传感器及其制造方法与流程

文档序号:13698258阅读:来源:国知局
技术特征:
1.一种传感器,包括:基板;第一固定电极,其被布置在所述基板上;可动电极,其被布置在所述第一固定电极之上,并且是能非平行地移动的;第二固定电极,其被布置在所述可动电极之上;以及检测器,其用以检测第一电容与第二电容之间的差,其中,所述第一电容是所述第一固定电极与所述可动电极之间的电容,所述第二电容是所述可动电极与所述第二固定电极之间的电容。2.根据权利要求1所述的传感器,其中,所述第二固定电极包含通孔。3.根据权利要求2所述的传感器,还包含被提供在所述第二固定电极上的第一膜。4.根据权利要求3所述的传感器,其中,所述第一膜面向所述第二固定电极的所述通孔。5.根据权利要求3所述的传感器,还包括被布置在所述第二固定电极之上并且包含通孔的层,并且其中,所述第一膜被提供在所述层上。6.根据权利要求5所述的传感器,其中,所述第一膜面向所述层的所述通孔。7.根据权利要求2所述的传感器,还包括被提供在所述第一膜上的第二膜,并且其中,与所述第一膜相比,所述第二膜具有较低的气体渗透率。8.根据权利要求7所述的传感器,其中,所述第二膜包括氮化硅膜。9.根据权利要求1所述的传感器,其中,在所述第一固定电极与所述基板之间存在空腔。10.根据权利要求9所述的传感器,其中,所述第一固定电极包含连接到所述空腔的通孔。11.根据权利要求1所述的传感器,其中,所述第一固定电极、所述可动电极以及所述第二固定电极是梳子形状的。12.根据权利要求1所述的传感器,其中,所述可动电极能根据在垂直于所述基板的方向上的惯性力的变化而在向上或向下的方向上移动。13.根据权利要求12所述的传感器,还包括能根据在水平于所述基板的方向上的惯性力的变化而移动的电极。14.根据权利要求12所述的传感器,还包括能根据在水平于所述基板的第一方向上的惯性力的变化而移动的电极、以及能根据在水平于所述基板并正交于所述第一方向的第二方向上的惯性力的变化而移动的电极。15.根据权利要求13所述的传感器,其中,所述电极和所述可动电极被布置在相同的层中。16.根据权利要求1所述的传感器,还包括连接到所述可动电极的上表面的覆盖层,所述覆盖层和所述基板构成空腔,所述第一固定电极、所述可动电极以及所述第二固定电极被包含在所述空腔中。17.根据权利要求16所述的传感器,其中,所述覆盖层根据外部空气的压力的变化而变形,并且所述可动电极能根据所述覆盖层的所述变型而在向上或向下的方向上移动。18.一种用于制造传感器的方法,包括:通过对第一导电层进行图案化来形成包括第一固定电极的第一层;在第一层上形成覆盖所述第一固定电极的第一牺牲膜;在所述第一牺牲膜上形成第二导电层;通过对所述第二导电层进行图案化来形成包括可动电极的第二层;形成覆盖所述可动电极的第二牺牲膜;在所述第二牺牲膜上形成第三导电层;通过对所述第三导电层进行图案化来形成包括第二固定电极的第三层,所述第二固定电极包含到达所述第二牺牲膜的通孔;并且通过所述第二固定电极的所述通孔去除所述第一牺牲膜和所述第二牺牲膜。19.根据权利要求18所述的方法,其中,所述第一导电层、所述第二导电层和所述第三导电层包括SiGe层,并且所述第一牺牲膜和所述第二牺牲膜包括二氧化硅膜。20.根据权利要求18所述的方法,还包括在所述第二固定电极上形成第一膜。21.根据权利要求18所述的方法,还包括:在形成包括所述第二固定电极的所述第三层之后并在去除所述第一牺牲膜和所述第二牺牲膜之前,形成覆盖所述第二固定电极的第三牺牲膜并在所述第三牺牲膜上形成第四层,所述第四层包括到达所述第三牺牲膜的通孔,其中,通过所述第二固定电极的所述通孔对所述第一牺牲膜和所述第二牺牲膜的所述去除还通过所述第四层的所述通孔去除所述第三牺牲膜。22.根据权利要求21所述的方法,还包括在所述第四层上形成第一膜。23.根据权利要求20所述的方法,还包括在所述第一膜上形成第二膜。24.根据权利要求18所述的方法,其中,所述基板包括检测器,所述检测器用以检测第一电容与第二电容之间的差,其中,所述第一电容是所述第一固定电极与所述可动电极之间的电容,所述第二电容是所述可动电极与所述第二固定电极之间的电容。
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