全自动医疗分析仪及其吸附装置的制作方法

本发明涉及医疗分析仪技术领域，尤其涉及一种全自动医疗分析仪及其吸附装置。

背景技术：

在全自动医疗分析仪中，通常需要对反应容器中的反应液体进行清洗。反应液体中的用作药物载体的磁微粒可重复利用，因此，在清洗反应容器时需要保留磁微粒。

目前，全自动医疗分析仪对反应容器采用旋转式清洗的方式，将反应容器依次排布在转盘上，距离转盘一定位置处设一用于吸附磁微粒的磁体。而距离磁体越远，磁感应强度越小，磁体的吸附力也就越小。磁体与反应容器间存在一定的间隙，使得磁体对磁微粒的吸附力不足，从而导致磁微粒在清洗的过程中容易被洗涤针带走，磁微粒的损失率偏高。

技术实现要素：

基于此，有必要提供一种能够降低磁微粒损失率的全自动医疗分析仪及其吸附装置。

一种吸附装置，用于吸附反应容器中的磁微粒，包括：

磁体；以及

伸缩结构，与所述磁体连接，且能带动所述磁体与所述反应容器贴合。

在其中一个实施例中，还包括转盘，所述转盘上设有多个用于放置所述反应容器的安装槽，所述安装槽沿所述转盘的周向排布，且所述安装槽与所述磁体及所述伸缩结构一一对应设置，所述转盘内设有容置腔，所述容置腔与所述安装槽连通，所述磁体及所述伸缩结构置于所述容置腔内，所述伸缩结构带动所述磁体沿所述转盘的径向靠近或远离所述安装槽。

在其中一个实施例中，所述伸缩结构包括滑块及弹性件，所述滑块与所述磁体连接，所述弹性件的一端与所述滑块连接，另一端与所述转盘的内壁连接，所述安装槽、所述磁体、所述滑块与所述弹性件沿所述转盘的径向依次排布。

在其中一个实施例中，还包括抵接构件，所述抵接构件与所述伸缩结构之间能实现相对转动，所述抵接构件包括支撑柱及滚轮，所述支撑柱固设于所述转盘的底部，与所述磁体相对，所述滚轮套设于所述支撑柱上，且位于所述容置腔内；

所述滑块的底部凸设有弧形块，所述弧形块朝向所述安装槽凸起；

当所述抵接构件与所述伸缩结构相对转动时，所述滚轮能与所述弧形块抵接，并推动所述滑块沿所述转盘的径向远离所述安装槽。

在其中一个实施例中，所述转盘包括外盘、内盘及轴承，所述外盘的中部与所述轴承的外圈连接，所述内盘套设于所述外盘内，且与所述轴承的内圈连接；

所述安装槽间隔排布在所述内盘上，所述外盘与所述内盘围合形成所述容置腔，所述伸缩结构与所述内盘连接，所述抵接构件与所述外盘连接。

在其中一个实施例中，还包括底板及支脚，所述底板用于承载所述转盘，所述支脚的一端与所述底板连接，另一端与所述外盘固定连接。

在其中一个实施例中，还包括转轴及驱动装置，所述转轴穿设于所述内盘的中部，所述驱动装置安装于所述底板上，且与所述转轴连接，用于驱动所述转轴转动。

在其中一个实施例中，所述驱动装置为电机。

在其中一个实施例中，所述弹性件为弹簧，所述弹簧位于所述滑块及所述转盘的内壁之间的长度小于等于所述弹簧不受外力作用下的长度。

一种全自动医疗分析仪，包括孵育单元、转移单元及清洗单元，所述转移单元用于将反应容器在所述孵育单元与所述清洗单元之间转移，所述清洗单元包括控制台、清洗臂及上述任一种吸附装置，所述控制台与所述清洗臂连接，用于控制所述清洗臂升降，所述清洗臂与所述吸附装置相对设置，且能靠近或远离所述吸附装置。

上述的全自动医疗分析仪及其吸附装置，磁体能够与反应容器贴合，消除了传统装置的磁体与反应容器间的间隙，保证了反应容器位于磁体产生的最强的磁场区域内，从而在清洗反应液体的过程中，磁微粒能够被紧紧的吸附在反应容器的内壁上而不会被洗涤针带走，大大降低了磁微粒的损失率。

附图说明

图1为一实施方式的全自动医疗分析仪的结构示意图；

图2为图1的清洗单元的结构示意图；

图3为图2的局部截面示意图；

图4为图2的部分机构示意图。

具体实施方式

下面结合附图及具体实施例对清洗单元及其吸附装置做进一步说明。

同时参考图1及图2，一实施方式的全自动医疗分析仪10包括孵育单元20、转移单元30及清洗单元40。当位于孵育单元20上的反应容器12中的液体反应完全后，转移单元30便会将反应容器12转移到清洗单元40上，由清洗单元40对反应容器12中的液体进行清洗。转移单元30也能将位于清洗单元40上的经清洗后的反应容器12转移到孵育单元20上。其中，反应液体中用作药物载体的磁微粒可重复利用，因此，在清洗时通常需要保留磁微粒。

清洗单元40包括控制台50、清洗臂60及吸附装置70。控制台50与清洗臂60连接，用于控制清洗臂60升降。具体的，控制台50上设有导轨52，清洗臂60上设有滑块62，滑块62与导轨52连接，并能沿导轨52滑动。清洗臂60呈弧形，与吸附装置70相对设置，在控制台50的作用下能靠近或远离吸附装置70。清洗臂60上设有洗涤针64，洗涤针64用于插入反应容器12中对反应液体进行清洗。

如图3所示，吸附装置70用于吸附反应容器12中的磁微粒，包括磁体100以及伸缩结构200。伸缩结构200与磁体100连接，能带动磁体100与反应容器12贴合。在本实施方式中，磁体100选用磁铁。

