本实用新型涉及中子束流试验设备技术领域，具体来说，涉及一种微通道板组件处理及测试设备。
背景技术：
中子束流是高能物理研究的重要对象之一，当一个中等能量的质子打到重核（钨、汞等元素）之后会导致重核的不稳定而“蒸发”出20-30个中子，这样重核“裂开”并向各个方向“发散”出相当多的中子，大大提高了中子的产生效率，按这种原理工作的装置称为散裂中子源。散裂中子源引出中子束流，可以应用于医疗、中子成像、中子衍射分析等领域。
中子束分析实验需要超高真空环境，需要创造一个超高真空环境完成。
技术实现要素：
本实用新型的目的是提供一种微通道板组件处理及测试设备，以克服目前现有技术存在的上述不足。
为实现上述技术目的，本实用新型的技术方案是这样实现的：
一种微通道板组件处理及测试设备，包括依次连接的预真空室、真空烘烤室、电子清刷及测试室、真空过渡室及出样室，所述的预真空室、真空烘烤室、电子清刷及测试室、真空过渡室及出样室形成互相联通的腔体结构，所述的腔体结构内设有样品行走机构，所述的预真空室连接有机械泵和分子泵，所述的电子清刷及测试室连接有溅射离子泵。
进一步的，所述的样品行走机构通信连接有外部控制单元。
进一步的，所述的真空过渡室连接有机械泵和分子泵。
采用上述技术方案后，本实用新型具有如下的有益效果：本实用新型中抽真空设备采用机械泵、分子泵加离子泵三级真空获得系统，确保系统的真空度达到10-7Pa以上，为中子束分析提供理想的超高真空环境。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
图1是本实用新型实施例的一种微通道板组件处理及测试设备结构示意图；
图中：1、预真空室；2、真空烘烤室；3、电子清刷及测试室；4、真空过渡室；5、出样室；6、机械泵；7、分子泵；8、溅射离子泵。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。
如图1所示，本实用新型实施例所述的一种微通道板组件处理及测试设备，包括预真空室1、真空烘烤室2、电子清刷及测试室3、真空过渡室4及出样室5，所述的预真空室1、真空烘烤室2、电子清刷及测试室3、真空过渡室4及出样室5形成相互连通的腔体结构，所述的腔体结构内设有样品行走机构，所述的预真空室1连接有机械泵6和分子泵7，所述的电子清刷及测试室3连接有溅射离子泵8，所述的样品行走机构通信连接有外部控制机构。
本实用新型测试设备的使用方法如下：1、开启机械泵6对系统进行抽真空，机械泵6开启后不再关闭；2、当环境真空度不在明显变化时，开启分子泵7进行抽真空，开启后不再关闭；3、当真空度达到0.1Pa时，开启分子泵7抽真空，直到真空度达到10-5Pa时，保持分子泵7运转不停止；4、开启离子冲刷设备，对残存在真空腔室内壁表面的残余气体进行离子冲刷，进一步增加腔室真空度，直至真空度达到超高真空10-6Pa或以上水平；5、真空度达到超高真空后，通过外部操作单元控制行走机构运送试验样品在腔体内移动，完成热铟封等操作。
在一具体实施例中，所述的真空过渡室连接有机械泵和分子泵。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。