一种均匀布温及物料高度混合的均质反应釜的制作方法

本实用新型涉及均质反应釜开发领域，尤其涉及一种均匀布温及物料高度混合的均质反应釜。

背景技术：

均质反应釜是一种复杂的化学反应器，广泛应用与发酵、化工、石油生产、生物制药等工业生产过程中，其控制的特征参数直接影响到生产的效率和质量。反应釜的特征参数一般为温度、压力、浓度等，因此如何改善这些参数的控制对反应釜的开发十分重要。

反应釜中的反应通常需要将反应产物搅拌均匀，同时还必须保证反应的温度。一般的反应釜采用搅拌桨搅拌，搅拌桨搅拌时通常会使反应物成漩涡状，搅拌效果无法达到最佳。同时反应釜的保温系统也大多采用保温夹套对釜体进行加热，这样会导致釜内温度不均匀，靠近器壁的温度较高，釜内中间位置温度较低，从而影响产物的质量。

技术实现要素：

本实用新型旨在解决现有技术的不足，而提供一种均匀布温及物料高度混合的均质反应釜。

本实用新型为实现上述目的，采用以下技术方案：

一种均匀布温及物料高度混合的均质反应釜，包括反应釜本体，所述反应釜本体器壁外设有保温夹层，所述保温夹层上设有保温介质入口和保温介质出口，所述反应釜本体内设有搅拌装置，所述搅拌装置上连有旋转轴，所述旋转轴上连有旋转电机，所述旋转电机位于所述反应釜本体顶部，所述反应釜本体外设有进料盘管，所述进料盘管上设有六组进料管，所述六组进料管围绕所述反应釜本体均匀分布并与反应釜本体上部相连通，所述反应釜本体内部在所述搅拌装置下方设有中间带有通孔的气体分布装置，所述气体分布装置包括气体分布板和支撑板，所述气体分布板位于所述支撑板上方且二者之间形成气体容腔，所述气体分布板上设有多组气体通孔，所述支撑板下方连有多组进气管，所述进气管伸出反应釜本体的器壁，所述反应釜本体底部设有出料管，所述出料管贯穿所述气体分布装置中间的通孔且出料管的顶部露出所述气体分布装置的上表面，所述反应釜本体上部设有排气孔，所述排气孔处设有排气阀。

所述搅拌装置包括方形桨叶架，所述方形桨叶架中间设有十字形支撑杆，所述十字形支撑杆的竖直杆上设有多组搅拌桨叶。

所述十字形支撑杆的横向杆与水平方向成45°倾斜角。

本实用新型的有益效果是：本实用新型在传统的反应釜底部设置气体分布装置，通过气体分布装置向反应釜本体内注入高温气体，一方面这些高温气体会在反应釜本体内形成气流搅动，辅助搅拌装置，使反应物搅拌更加充分，另一方面高温气体进入反应物内部，使得反应釜本体内温度保持均匀，使产物的质量得以保证。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型的气体分布板的截面图；

图3为本实用新型进料盘管和进料管的示意图；

图中：1-反应釜本体；2-保温夹层；3-保温介质入口；4-保温介质出口；5-搅拌装置；6-旋转轴；7-旋转电机；8-进料盘管；9-进料管；10-气体分布装置；11-气体分布板；12-支撑板；13-气体通孔；14-进气管；15-出料管；16-排气孔；17-排气阀；

以下将结合本实用新型的实施例参照附图进行详细叙述。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明：

如图1、图2和图3所示，一种均匀布温及物料高度混合的均质反应釜，包括反应釜本体1，所述反应釜本体1器壁外设有保温夹层2，所述保温夹层2上设有保温介质入口3和保温介质出口4，所述反应釜本体1内设有搅拌装置5，所述搅拌装置5上连有旋转轴6，所述旋转轴6上连有旋转电机7，所述旋转电机7位于所述反应釜本体1顶部，所述反应釜本体1外设有进料盘管8，所述进料盘管8上设有六组进料管9，所述六组进料管9围绕所述反应釜本体1均匀分布并与反应釜本体1上部相连通，所述反应釜本体1内部在所述搅拌装置5下方设有中间带有通孔的气体分布装置10，所述气体分布装置10包括气体分布板11和支撑板12，所述气体分布板11位于所述支撑板12上方且二者之间形成气体容腔，所述气体分布板11上设有多组气体通孔13，所述支撑板12下方连有多组进气管14，所述进气管14伸出反应釜本体1的器壁，所述反应釜本体1底部设有出料管15，所述出料管15贯穿所述气体分布装置10中间的通孔且出料管15的顶部露出所述气体分布装置10的上表面，所述反应釜本体1上部设有排气孔16，所述排气孔16处设有排气阀17。

所述搅拌装置5包括方形桨叶架，所述方形桨叶架中间设有十字形支撑杆，所述十字形支撑杆的竖直杆上设有多组搅拌桨叶。

所述十字形支撑杆的横向杆与水平方向成45°倾斜角。

本实用新型在反应釜本体1底部设置气体分布装置10，通过气体分布装置10向反应釜本体1内注入高温气体，一方面这些高温气体会在反应釜本体1内形成气流搅动，辅助搅拌装置5，使反应物搅拌更加充分，另一方面高温气体进入反应物内部，使得反应釜本体1内温度保持均匀，使产物的质量得以保证。本实用新型还设有进料盘管8和均匀分布的进料管9，这样也进一步保证进料时反应物就能尽量均匀分布。

上面结合附图对本实用新型进行了示例性描述，显然本实用新型具体实现并不受上述方式的限制，只要采用了本实用新型的方法构思和技术方案进行的各种改进，或未经改进直接应用于其它场合的，均在本实用新型的保护范围之内。