目前，全自动医疗分析仪在对反应容器清洗时，会在距离反应容器一定位置处设一用于吸附磁微粒的磁体。而距离磁体越远，磁感应强度越小，磁体的吸附力也就越小。磁体与反应容器间存在一定的间隙，使得磁体对磁微粒的吸附力不足，从而导致磁微粒在清洗的过程中容易被洗液针带走，磁微粒的损失率偏高。

而本实施方式的吸附装置，磁体能够与反应容器贴合，消除了传统装置的磁体与反应容器间的间隙，保证了反应容器位于磁体产生的最强的磁场区域内，从而在清洗反应液体的过程中，磁微粒能够被紧紧的吸附在反应容器的内壁上而不会被洗涤针带走，大大降低了磁微粒的损失率。

如图2及图3所示，吸附装置70还包括转盘300。转盘300上设有多个用于放置反应容器12的安装槽310，安装槽310沿转盘300的周向排布，且安装槽310与磁体100及伸缩结构200一一对应设置，即，每一安装槽310旁都设有一个磁体100及伸缩结构200。转盘300内设有容置腔320，容置腔320与安装槽310连通。磁体100及伸缩结构200置于容置腔330内，伸缩结构200带动磁体100沿转盘300的径向靠近或远离安装槽310。

伸缩结构200包括滑块210及弹性件220。滑块210与磁体100连接，弹性件220的一端与滑块210连接，另一端与转盘300的内壁连接。安装槽310、磁体100、滑块210与弹性件220沿转盘300的径向依次排布。在本实施方式中，弹性件220比安装槽310更靠近转盘的旋转中心。可以理解，在其他实施方式中，也可以反向排布各元件，即，安装槽310可以比弹性件220更靠近转盘的旋转中心。

另，在本实施方式中，弹性件220为弹簧，可以为拉伸弹簧，也可以为压缩弹簧。而且，弹簧220位于滑块210及转盘300的内壁之间的长度小于等于弹簧220不受外力作用下的长度。即，当向安装槽310内放入空的反应容器时，磁体100与反应容器也是贴合的。

如图3及图4所示，吸附装置70还包括抵接构件400。抵接构件400与伸缩结构200之间能实现相对转动。抵接构件400包括支撑柱410及滚轮420。支撑柱410固设于转盘300的底部，与磁体100相对。滚轮420套设于支撑柱410上，且位于容置腔320内。

滑块210的底部凸设有弧形块212，弧形块212朝向安装槽310凸起。

当抵接构件400与伸缩结构200相对转动时，滚轮420能与弧形块212抵接，并推动滑块210沿转盘300的径向远离安装槽310，减小磁微粒与磁体100之间的磁吸力，从而反应容器12能被轻松拔出。

因此，抵接构件400的作用是在清洗完反应液体后，将磁体100与反应容器12分离，以便转移单元30将反应容器12转移至孵育单元20或其他设备上去。

在本实施方式中，如图4所示，抵接构件400共设有4个，间隔排布在转盘300上。可以理解，在其他实施方式中，抵接构件400的数目还可以为1个、2个、3个、5个或者更多。抵接构件400的数目以及安装位置可以根据实际情况而定。

同时参考图2、图3及图4，转盘300包括外盘330、内盘340及轴承350。外盘330的中部与轴承350的外圈连接，内盘340套设于外盘330内，且与轴承350的内圈连接。

安装槽310间隔排布在内盘340上，外盘330与内盘340围合形成容置腔320，伸缩结构200与内盘340连接，抵接构件400通过螺钉430固定在外盘330上。

如图2所示，吸附装置70还包括底板500及支脚600。底板500用于承载转盘300。支脚600的一端与底板500连接，另一端与外盘330固定连接。即，外盘330为固定盘，不转动。支脚600共设有3个，以使整个吸附装置70更为稳固。

吸附装置70还包括转轴700及驱动装置800。转轴700穿设于内盘340的中部，驱动装置800安装于底板500上，且与转轴700连接，用于驱动转轴700转动。在本实施方式中，转轴700的一端穿设在内盘340上，另一端与底板500通过轴承连接。驱动装置800选用电机，电机驱动转轴700转动时，与之连接的内盘340也会一起转动。

在本实施方式中，当转移单元30将孵育单元20上的反应容器12转移至清洗单元40上后，反应容器12会随着内盘340一起转动。当反应容器12转至洗涤针64正下方时，内盘340停止转动，控制台50会控制清洗臂60沿导轨52下降，直至洗涤针64插入反应容器12中为止。此时，磁体100贴合在反应容器12上，吸附反应液体中的磁微粒。在清洗完成后，控制台50会控制清洗臂60沿导轨52上升，洗涤针64离开反应容器12。当清洗过的反应容器12转至抵接构件400处时，滑块210上的弧形块212会与滚轮420抵接，在滚轮420的挤压下，滑块210朝内盘340的中心滑动，带动磁体100远离反应容器12，此时，转移单元30可以将反应容器12从安装槽310中取出。而且，这时的弹簧220处于压缩状态。当内盘340继续转动，伸缩结构200离开抵接构件400后，滑块210在弹簧220的作用下，带动磁体100沿内盘340的径向朝安装槽310移动。伸缩结构200伸长，恢复至能与反应容器12贴合的状态。

如图2所示，清洗臂60上还设有激发液针66。激发液针66用于向反应容器12中注入激发液。在磁体100离开反应容器12后，可以让激发液针66插入反应容器12中向里面注射激发液。

另，在其他实施方式中，还可以用独立的电机或者电磁体对磁体进行单独驱动。电机或者电磁体直接驱动磁体向反应容器12靠近或者远离。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。