磁环表面缺陷提取方法与流程

技术特征：

1.一种磁环表面缺陷提取方法，其特征是，包括如下步骤：

(1-1)利用OTSU分割磁环图像S(X，Y)，得到磁环二值图像B(X，Y)，将B(X，Y)和S(X，Y)进行与运算，得到屏蔽背景图像F(X，Y)；

(1-2)利用Canny算法提取磁环图像F(X，Y)的边缘检测图像Q(X，Y)：

(1-3)将Q(X，Y)转换为数字形态学运算图像Q_x(X，Y)；

(1-4)对Q_x(X，Y)内部连通区域进行填充，得到掩模图像Q_m(X，Y)；

(1-5)将Q_m(X，Y)和Q_x(X，Y)进行异或运算，得到缺陷连通域图像Q′(X，Y)。

2.根据权利要求1所述的磁环表面缺陷提取方法，其特征是，步骤(1-2)包括如下步骤：

利用公式G(X，Y)＝H(X，Y，σ)*F(X，Y)对F(X，Y)进行降噪处理，得到平滑后的图像G(X，Y)；

其中，H(X，Y，σ)为高斯滤波函数，σ为高斯滤波函数的标准差，σ为0.1至0.5；

利用公式计算图像G(X，Y)的梯度幅值T[X，Y]；

利用公式θ[X，Y]＝arctan(G_X(X，Y)/G_Y(X，Y))计算图像G(X，Y)的方向角θ[X，Y]；

其中，

G_x＝[F(X+1，Y)-F(X，Y)+F(X+1，Y+1)-F(X，Y+1)]/2

G_y＝[F(X，Y+1)-F(X，Y)+F(X+1，Y+1)-F(X+1，Y)]/2.

利用插值对梯度幅值T(X，Y)进行非极大值抑制：将非极大值抑制后的图像G(X，Y)中最大的像素值记为L_max，统计非极大值抑制后的图像G(X，Y)中1-L_max各灰度级的像素个数，并按灰度级大小进行排列，设定1-L_max各灰度级像素总数为Hist；

设定C×Hist(0＜C＜1)的灰度值为L，则利用公式TH_H＝L+1计算高阈值TH_H，利用公式TH_L＝0.3*TH_H计算低阈值TH_L；得到边缘检测图像Q(X，Y)。

3.根据权利要求1所述的磁环表面缺陷提取方法，其特征是，步骤(1-3)包括如下步骤：

利用公式计算并得到Q(X，Y)的数字形态学运算图像Q_x(X，Y)；

其中，H为腐蚀和膨胀结构元素，表示膨胀，Θ表示腐蚀。

4.根据权利要求1或2或3所述的磁环表面缺陷提取方法，其特征是，步骤(1-4)包括如下步骤：

在Q_x(X，Y)中查找所有连通域N′_i，设定连通域N′_i中的每个像素的像素值均为255，得到掩模图像Q_m(X，Y)，其中i为连通域的序号。