一种异形密封装置制造方法

文档序号:5709703阅读:236来源:国知局
一种异形密封装置制造方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种异形密封装置,包括密封圈体,所述密封圈体的上端面为圆弧面,在密封圈体的两侧设有凸台,所述密封圈体与凸台一体成型,所述凸台与密封圈体之间形成容置槽,所述容置槽内放置有密封挡圈,所述密封挡圈的上顶面与圆弧面的顶端齐平。本实用新型创造性地将密封挡圈与密封圈结合起来使用,能够有效地提高密封效果,防止密封挡圈与密封圈之间发生偏移,提高密封装置的使用寿命,同时避免出现干摩擦。
【专利说明】一种异形密封装置

【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及密封【技术领域】,尤其涉及一种异形密封装置。

【背景技术】
[0002] 密封的作用就是使接合面的间隙封住、隔离或切断泄露通道,增加泄露通道中的 阻力,以减少或阻止泄露。在一定压力下完全阻断泄露是可以做到的,这将导致运动副处于 干摩擦状态,使得摩擦力过大。按照密封偶合件在机器运转中有无相对运动,将密封分为静 密封和动密封,目前的密封圈都是单独使用,在一定程度上易造成密封失效,使得密封效果 变差,密封性能降低。 实用新型内容
[0003] 本实用新型为了克服现有技术中的不足,提供了一种异形密封装置,能够有效地 提高密封效果。
[0004] 本实用新型是通过以下技术方案实现:一种异形密封装置,包括密封圈体,所述密 封圈体的上端面为圆弧面,在密封圈体的两侧设有凸台,所述凸台与密封圈体之间形成容 置槽,所述容置槽内放置有密封挡圈。
[0005] 作为本实用新型的优选技术方案,所述密封圈体与凸台一体成型。
[0006] 作为本实用新型的优选技术方案,所述密封挡圈的上顶面与圆弧面的顶端齐平。
[0007] 作为本实用新型的优选技术方案,所述密封挡圈的上顶面与凸台的上顶面之差d 为 5mm η
[0008] 与现有的技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型创造性地将密封挡圈 与密封圈结合起来使用,能够有效地提高密封效果,防止密封挡圈与密封圈之间发生偏移, 提高密封装置的使用寿命,同时避免出现干摩擦。

【专利附图】

【附图说明】
[0009] 图1为本实用新型的结构示意图。
[0010] 图中:1-密封圈体;2-凸台;3-容置槽;4-密封挡圈;10-圆弧面。

【具体实施方式】
[0011] 为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施 例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释 本实用新型,并不用于限定本实用新型。
[0012] 请参阅图1,图1为本实用新型的结构示意图。
[0013] 所述一种异形密封装置,包括密封圈体1,所述密封圈体1的上端面为圆弧面10, 在密封圈体1的两侧设有凸台2,所述密封圈体1与凸台2 -体成型。
[0014] 所述凸台2与密封圈体1之间形成容置槽3,所述容置槽3内放置有密封挡圈4, 所述密封挡圈4的上顶面与圆弧面10的顶端齐平,所述密封挡圈4的上顶面与凸台2的上 顶面之差d为5_。通过将密封挡圈与密封圈结合起来使用,能够有效地提高密封效果,防 止密封挡圈与密封圈之间发生偏移,提高密封装置的使用寿命,同时避免出现干摩擦。
[0015] 以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本 实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型 的保护范围之内。
【权利要求】
1. 一种异形密封装置,其特征在于:包括密封圈体(1),所述密封圈体(1)的上端面为 圆弧面(10),在密封圈体(1)的两侧设有凸台(2),所述凸台(2)与密封圈体(1)之间形成 容置槽(3),所述容置槽(3)内放置有密封挡圈(4)。
2. 根据权利要求1所述的一种异形密封装置,其特征在于:所述密封圈体(1)与凸台 (2) -体成型。
3. 根据权利要求1所述的一种异形密封装置,其特征在于:所述密封挡圈(4)的上顶面 与圆弧面(10)的顶端齐平。
4. 根据权利要求3所述的一种异形密封装置,其特征在于:所述密封挡圈(4)的上顶面 与凸台(2)的上顶面之差d为5mm。
【文档编号】F16J15/00GK203847688SQ201420257791
【公开日】2014年9月24日 申请日期:2014年5月20日 优先权日:2014年5月20日
【发明者】赖华清, 蒋建卫 申请人:常州信息职业技术学院
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