本实用新型涉及清洗设备领域，特别涉及一种清洗液循环利用装置。
背景技术：
清洗装置利用清洗液对物体进行清洗去杂，在工作过程中，会有其它物质的进入，清洗液的酸碱度也会发生变化，使得清洗液不达标，通常，人们会将不达标的清洗液排放，更换新的清洗液。然而，不达标的清洗液中仍旧含有大量的清洗剂成分，直接排放使得清洗液不能得到充分的利用，造成清洗液的大量浪费，提高了生产成本。
技术实现要素：
为了克服现有技术的不足，本实用新型的目的在于提供一种清洗液循环利用装置，利用水泵将使用后的清洗液排放至存储桶中处理后并再次使用。
为解决上述问题，本实用新型所采用的技术方案如下：
一种清洗液循环利用装置，包括清洗炉，存储桶，及用于连接清洗炉及存储桶的连接管道，所述存储桶设置在清洗炉上方，所述连接管道上设置有水泵，所述存储桶包括桶体，及设置在桶体内的第一滤网，所述桶体的上端设置有进液口，桶体的下端设置有出液口，所述进液口与连接管道连通，所述第一滤网设置在进液口下方。
进一步地，所述存储桶还包括设置在桶体内的第二滤网，所述第二滤网设置在出液口下方，所述第二滤网沿桶体的桶壁至桶体的中轴线的方向，其高度逐渐降低，所述第二滤网在其最低处开设有通孔。
进一步地，所述桶体下端还设置有排污口，所述排污口设置在第二滤网下方。
进一步地，所述存储桶在桶体上还设置有加料漏斗，所述加料漏斗的上端高于进液口，加料漏斗的下端与第一滤网及出液口之间的桶体连通。
进一步地，所述桶体上设置有液位计。
进一步地，所述清洗炉为超声波清洗炉。
相比现有技术，本实用新型的有益效果在于：本实用新型所述的一种清洗液循环利用装置，利用水泵将使用后的清洗液排放至存储桶中，在存储桶上设置第一滤网、第二滤网及加料漏斗，保证存储桶中的清洗液能够符合使用要求，方便快捷，使得清洗液能够充分利用，节约了生产成本。
附图说明
图1示出了本实用新型所述一种清洗液循环利用装置的示意图。
其中，1为清洗炉，2为存储桶，21为桶体，211为进液口，212为出液口，213为排污口，214为液位计，215为支撑块，22为第一滤网，23为第二滤网，231为通孔，24为加料漏斗，3为连接管道，31为水泵。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细说明。
本实用新型所述的一种清洗液循环利用装置，包括清洗炉1，存储桶2，及用于连接清洗炉1及存储桶2的连接管道3，所述存储桶2设置在清洗炉1上方。所述连接管道3上设置有水泵31，所述连接管道3的一端与清洗炉1连接，另一端与存储桶2连接。
本实施例中，所述清洗炉1为超声波清洗炉，能够利用超声波结合清洗液对物体表面进行快速的清洗，使用完的清洗液通过连接管道3及水泵31被抽送至存储桶2内。
所述存储桶2包括桶体21，及设置在桶体21内的第一滤网22与第二滤网23。所述桶体21的上端设置有进液口211，桶体21的下端设置有出液口212及排污口213。所述进液口211与连接管道3连通，所述出液口212的在桶体21上的位置高于排污口213。所述桶体21的桶壁上设置有液位计214，用于观测桶体21内的液位高度。
所述第一滤网22设置在进液口211下方，优选地，所述桶体21的内壁在进液口211下方凸设有支撑块215，用于支撑第一滤网22。清洗液经过第一滤网22初步过滤后进入存储桶2的下部，清洗液中的杂质停留在第一滤网22的上表面，打开存储桶2能够取出第一滤网22，并进行清洗。
所述第二滤网23设置在出液口212及排污口213之间，所述第二滤网23沿桶体21的桶壁至桶体21的中轴线的方向，其高度逐渐降低，所述第二滤网23在其最低处开设有通孔231。清洗液在桶体21内沉淀，其杂质能够沿第二滤网23的上表面通过通孔231滑落至第二滤网23下方的桶体21内；当出液口212出液时，第二滤网23能够防止沉淀的杂质进入出液口212中；第二滤网23下方的杂质能够通过排污口213排出存储桶2。
所述存储桶2在桶体21上还设置有加料漏斗24，所述加料漏斗24的上端高于进液口211，加料漏斗24的下端与第一滤网22及第二滤网23之间的桶体21连通。通过加料漏斗24能够向桶体21内添加处理剂及高浓度清洗液，使得存储桶2内的清洗液符合清洗要求。
工作时，清洗炉1使用过后的清洗液通过连接管道3排至存储桶2中，所述清洗液通过第一滤网22初步过滤，并在桶体21内利用第二滤网23进行沉淀去杂；通过加料漏斗24对桶体21内的清洗液进行处理，使得清洗液符合清洗要求；需要使用时，打开出液口212，使得清洗液排放至清洗炉1中再次使用，使得清洗液能够重复利用。
本实用新型所述的一种清洗液循环利用装置，利用水泵31将使用后的清洗液排放至存储桶2中，在存储桶2上设置第一滤网22、第二滤网23及加料漏斗24，保证存储桶2中的清洗液能够符合使用要求，方便快捷，使得清洗液能够充分利用，节约了生产成本。
对本领域的技术人员来说，可根据以上描述的技术方案以及构思，做出其它各种相应的改变以及形变，而所有的这些改变以及形变都应该属于本实用新型权利要求的保护范围之内。