1.一种接触密封结构，其特征在于，包括第一密封法兰及环形密封件，其中，所述第一密封法兰上设有至少一个第一穿孔，所述环形密封件对应地连接在所述第一穿孔处，所述环形密封件设有形变空腔，所述形变空腔侧壁内侧设有密封部，所述密封部与插入到其内的操作器械形成接触密封。
2.根据权利要求1所述的接触密封结构，其特征在于，所述环形密封件包括环形内衬及密封外套，所述环形内衬的侧壁朝向环形密封件的轴线凹陷，所述密封外套整体套住所述环形内衬，所述环形内衬的凹陷区域与所述密封外套密封地围成所述形变空腔。
3.根据权利要求2所述的接触密封结构，其特征在于，还包括设置于所述环形密封件底部的第二密封法兰，所述环形内衬一体连接于所述第一密封法兰及第二密封法兰之间，所述密封外套设于所述第一密封法兰及第二密封法兰之间，所述第二密封法兰上设有与所述形变空腔连通的第一进气通道。
4.根据权利要求2或3所述的接触密封结构，其特征在于，所述环形内衬包括朝向所述环形密封件轴线倾斜的上倾斜壁、背离所述环形密封件轴线倾斜的下倾斜壁，所述密封部设置在所述上倾斜壁及下倾斜壁之间。
5.根据权利要求2或3所述的接触密封结构，其特征在于，所述环形内衬的侧壁朝环形密封件的轴线呈弧形凹陷。
6.根据权利要求1所述的接触密封结构，其特征在于，所述环形密封件为环形气囊，所述密封部设置在所述环形气囊的内侧。
7.根据权利要求6所述的接触密封结构，其特征在于，所述环形气囊设有第二进气通道。
8.一种密封组件，其特征在于，包括下壳体、盖设在所述下壳体的上部开口上的上盖以及如权利要求1至7任一项所述的接触密封结构，其中，所述接触密封结构设于所述上盖内，所述上盖在与每个第一穿孔相对应的位置均设置一个第三穿孔。
9.根据权利要求8所述的密封组件，其特征在于，还包括设置于所述下壳体内的防回流密封结构，所述防回流密封结构位于所述环形密封件的正下方。
10.根据权利要求9所述的密封组件，其特征在于，所述防回流密封结构包括至少两片向所述防回流密封结构轴线方向向下倾斜的柔性密封片，相邻的两片柔性密封片对接的位置形成有至少一道密封缝。
11.根据权利要求10所述的密封组件，其特征在于，所述密封缝构成的形状为“一”字、“十”字或“Y”字。
12.根据权利要求9所述的密封组件，其特征在于，所述防回流密封结构包括磁性件及闭孔件，所述磁性件的中心设有轴线与所述环形密封件的轴线重合的第三穿孔，所述闭孔件被吸附密封住所述第三穿孔。
13.一种戳卡，其特征在于，包括戳卡管及如权利要求8至12任一项所述的密封组件，所述下壳体的下部设有安装孔，所述戳卡管的上端插接于所述安装孔内。