一种废水连续沉淀装置的制作方法

文档序号:11713465阅读:594来源:国知局
一种废水连续沉淀装置的制作方法

本实用新型涉及废水处理设备技术领域,特别涉及一种废水连续沉淀装置。



背景技术:

在工业生产加工时中一般都会产生废水,企业需将废水进行处理达到排放标准后方可排放。而目前的废水处理池虽然有多级废水处理池依次连通,将前一级废水处理池处理后的废水排入后一级的废水处理池中进行再次处理,但目前这种多级废水处理池结构的设置不是很理想,处理效果较差。如,前一级废水处理池废水出水口与后一级的废水处理池的入水口相距较近,使沉淀不充分,另一面,各废水处理池的底部相平,废水流动时,容易带走正在沉淀的污物,从而影响沉淀效果。



技术实现要素:

本实用新型的目的就是提供一种废水连续沉淀装置,尽可能拉长二级沉淀池的进水口与出水口的距离,使得废水沉淀更充分,另一面,将多个沉淀池集中在一个地方,方便了沉淀池旁边用地的规划使用。

本实用新型的技术问题主要通过下述技术方案得以解决:

一种废水连续沉淀装置,包括呈长方形的一级沉淀池,所述一级沉淀池的其中一条长边端中间处向下设有内缩的矩形缺口Ⅰ,其中位于一级沉淀池长边侧外壁上还设有对应缺口Ⅰ的二级沉淀池,该缺口Ⅰ底端与二级沉淀池底部平齐并与其连通,所述二级沉淀池上对应两侧分别设有三级沉淀池,且二级沉淀池中同侧的两个顶角处均向下设有与对应的三级沉淀池连通的内缩矩形缺口Ⅱ,其中缺口Ⅱ底部与三级沉淀池底部平齐,所述三级沉淀池内设有与泵体连接的排污管,且排污管的底端向上弯曲,所述二级沉淀池顶部与一级沉淀池底部平齐,三级沉淀池顶部与二级沉淀池底部平齐。

优选的,所述一级沉淀池底部沿缺口Ⅰ边沿设置有凸起,且凸起高度为5~10cm。

优选的,所述二级沉淀池底部沿缺口Ⅱ边沿设置有凸起,且凸起高度为5~10cm。

优选的,所述缺口Ⅱ与缺口Ⅰ之间的位置相异。

优选的,所述三级沉淀池中的进水口与对应的排污管之间的位置相异。

本实用新型的有益效果是:本实用新型通过拉长二级沉淀池进水口与出水口的距离,使的废水沉淀更充分,另一面,各分沉淀池的底部设为阶梯状,使底部的废水不易流动时,不易影响沉淀效果,并且将多个沉淀池集中在一个地方,方便了废水池旁边用地的规划使用; 其中凸起能将对应的沉淀池内的沉淀物挡住,使其不会从缺口处流向下一级沉淀池内,而从缺口Ⅰ及缺口Ⅱ内下落的废水也只会冲击位于其底部的液体,当产生的波纹经过对应的缺口侧壁缓冲后扩散到对应的沉淀池内时,波动也会减小,那么将沉淀池底部沉淀物激起的几率也就更小。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图;

图2是图1中A—A方向的剖视图。

图中:1、一级沉淀池、2、缺口Ⅰ,3、二级沉淀池,4、缺口Ⅱ,5、三级沉淀池,6、排污管,7、凸起。

具体实施方式

下面通过实施例,并结合附图1-2,对本实用新型的技术方案作进一步具体的说明。

一种废水连续沉淀装置,包括呈长方形的一级沉淀池1,如图1所示,在一级沉淀池1的前端中间处向下设有内缩的矩形缺口Ⅰ2,同时还在一级沉淀池1前端外壁上还设有对应缺口Ⅰ2的二级沉淀池3,该缺口Ⅰ2底端与二级沉淀池3底部平齐并与其连通,那么就使得一级沉淀池1内的废水能经该缺口Ⅰ2流入二级沉淀池3内,同时在二级沉淀池3上对应两侧分别设有紧贴一级沉淀池1外壁的三级沉淀池5,且二级沉淀池3中同侧的两个顶角处均向下设有与对应的三级沉淀池5连通的内缩矩形缺口Ⅱ4,其中缺口Ⅱ4底部与三级沉淀池5底部平齐,那么就使得二级沉淀池3内的废水能经该缺口Ⅱ4流入三级沉淀池5内,并且从缺口Ⅰ2及缺口Ⅱ4内下落的废水也只会冲击位于其底部的液体,当产生的波纹经过对应筛网缺口侧壁缓冲后扩散到对应的沉淀池内时,波动也会减小,那么将沉淀池底部沉淀物激起的几率也就更小,同时还在三级沉淀池5内设置有与泵体连接的排污管6,为了保证在抽取三级沉淀池5内的废水时,减小排污管6将三级沉淀池5底部沉淀物抽起的几率,我们通过将排污管6的底端向上弯曲的方式实现,如图2所示,二级沉淀池3顶部与一级沉淀池1底部平齐,三级沉淀池5顶部与二级沉淀池3底部平齐,使得一、二、三级沉淀池三者之间形成高低落差。

所述一级沉淀池1底部沿缺口Ⅰ2边沿设置有防止一级沉淀池1内沉淀物流至二级沉淀池3内的凸起7,且凸起7高度为5~10cm。

所述二级沉淀池3底部沿缺口Ⅱ4边沿设置有防止二级沉淀池3内沉淀物流至三级沉淀池5内的凸起7,且凸起7高度为5~10cm。

如图1所示,缺口Ⅱ4与缺口Ⅰ2之间的位置相异,以此延长废水在二级沉淀池3内的停留沉淀时间。

如图1所示,所述三级沉淀池5中的进水口与对应的排污管6之间的位置相异,以此延长废水在三级沉淀池5内的停留沉淀时间。

以上对本实用新型的一个实施例进行了详细说明,但所述内容仅为本实用新型的较佳实施例,不能被认为用于限定本实用新型的实施范围。凡依本实用新型申请范围所作的均等变化与改进等,均应仍归属于本实用新型的专利涵盖范围之内。

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