本实用新型涉及废气处理装置技术领域，更具体地说，它涉及一种废气预处理装置。
背景技术：
公开号为CN106268187A的中国发明专利，公开了一种筛板旋流塔，包括：塔体，塔体包括有进风口以及出风口，塔体自底部向上依次设置有筛板层、旋流板层、填料层以及除雾层，进风口设置于塔体底部侧边，出风口设置于塔体顶部，进风口通过塔体与出风口连通、并形成有气体回路；水路系统包括有过滤水箱、循环泵、喷水装置，过滤水箱、循环泵以及喷水装置通过管路依次连通、并形成有供水回路；喷水装置设置于塔体内部，过滤水箱设置于塔体底部并通过塔体与喷水装置连通、并形成有过滤水回路。
现有的废气处理方法一般直接通过上述旋流塔对废气进行处理，由于旋流塔通过喷水装置以喷淋的方式对废气进行处理，对于含有亲水性较差的废气，例如含有一氧化碳等的废气，其处理效果较差。
技术实现要素：
针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种废气预处理装置，作为旋流塔处理的前序处理设备，配合现有的旋流塔对废气进行处理，从而提高对含有亲水性较差的废气的处理效果。
为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：
一种废气预处理装置，包括用于盛放反应溶液且完成预处理过程的反应容器，与所述反应容器连通的用于输入预处理气体的进气管，以及用于与所述反应容器和后续处理装置连通的排气管；所述进气管沿竖直方向插入反应溶液中，且气体自上而下输入反应溶液中，所述进气管的侧壁设置若干位于反应溶液液面以下的排气孔，所述进气管的末端封闭。
采用上述技术方案，通过在该废气预处理装置内盛放反应溶液，通过进气管伸入液面以下，自上而下通入预处理气体，预处理气体与反应溶液通过强接触进行反应，这样可以使预处理气体中的亲水性较差的成分部分反应，减少亲水性较差成分的总含量，减少后续在旋流塔中处理的气体的亲水性较差成分的含量。
进一步，所述排气孔的孔径为5-7mm。
采用上述技术方案，将排气孔的孔径设置为5-7mm，既保证了出气速率，又使得气体与反应溶液接触的较充分，具有较佳的反应效率。
进一步，所述进气管的末端与所述反应容器的底面之间设置有沉淀物堆积空间。
采用上述技术方案，随着反应过程的进行会生成一些沉淀物，通过在进气管的末端与反应容器底面之间设置沉淀物堆积空间，沉淀物堆积在该沉淀物堆积空间内，不会造成对排气孔的堵塞。
进一步，所述进气管的末端位于反应溶液的液面下24-26cm。
采用上述技术方案，使得气体与反应溶液充分接触，反应效果好。
进一步，所述排气孔均匀分布在距离进气管末端向上11cm的区域内。
采用上述技术方案，将排气孔设置在进气管下端，即最上端的排气孔距离液面有最短有13cm的距离，保证了较充分的反应。
进一步，所述排气孔的最小距离1-2mm。
采用上述技术方案，排气孔的最小距离优选为1-2mm，气泡较小，反应效果好。
进一步，所述进气管的内径90-160mm。
采用上述技术方案，
进一步，预处理气体在所述进气管内的流速为175-225m³/h。
采用上述技术方案，在保证反应充分时，缩短了废气处理时间，提高了效率。
综上所述，本实用新型具有以下有益效果：
1、通过在该废气预处理装置内盛放反应溶液，通过进气管伸入液面以下，自上而下通入预处理气体，预处理气体与反应溶液通过强接触进行反应，这样可以使预处理气体中的亲水性较差的成分部分反应，减少亲水性较差成分的总含量，减少后续在旋流塔中处理的气体的亲水性较差成分的含量；
2、随着反应过程的进行会生成一些沉淀物，通过在进气管的末端与反应容器底面之间设置沉淀物堆积空间，沉淀物堆积在该沉淀物堆积空间内，不会造成对排气孔的堵塞。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简要地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
图1为本实用新型实施例一中的一种废气预处理装置的结构示意图；
图2为本实用新型实施例二中的一种废气预处理装置的结构示意图。
附图标记：100、反应容器；101、进气管；102、排气管；103、沉淀物堆积空间；110、反应溶液；111、清理口；112、密封门；113、排气孔；114、进气总管。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的技术方案做详细说明。
为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而，示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位)，并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。
实施例一
一种废气预处理装置，参见图1，包括用于盛放反应溶液110且完成预处理过程的反应容器100，与反应容器100连通的用于输入预处理气体的进气管101，以及用于与反应容器100和后续处理装置（如旋流塔）连通的排气管102；进气管101沿竖直方向插入反应溶液110中，且气体自上而下输入反应溶液110中，进气管101的侧壁设置若干位于反应溶液110液面以下的排气孔113，进气管101的末端（图1中的下端）封闭。
上述反应溶液110例如可以为硝酸，硝酸具有强氧化性，可以将亲水性差的一氧化碳氧化成亲水性强的二氧化碳。
工作时，通过在该废气预处理装置内盛放反应溶液110，通过进气管101伸入液面以下，自上而下通入预处理气体，预处理气体与反应溶液110通过强接触进行反应，这样可以使预处理气体中的亲水性较差的成分部分反应，减少亲水性较差成分的总含量，减少后续在旋流塔中处理的气体的亲水性较差成分的含量。
随着反应过程的进行会生成一些沉淀物，为此，进气管101的末端与反应容器100的底面之间设置有沉淀物堆积空间103，沉淀物堆积空间103用于堆积沉淀物，反应容器100底部设置有用于清理沉淀物的清理口111，该清理口111通过密封门112密封；通过在进气管101的末端与反应容器100底面之间设置沉淀物堆积空间103，沉淀物堆积在该沉淀物堆积空间103内，不会由于沉淀物造成对排气孔113的堵塞。
进气管101的末端位于反应溶液110的液面下24-26cm，即图1中AB的距离为24-26cm，使得气体与反应溶液110充分接触；排气孔113均匀分布在距离进气管101末端向上11cm的区域内，即图1中CD的距离为11cm，将排气孔113设置在进气管101下端，即最上端的排气孔113距离液面有最短有13cm的距离，保证了较充分的反应。
进一步，排气孔113的孔径为5-7mm。排气孔113的最小距离1-2mm，即图1中EF的距离为1-2mm。将排气孔113的孔径设置为5-7mm，既保证了出气速率，又使得气体与反应溶液110接触的较充分，具有较佳的反应效率，排气孔113的最小距离优选为1-2mm，气泡较小，反应效果好。
通过设置合适的进气管101内径和合适的气体流速，使得气体从排气孔113排出后在反应溶液110中移动合适的距离，进气管101的内径90-160mm，预处理气体在进气管101内的流速为175-225m³/h，在保证反应充分时，缩短了废气处理时间，提高了效率。
实施例二
本实施例提供的一种废气预处理装置，参见图2，其与实施例一的区别在于，进气管101设置有3个，且均匀分布在反应容器100内，3个进气管101汇集成进气总管114，通过在反应容器100内均匀设置多个进气管101，使气体和反应溶液110混合的更加充分。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。