空发生器与所述排液管路连接，并利用真空将清洗槽内的废液排除。本发明可以保证清洗液对喷嘴易沾污位置的有效清洗，延长了喷嘴的维护周期，从而提高设备的工作效率。
技术研发人员：尹宁
受保护的技术使用者：沈阳芯源微电子设备有限公司
文档号码：201510571023
技术研发日：2015.09.09
技术公布日：2017.03.22